【課題】解像度以下の線幅の形成が可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】受ける光量が小さい順に低光量、中間光量、高光量とした場合、低光量及び高光量の露光で現像液に対して不溶（可溶）となり、中間光量の露光で現像液に対して可溶（不溶）となるレジストに対して露光及び現像を行い、レジストにおいて中間光量の露光を受けた部分のみを除去する（残す）。 （もっと読む）

【課題】
簡便な操作で、フォトレジスト樹脂のフォトレジストＬＥＲ・ＬＷＲ特性を評価する方法を提供する。
【解決手段】
１．フォトレジスト樹脂の薄膜の弾性率均一性により、フォトレジスト樹脂の、ラインエッジラフネスおよびラインウィドスラフネス特性を評価することを特徴とする、フォトレジスト樹脂の評価方法；
２．フォトレジスト樹脂の薄膜を原子間力顕微鏡タッピング法で測定し、得られた位相像の特性周期により、フォトレジスト樹脂の、ラインエッジラフネスおよびラインウィドスラフネス特性を評価することを特徴とする、フォトレジスト樹脂の評価方法；
３．フォトレジスト樹脂の薄膜を原子間力顕微鏡タッピング法で測定し、得られた該薄膜の弾性率変動の特性周期によりフォトレジスト樹脂の薄膜の弾性率均一性を評価することを特徴とする、フォトレジスト樹脂の評価方法。 （もっと読む）

本明細書中には三層アプリケーションにおいて使用するための組成物が開示されており、ここで前記組成物は、マトリックスを有しており、そしてポリマーのマトリックスを形成する少なくとも１つのタイプのシリコン系部分、ポリマーのマトリックスに結合した複数のビニル基、及びポリマーのマトリックスに結合した複数のフェニル基を含むポリマー配合物；少なくとも１種の縮合触媒；並びに、少なくとも１種の溶媒；を含む。本明細書中には、さらに、有機基層（第１の層）、反射防止組成物及び／又は本発明にて意図するフィルム（第２の層）、並びに、互いに結合したフォトレジスト材料（第３の層）を含む三層構造物も意図されている。三層パターニング・アプリケーションのための組成物を製造する方法は、ポリマーのマトリックスを形成する少なくとも１つのタイプのシリコン系部分、ポリマーのマトリックスに結合した複数のビニル基、及びポリマーのマトリックスに結合した複数のフェニル基を含むポリマー配合物を供給すること；少なくとも１種の縮合触媒を供給すること；少なくとも１種の溶媒を供給すること；少なくとも１種のｐＨ調整剤を供給すること；前記ポリマー配合物と前記少なくとも１種の溶媒の一部とを反応器中で混合して、反応性混合物を生成させること；並びに、前記少なくとも１種のｐＨ調整剤、前記少なくとも１種の縮合触媒、及び前記少なくとも１種の溶媒の残部を反応混合物中に加えて、組成物を得ること；を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感光性平版印刷版材料用のアルカリ性現像処理廃液の中和処理時のゲル化、スラッジの発生を防止するとともに、現像処理廃液の廃液量を低減したアルカリ性現像処理廃液の処理方法を提供することにある。
【解決手段】感光性平版印刷版材料のアルカリ性現像処理廃液に、炭酸塩および炭酸水素塩の少なくとも１つを添加した後、さらに酸性の溶液を添加して該アルカリ性現像廃液のｐＨを１０．０〜１０．５の範囲とすることを特徴とするアルカリ性現像処理廃液の処理方法。 （もっと読む）

フォトリソグラフィー用２層コート基板製造のための多層リソグラフィー工程において使用するためのエッチング耐性の熱硬化性下層組成物であり、該組成物は（ａ）化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の繰り返し単位を含むポリマー、（ｂ）少なくとも１つの架橋剤、（ｃ）少なくとも１つの熱酸発生剤、および（ｄ）少なくとも１つの溶剤の組成物である。
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【課題】熱により画像を形成し、良好な機上現像性を示し、かつ、より多くの印刷物を得ることができる平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基を有する化合物を含有しているマイクロカプセルからなる感熱層を設け、光熱変換材料を感熱層かその隣接する層に含有していることを特徴とし、該親水性支持体が粗面化処理を行なった後、陽極酸化処理を行なったアルミニウム基板であることが好ましく、該アルミニウム基板がさらにシリケート処理を行なったものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポジ型のフォトレジスト適用下で、ランダム配置のホールパターンを、高裕度で形成することができるパターンの形成方法、電子デバイスの製造方法および電子デバイスを提供する。
【解決手段】被加工膜２上に、密集ホールパターンを有する第１のポジ型フォトレジスト３が形成される。複数のホールパターン３ａの各々を埋め込むように第１のフォトレジスト３上に第２のポジ型フォトレジスト４が形成される。第２のフォトレジスト４に高透過ハーフトーン位相シフトマスク３０の明暗反転像である暗点像が投影露光される。第２のフォトレジスト４の現像により、暗点像部に形成される第２のフォトレジスト４のドットパターンが複数のホールパターンのいずれかの内部に残される。第１、第２のフォトレジスト３、４をマスクとして、被加工膜２がパターニングされる。 （もっと読む）

【課題】 上層部がゲル状あるいは半固形状になる廃液の回収作業を容易化することができる薬液廃液回収システムおよび方法を提供する。
【解決手段】 コータ側廃液タンクＡ１１は、コータ側スピンナーカップ３から排出される第１の薬液を含む粘度４０ｃｐ以上の中高粘度の第１の廃液を貯留する。廃液移し変え用ポンプ１７は、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留する第１の廃液を廃液搬送第１パイプ１８によって吸い出し、吸い出した第１の廃液を廃液搬送第２パイプ１９によってデベロッパ側廃液タンク１２に送給する。デベロッパ側廃液タンク１２は、デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される第２の薬液を含む粘度１０ｃｐ以下の低粘度の第２の廃液を貯留する。コータ側廃液タンクＡ１１からデベロッパ側廃液タンク１２に送給された第１の廃液は、第２の廃液と混合して薄められ、粘度が低くなる。 （もっと読む）

【課題】レジストと反射防止膜の間に設け、レジストとの密着性と耐レジスト現像液性を兼ね備え、更にはレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性の有るレジスト下層用組成物を得る。
【解決手段】シラン化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方と、（Ｂ）紫外光照射および／または加熱により酸を発生する化合物（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホネート）と、（Ｃ）触媒（例えば、マレイン酸）とを含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物である。上記シラン化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン及びテトラフェノキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とするレジスト下層膜用組成物である。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）