【課題】処理容器内にて基板が載置されると共に回転する回転テーブルを備えた熱処理装置において、処理容器内の温度分布を推測する技術を提供すること。
【解決手段】回転テーブルの一面側を径方向に沿って繰り返し走査し、複数のスポット領域の温度を測定する放射温度測定部と、回転テーブル上における放射温度測定部の走査領域に割り当てられたアドレスと放射温度測定部の温度測定値とを対応付けた温度データを記憶する記憶部と、回転テーブルを静止させて温度が安定した後、回転テーブルを回転させる間に放射温度測定部により繰り返し回転テーブルの一面側を走査し、回転テーブルの静止時における処理容器内の温度分布を推測するために、回転テーブルの一面側の温度分布をデータ処理部に表示させる制御部と、を備えるように装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】発光手段からの入光による赤外線センサの検知レベルに応じて温度補正の大小を切り替えることで、精度よく温度検知を行なうこと。
【解決手段】調理容器１と、トッププレート２と、誘導磁界を発生させる加熱コイル３と、トッププレート２を介して調理容器１から放射された赤外線を検出する赤外線センサ４と、赤外線センサ４の受光したエネルギより調理容器１の温度を温度情報に換算する温度検知手段５と、温度検知手段５での温度情報により加熱コイルの高周波電流を制御して調理容器１の加熱電力量を制御する加熱制御手段６と、赤外線センサ４の検知部に光が届くようにした発光手段７とを備え、発光手段７の点灯時と消灯時の赤外線センサ４の検知レベル差に応じて、温度検知手段５で得られる温度情報を補正する温度補正手段８を配し、温度補正手段８からの温度補正情報を加熱制御手段６へ入力させること。 （もっと読む）

【課題】電波吸収体の温度をより高精度に制御することができるマイクロ波放射計用高温校正源の温度制御方法を得る。
【解決手段】電波吸収体６２の温度を検出する温度検出装置１０２の検出温度と目標温度との差から、電波吸収体６２を加熱する第１の加熱装置１０１への供給電力量を単位時間ごとに算出する供給電力量算出工程と、算出した供給電力量に応じて、単位時間を複数に分けた区分時間ごとに、第１の加熱装置１０１へ電力が供給される回路を開閉する第１のスイッチ２２を制御するスイッチ制御工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】非接触で容易に、かつ高精度に被加工材の温度測定が可能な炉内の被加工材の温度測定方法を提供する。
【解決手段】加熱炉内の被加工材の温度を放射温度計で測定する方法であって、加熱炉内に存する被加工材の面のうち、加熱炉の抽出口に対向する面に含まれ、温度測定がされるべき部位である測定部位を、加熱炉の炉外に設置された放射温度計により測定するものである。 （もっと読む）

【課題】従来よりもその長さを大幅に短くした導光体付きピンを提供すること。
【解決手段】単線の光ファイバ１７と、先端側に光ファイバ１７の外径よりも僅かに大径に設けられた保持孔１５と、保持孔１５から基端側まで連続してこの保持孔１５よりも大径に設けられた拡径部１６とを有する円筒状の中空軸部１２と、光ファイバ１７を拡径部１６に挿通させるとともにこの光ファイバ１７の先端部を保持孔１５に挿通保持させた状態で光ファイバ１７と中空軸部１２とを一体的に固定するために拡径部１６に基端側を余して充填される耐熱性接着剤１８とを備えた。また、拡径部１６の内面には、光ファイバ１７が受ける圧力に耐熱性接着剤１８が抵抗するように引っ掛かり加工としてねじ加工を施した。 （もっと読む）

【課題】被検物を高温に加熱することなく、被検物の放射率を測定する放射率測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】第１放射エネルギの赤外光を被検物に照射する赤外光照射工程と、前記赤外光を照射された前記被検物からの反射赤外光から第２放射エネルギを測定する測定工程と、前記第２放射エネルギと前記第２放射エネルギとに基づいて前記被検物の放射率を算出する算出工程と、を含む放射率測定方法である。 （もっと読む）

