【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数の第一のレジストパターン３を形成し、第一のレジストパターン３の表面に、それぞれオキサゾリン基を含有するポリマーを含む被覆膜形成用材料を用いて被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成された第二のレジストパターン７とからなるパターンを支持体１上に形成する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜と水との接触時間が１秒以下の短時間においても精度良く接触面積変化の少ない大面積の水と接触することが可能で、正確にリーチング量を測定するための溶出液体を調整することができる方法および溶出液体調整装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液浸リソグラフィーにおいてフォトレジストのリーチング量を測定するために、測定されるフォトレジストをスピンコートしてフォトレジスト膜を形成した面を下面にした基板を水平保持し、その下方に液体を満たしたシャーレを水平に配置し、基板とシャーレを水平に保持したまま相対的に上下方向に平行移動させ、フォトレジスト膜をシャーレに満たされた液体の表面と一定時間接触させた後、離間させるように相対的に上下方向に平行移動させることによってフォトレジストから液体へ溶出するリーチング量を測定するための溶出液体の調整方法および溶出液体調整装置。 （もっと読む）

【課題】感放射線性樹脂組成物における液中異物発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、及び各種放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本樹脂の評価方法は、フッ素含有重合体を含む樹脂のレジスト溶剤溶液の動的光散乱を測定し、この溶液の一定濃度領域における拡散係数差（ΔＤ）により、樹脂を感放射線性樹脂組成物材料として用いた場合における液中異物発生度合を評価する。本感放射線性樹脂組成物は、フッ素含有重合体を含む樹脂と、レジスト溶剤と、感放射線性酸発生剤とを含有しており、前記樹脂は、濃度２質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ａ）と、濃度８質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ｂ）との拡散係数差［ΔＤ（Ｄ_ｂ−Ｄ_ａ）］が、−２．０×１０^−７ｃｍ^２・ｓ^−１以上である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。
【解決手段】
本発明は、酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を３０〜９０℃において、３０分以上加熱熟成後、細孔径１μｍ以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ等の液晶表示装置において、スペーサ等を形成する際に好適に用いられる感光性組成物であって、特にフォトリソグラフィー法により高さの異なる硬化物を同一材料で同時に形成する場合に、製造安定性に優れた感光性組成物を提供する。
【解決手段】露光量の対数〔ｌｏｇＥ（ｍＪ／ｃｍ^２）〕に対して露光部の残膜率〔ｔ（％）〕をプロットした残膜率−露光量曲線における残膜率の６０％と９０％の点を結ぶ下記式（１）の直線のγ値が１５以上、且つ４５未満であることを特徴とする感光性組成物。ｔ＝γｌｏｇＥ＋δ…（１）［ここで、残膜率ｔ（％）は、ネガマスクパターンを介して画像形成したときに以下で表される。残膜率〔ｔ（％）〕＝｛（各露光量でのパターン高さ）／（露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２でのパターン高さ）｝×１００］ （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）で表される化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｅ、Ｘは水酸基、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上）
Ｍ_aＨ_bＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Ａは上記Ｘ又は非求核性対向イオン）
（Ｃ）有機酸、
（Ｄ）環状エーテルを置換基として有するアルコール、
（Ｅ）有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ−１）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ａ−２）塩基を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）で表される化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｅ、Ｘは水酸基、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上）
Ｍ_aＨ_bＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Ａは上記Ｘ又は非求核性対向イオン）
（Ｃ）有機酸、
（Ｄ）環状エーテルを置換基として有するアルコール、
（Ｅ）有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。 （もっと読む）

【課題】感光性素子から床部上のレリーフ面を有する印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、化学線源のエネルギー密度に対する素子の床部の厚さまたは１つまたは複数のレリーフ画像特性などの硬化応答性を測定することによってステップ露光テストから感光性素子の重合率曲線を作成するステップを含んでいる。この方法は、化学線源に使用されるランプの光強度の変化を考慮に入れたエネルギー密度に基づいて感光性素子を化学線源に露光する。 （もっと読む）

【課題】バリヤ層とマスク層（マスク形成層）とが良好に密着した印刷版用原版およびこれを用いて形成された印刷版を提供する。
【解決手段】本発明の印刷版用原版は、感光層と、該感光層の上に設けられたバリヤ層と、該バリヤ層の上に設けられ、赤外線レーザーを照射することにより除去可能なマスク形成層と、を有し、該バリヤ層および該マスク形成層に含まれるバインダーのうちの、それぞれ５０質量％以上が互いに同種のバインダーであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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