【課題】簡易な手法で良好なフォトレジストパターンを高反射率の膜上に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】段差１６が形成されたＡｌ膜１４上にフォトレジスト膜１８を形成する。そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。１回目のフォトレジストパターン形成工程では、Ａｌ膜１４にまで光が入らない程度の露光量で露光する。２回目又は最終回のフォトレジストパターン形成工程における露光では、薄くなったフォトレジスト膜１８部分を現像により除去できる程度の露光量で行う。この露光ではＡｌ膜１４からの反射による異常露光量が著しく小さいので、異常露光が発生することが回避されている。 （もっと読む）

【課題】 紫外レーザビームの走査を行うことなく、かつレジスト膜の十分なエッチング耐性を確保することができるパターン加工方法を提供する。
【解決手段】 表面上に、第１のレジスト膜と、該第１のレジスト膜とは感光特性の異なる第２のレジスト膜との２層がこの順番に積層された加工対象物を準備する。第２のレジスト膜が感光する波長域の光を用いて該第２のレジスト膜に直接描画して潜像を形成する。第２のレジスト膜を現像する。第１のレジスト膜の上に残った第２のレジスト膜をマスクとして、該第１のレジスト膜が感光する波長域の光を全面に照射して、第１のレジスト膜に潜像を形成する。第１のレジスト膜を現像する。加工対象物の表面上に残っている第１のレジスト膜をマスクとして、加工対象物の表面加工を行う。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れ、高感度、かつ高解像度であり、テント性、パターン形状及び現像性に優れ、エッチング時の剥離性が良好で、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含んでなり、該重合禁止剤が、Ａ）フェノール性水酸基を有する化合物と、Ｂ）フェノール基を有さない化合物とを含み、その質量比Ａ／Ｂが０．０１〜１００であることを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成材料及び方法である。重合禁止剤中のフェノール基を有さない化合物が、イミノ基を有する化合物である態様、重合禁止剤の含有量が、６５〜３００ｐｐｍである態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】アンダーカット形状およびエッジカールの両方が全く存在しない機能性パターンを形成することのできる機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に塗布後にパターン露光と現像によって得られたパターンが焼成されることによって、機能性パターンを形成する機能性パターン形成用感光性樹脂組成物であって、現像後、前記現像パターンの断面形状の基板密着側長（底部長）Ａとパターン上部長Ｂの関係がＡ＜Ｂであり、該現像パターンが、無機粉末の融点より低い温度で焼成後、断面形状が基板密着部から上面に向かって狭幅化する形状に自己形成することを特徴とする機能性パターン形成用感光性樹脂組成物を、用いる。 （もっと読む）

【課題】 保護フィルムの剥離性、現像密着性、耐サンドブラスト性に優れたフォトレジストフィルム及びそれを得るための感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 支持体フィルム、感光性樹脂組成物層及び保護フィルムが順次積層されてなるフォトレジストフィルムであって、（１）保護フィルムの１８０度剥離強度が２０ｇ／ｉｎｃｈ以下、（２）スプレー圧０．０２ＭＰａで最小現像時間の２倍時間の現像を行い、レジストパターンを形成したときの最小密着線幅が６０μｍ以下であること、（３）感光性樹脂組成物層をブラスト加工を行ったときの硬化膜の残膜率が２５％以上であること、を満足するフォトレジストフィルム、及び、重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜３０，０００で、カルボキシル基を有するアクリル系オリゴマー（Ａ）、カルボキシル基を有するジオール系化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＲ吸収性金属層と金属製支持体に挟まれた高品位の感光性樹脂積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも支持体、感光性樹脂層、非ＩＲ感受性高分子樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であり、かつ非ＩＲ感受性高分子樹脂層の厚みが０．１〜２．０μｍ未満であることを特徴とする水現像可能な感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】 感度、現像性が均一で、耐汚れ性が良好な製造方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物と重合開始剤を有機溶媒に溶解させてなる塗布液を調液し、支持体上に塗設してなる感光性平版印刷版の製造方法であって、前記塗布液が調液されてから前記支持体上に塗布されるまでの間の塗布液の溶存酸素含量を、所定量以上に保持することを特徴としている。また、上記感光性平版印刷版の製造方法において、前記所定量は、８．０ｍｇ／ｌであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は感光性シートに関して、複雑な工程を必要とせず、また特殊な露光装置も必要なく高アスペクト比のパターン加工性が得られる感光性シート提供することを課題とする。
【解決手段】感光性有機成分と無機粒子を含みフォトリソグラフィーによるパターン加工可能な感光性シートであって、波長領域３２０〜７８０ｎｍの光において、光を受ける面からシート全体の膜厚に対しシートの厚み方向で１０％部分の光透過率Ｔａと、光を受ける面の反対側の面からシートの全膜厚に対しシートの厚み方向で１０％部分の光透過率Ｔｂが、Ｔｂ＞Ｔａである感光性シート。 （もっと読む）

【課題】 ４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能なパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０〜５００ｎｍである増感剤を少なくとも２種含むことを特徴とするパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いたパタン形成装置及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能で、保護層の剥離性ならびにインキ着肉性に優れた感光性樹脂印刷版原版およびそれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、感熱マスク層（Ｃ）、感熱マスク層に接する面の表面粗さＲａが０．１〜０．６μｍである保護層（Ｅ）をこの順に有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）