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国際特許分類[G01N21/89]の内容

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国際特許分類[G01N21/89]に分類される特許

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【課題】検査完了までに要する時間の増加を抑制しつつ詳細な欠陥レビュー検査を可能にする。
【解決手段】基板検査装置1は、基板WをX方向へ搬送する基板搬送ユニット22と、X方向へ搬送中の基板Wにおける欠陥を検出するラインスキャンカメラ15、ラインスキャンカメラ駆動部115、欠陥検出部121および制御部101と、検出された欠陥の画像を同搬送中に取得するレビューカメラ19、レビューカメラ駆動部119および制御部101と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ステータコアに付着した不要ワニスを容易かつ正確に検知することができる不要ワニス検査装置を提供すること。
【解決手段】ステータコア80に設けたコイル7に電気的絶縁性を維持するためのワニス9を含浸させてなるステータ8における、ステータコア80の表面に付着した不要ワニス99を検知する装置であって、不要ワニス99を励起発光させることが可能な検査光50を、ステータコア80の表面の検査領域に向けて照射する光源5と、ステータコア80の表面の検査領域を撮影するためのカメラ6と、カメラ6を通して採取した画像データを解析して不要ワニス99の付着位置を特定する判定手段45と、検査光50がステータコア80の軸方向端面81から突出したコイルエンド部70に照射されることを防止するためにコイルエンド部70の少なくとも一部を覆うマスク部3とを有する。検査光50は紫外線であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】第1回転ディスクから第2回転ディスクへのワークの移し替えを良好に行える外観検査装置を提供する。
【解決手段】第1回転ディスク11及び第2回転ディスク12の下面外周部分に、各エア吸引穴11b及び12bと外気とを連通する圧力調整穴11d及び12dが個別に設けられているため、エア吸引力が生じている全てのエア吸引穴11b及び12bがワークWによって塞がれても、各エア吸引穴11b及び12bの内圧が減少し引き込み力が増加することを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成でメンテナンスを行なうことができる処理装置および処理装置のメンテナンス方法を提供すること。
【解決手段】ワークWを搬送する搬送ステージ13〜15と、搬送ステージ13〜15上を移動するワークWに所定の処理を施して検査する検査ユニット100と、搬送ステージ13〜15および検査ユニット100を収容する外装16と、を備えたFPD検査装置1であって、外装16に設けられた挿入孔16aを介して外装16の外部から内部に延び、内部側の端部がメンテナンス対象箇所に向けて配設され、搬送ステージ13〜15および検査ユニット100に対するメンテナンスを行なうメンテナンス手段を挿通するメンテナンス管20を備えた。 (もっと読む)


【課題】RGB画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のBMパターン、RGBパターン、PS/VAパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。
【解決手段】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板を製造する工程において、ガラス基板に塗布されたフォトレジストの膜厚ムラを検査する装置であって、ガラス基板を搬送する搬送手段と、前記搬送されるガラス基板を照明する照明手段と、前記照明されたガラス基板を撮像する手段と、撮像された画像を処理する画像処理手段と、前記画像処理された画像に基づいて、ガラス基板の着色画素部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、着色画素部外の素ガラス部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板のムラ検査装置。 (もっと読む)


【課題】箔押し加工で被転写物である印刷物に、転写箔の金属層が転写されているか否かを確実に判定できる箔押し検査機を提供する。
【解決手段】光源より照射された赤外領域が含まれる光を、光学フィルターで赤外領域の特定波長の光に選別して、箔押しされた印刷物に当て、反射した光を集光して、前記印刷物の箔押し部分と箔押しの無い部分とで、反射光の赤外領域の特定波長の減衰が異なることから、箔押し部分の有無を検査することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】追加検査に要される費用及び時間を低減することができ、欠陥流出率が高く現われると予想される原反を自動選別することができる偏光フィルム原反の品質判定システム及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施例による偏光フィルム原反の品質判定システム及び方法は、自動光学検査機の検査結果データを用いて原反品質判定に重要な情報を獲得及びこれを後工程に伝達することにより、不良原反に対する早期警報システムとしての機能を行って、後工程での原反品質別のプロセスを構築できるようにすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】検査対象が木材である場合に、単純な構成でありながら凹凸欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】欠陥検出装置は、第1の照射装置1と、第2の照射装置2と、撮像装置3と、処理装置4とを備える。第1の照射装置1および第2の照射装置2は、検査対象Aである木材の拡散反射性を有する被検査面Bに斜め方向から光を照射する。撮像装置3は、第1の照射装置1および第2の照射装置2から被検査面Bを通った光が入射する。処理装置4は、撮像装置3で撮像された撮像画像を用いて被検査面Bの凹凸に関する欠陥を検出する。第1の照射装置1は、照射角度θ1が撮像装置3の視軸角度θ3と同一である。第2の照射装置2は、照射角度θ2が第1の照射装置1の照射角度θ1より低く設定されている。 (もっと読む)


【課題】低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥(光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】透光性材料からなる板状の基板2を準備する工程と、波長200nm以下の検査光を基板2に照射し、基板2内を透過した透過検査光を板状の蛍光部材8で受光して蛍光に変換し、蛍光の強度分布から基板2の内部欠陥を検出する欠陥検査を行ない、内部欠陥がない基板2を選定する基板欠陥検査工程と、を有するマスクブランク用基板の製造方法、このマスクブランク用基板2の主表面4aにパターン形成用の薄膜42を形成するマスクブランク40の製造方法、及びこのマスクブランクのパターン形成用薄膜42の表面に転写パターンを形成する転写用マスク50の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、被検査物の欠陥を確度よく能率的に検査可能な被検査物の検査方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明の一つの態様は、被検査物を探傷し得られた被検査物画像に基づき被検査物画像データを生成する被検査物画像生成ステップと、同一寸法を有する複数の画像を被検査物画像から抽出するように複数の抽出画像データを含む抽出画像データ群を生成する画像抽出ステップと、抽出画像データ群から一の抽出画像データを選択し、検査画像データとする検査画像選択ステップと、検査画像データとして選択された抽出画像データ以外の抽出画像データのうち二以上の抽出画像データを抽出画像データ群から選択し、その二以上の抽出画像データを平均化処理して基準画像データを生成する基準画像生成ステップと、検査画像データと基準画像データとを比較し欠陥を検出する欠陥検出ステップとを含む被検査物の検査方法である。 (もっと読む)


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