【課題】
本発明の課題は、銅および銅合金薄膜を含む金属積層膜パターンを精度良くエッチング加工し、優れたパターン形状を形成し、かつ実用性に優れた安定で液寿命の長いエッチング液組成物、およびかかるエッチング液組成物を用いたエッチング方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、銅からなる層と、銅を含む銅合金からなる層とを有する金属積層膜を、特定の組成を有する、りん酸、硝酸、酢酸および水を配合してなるエッチング液組成物を用いてエッチングするエッチング方法、およびそのエッチング液組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 誘電率異方性（Δε）が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。 （もっと読む）

【課題】容易に簡素な構成でフリッカー等の表示不具合の発生を抑制して表示品位の向上を図ることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素電極１２を備えた素子基板１０と、素子基板１０に対向配置された、対向電極２２を備えた対向基板２０と、素子基板１０と前記対向基板２０との間に挟持された液晶層３０と、素子基板１０の液晶層３０の側に設けられた第１配向膜１５と、対向基板２０の液晶層３０の側に設けられた第２配向膜２５と、を備え、画素電極１２を構成する材料の仕事関数が、対向電極２２を構成する材料の仕事関数に比べて小さく、第１配向膜１５の密度と第２配向膜２５の密度とが概ね等しく、且つ、第１配向膜１５の厚みｄ１が第２配向膜２５の厚みｄ２よりも厚くなっている。 （もっと読む）

【課題】液晶素子に印加される電圧を異ならせて視野角特性を改善する。
【解決手段】 本発明の一は、一画素に三以上の液晶素子を有し、該液晶素子の各々に印
加される電圧値が異なる液晶表示装置である。各液晶素子に印加される電圧を異ならせる
には、加えた電圧を分圧する素子を配置することにより行う。印加される電圧を異ならせ
るためには、容量素子、抵抗素子、又はトランジスタ等を用いる。 （もっと読む）

【課題】 階調表示と応答性の改善を両立させ、さらに高輝度表示、及び透過表示若しくは反射表示の可能な斜め電界液晶表示装置用のカラーフィルタ基板、及びこのカラーフィルタ基板を備える斜め電界液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 階調表示を行う通常表示と明るいダイナミック表示、透過表示若しくは反射表示が可能な斜め電界液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、透明基板、この透明基板上に形成された透明導電膜、この透明導電膜上に形成された、複数の多角形画素形状の開口部を有するブラックマトリクス、このブラックマトリクスの開口部の中央に形成された第２の透明樹脂層、この透明導電膜上に形成された着色層、及びこの着色層上に形成された第１の透明樹脂層を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能な不揮発性メモリを備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】基板９０１上に画素と不揮発性メモリとを備え、不揮発性メモリは、基板９０１上に形成される半導体活性層と、半導体活性層上に形成される絶縁膜９２３と、絶縁膜９２３上に形成されるフローティングゲイト電極９０７と、フローティングゲイト電極９０７を酸化して得られる酸化膜９０８，９１５，９２２と、酸化膜９０８，９１５，９２２に接して形成されるコントロールゲイト電極９２９と、を備え、画素と不揮発性メモリとは、基板９０１上に一体形成される。 （もっと読む）

【課題】
絶縁基板に所定パターンの半導体膜を形成した際でも、絶縁基板の反りなど変形を抑制した表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】
半導体膜が成膜される絶縁基板を用いた表示装置の製造方法において、前記絶縁基板に半導体膜を成膜する前に、前記半導体膜を形成する領域を取り囲み、前記絶縁基板の平面に沿って凹凸形状を有し、かつ前記半導体膜の膜厚より高い壁構造を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感放射線性組成物の放射線感度を高いレベルに保ちつつ、ラジカルや過酸化物の発生を抑制することで、優れた耐光性及び耐熱性を有し、かつ透過率及び電圧保持率の低下を抑えた層間絶縁膜等を形成可能なポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、［Ｂ］光酸発生体、並びに［Ｃ］ヒンダードフェノール構造を含む化合物、ヒンダードアミン構造を含む化合物、アルキルホスファイト構造を含む化合物、及びチオエーテル構造を含む化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。

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【課題】優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に下記式（１）で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、［Ｂ］光酸発生体、及び［Ｃ］長鎖アルキル基含有化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。
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【課題】搬送により発生するパーティクルが基板へ付着するのを広範囲にわたり低減させ、メンテナンス時、低減させたパーティクルの処理を容易にできる基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理基板をトレイに搭載した状態で、排気可能な処理室の間を、トレイごと搬送しながら処理基板に処理室内で所定の処理を施す基板処理装置であって、トレイの搬送路の下方に、該トレイの搬送路の方向に沿って同じ磁極で向き合う磁性体を配置し、かつ、その上を非磁性材料からなる部材で覆われているパーティクル吸着体が備えられていることを特徴とする。 （もっと読む）