【課題】装置底側に配置した光透過性部材上に異物が載ることを防止した真空処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る真空処理装置は、減圧雰囲気の下で基板に加熱処理を行う減圧加熱処理室１２と、減圧加熱処理室１２内に設けられ、上面側に基板Ｐが載置される基板ホルダー２０と、減圧加熱処理室１２の底側に設けられ、基板ホルダー２０から斜め下方Ｄに放射された放射熱線Ｌを、放射熱線透過性の窓材３２を介して減圧加熱処理室１２の外部に透過させる透過部６０と、透過部６０を透過した放射熱線Ｌを減圧加熱処理室１２の外部で計測する放射温度計３８と、減圧加熱処理室１２内に設けられ、窓材３２への異物の落下を防止する防塵パイプ３４と、を備えている。防塵パイプ３４は、放射温度計３８で温度計測する上で必要な放射熱線Ｌの透過量を確保しつつ、窓材３２の上方を覆う。 （もっと読む）

【課題】レーザプロセスにおいて被処理体の表面温度を的確に測定する。
【解決手段】レーザ光照射により加熱された被処理体表面から発生する放射光を検出する放射光検出部と、放射光を被処理体表面から放射光検出部に導く放射光光学系と、レーザ光で加熱された被処理体に照射する参照光を出力する参照光光源と、参照光を参照光光源から被処理体に導く参照光光学系と、参照光が被処理体で反射した反射光を検出する反射光検出部と、反射光を被処理体から反射光検出部に導く反射光光学系と、放射光検出部と反射光検出部の検出結果を受け、反射光の強度の時間的変化によって被処理体表面が溶融した時点を判定し、溶融時点において放射光を発生する被処理体表面の温度を被処理体の融点に設定し、融点を絶対値基準温度として放射光の強度を温度情報に変換して、加熱された被処理体表面の温度を判定する。 （もっと読む）

【課題】被験者の体温に影響されることなく被験者の放射する赤外線から血中のエチルアルコールを正確に検知して酒気帯びの判定精度を高める。
【解決手段】撮像制御部３８は、被験者１８の赤外線放射光からのエチルアルコールの吸収波長λ１を含む第１波長帯域の受光量Ｖｄ１、第１波長帯域の近傍のエチルアルコールによる吸収率の小さな波長λ２を含む第２波長帯域の受光量Ｖｄ２、第１波長帯域の近傍のエチルアルコールによる吸収率の小さな波長λ３を含む第３波長帯域の受光量Ｖｄ３の各々を検知し、エチルアルコール検出部４０は受光量Ｖｄ１、Ｖｄ２の差分ΔＶｄとしてエチルアルコール含有度を算出し、温度検知部４２は受光量Ｖｄ２、Ｖｄ３から被験者の温度を算出し、判定部はエチルアルコール含有度を検知温度により温度補正して酒気帯び状態であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】放射温度計の故障およびパラメータ設定ミス等を検知できる基板処理装置と基板製造方法を提供する。
【解決手段】基板が配置される処理室と、処理室又は加熱部の温度を検出する第１放射温度計６３０ｂ、第２放射温度計６３０ａ、及び、第３放射温度計６３０ｃと、第１放射温度計による第１検出結果、第２放射温度計による第２検出結果、第３放射温度計による第３検出結果が入力され、加熱部を制御する温度制御部と、を具備し、温度制御部は、第１放射温度計による第１検出結果に基づく温度と第２放射温度計による第２検出結果に基づく温度とを比較し、所定の温度より差が離れていると判断し、かつ、第１放射温度計による第１検出結果に基づく温度と第３放射温度計による第３検出結果に基づく温度とを比較し、所定の温度より差が離れていると判断した場合、第１放射温度計が故障している判断する。 （もっと読む）