【課題】現像液の活性を正確に評価しうる平版印刷版の現像液評価方法を提供すること。
【解決手段】赤外線感光性平版印刷版原版に使用する現像液を、以下の（Ａ）〜（Ｄ）工程により評価する平版印刷版の現像液評価方法。
（Ａ）ＡＭスクリーン方式による面積率が段階的に異なる複数のＡＭ網点画像と、該複数のＡＭ網点画像の各々に隣接すると共に、直径１０μｍ〜７５μｍの円形ドットを用い、所定の面積率を有するＦＭスクリーン方式によるＦＭ網点画像と、を備える標準画像パターンを、赤外線感光性平版印刷版原版に対して赤外線露光する工程
（Ｂ）（Ａ）による赤外線露光済み版を、標準現像液で現像して標準版を作製する工程
（Ｃ）（Ｂ）とは異なる（Ａ）による赤外線露光済み版を、評価しようとする現像液で現像して対象現像液評価版を作製する工程、
（Ｄ）前記標準版と前記対象現像評価版との網点面積率を比較する工程 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に第一のポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成し、該第一のレジスト膜上に第二のポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、該第一のレジスト膜の最低露光量（Ｅｔｈ_１）よりも小さくかつ該第二のレジスト膜の最低露光量（Ｅｔｈ_２）よりも大きな露光量（Ｄｏｓｅ_２）で、該第二のレジスト膜に対し選択的に露光し、現像して、該第二のレジスト膜からなる粗パターンを形成し、該第一のレジスト膜の最低露光量（Ｅｔｈ_１）よりも大きな露光量（Ｄｏｓｅ_１）で、該第一のレジスト膜に対し、該粗パターンを介して露光し、現像して、該粗パターンを除去すると共に該第一のレジスト膜からなる密パターンを形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の面状故障を低減し、欠陥の発生を抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物を濾過速度０．１ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以上１．０ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以下で第１のフィルターを通して濾過する第１の濾過工程と、前記第１の濾過工程で濾過された前記感光性樹脂組成物を、更に、濾過速度３０ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以上２００ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以下で第２のフィルターを通して濾過する第２の濾過工程と、前記第２の濾過工程で濾過された前記感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程と、を有するカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造において、リソグラフィ寸法より小さい加工寸法を得る。
【解決手段】多層レジストの加工方法は、基板１上に、下層４、中間層５及び上層レジスト６を順次形成する工程（ａ）と、リソグラフィ技術により、上層レジスト６をパターニングして第１の寸法を有する上層開口１６を設ける工程（ｂ）と、上層レジスト６をマスクとして中間層５をドライエッチングすることにより、上層開口１６の下方に、第２の寸法を有する中間層開口１５を形成する工程（ｃ）と、中間層５をマスクとして下層４をドライエッチングすることにより、中間層開口１５の下方に、第３の寸法を有する下層開口１４を形成する工程（ｄ）とを備える。工程（ｃ）において、第２の寸法が上部よりも下部において小さくなる形状に中間層開口１５を形成することにより、工程（ｄ）において、第３の寸法を第１の寸法よりも小さくする。 （もっと読む）

【課題】
下層に感光性絶縁ペーストの塗布膜を形成し、上層に感光性導電ペーストの塗布膜を形成した後、露光、現像、焼成を行う方法において、下層の感光性絶縁ペーストの塗布膜が厚くなっても剥がれが生じないパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
基板上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が絶縁性である感光性絶縁ペーストを塗布して感光性絶縁ペースト塗布膜を形成し、該該感光性絶縁ペースト塗布膜上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が導電性である感光性導電ペーストを塗布して感光性導電ペースト塗布膜を形成した後、パターン化された透光部を有するフォトマスクを介して露光し、現像する工程を含むパターン形成方法であって、前記感光性絶縁ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で３／７〜６／４の範囲内、前記感光性導電ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で７／３〜９／１の範囲内であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】密着露光方法において、露光後のフォトマスクへのレジスト付着を防止しつつ、露光時間の延長や解像力低下を改善し、且つレジスト層表面のうねりや異物の付着、気泡の混入が生じた場合においても良好な露光を行うことができるレジスト基板及び密着露光方法を提供する。
【解決手段】本発明によって、基板１上にレジスト層２が形成されたレジスト基板４であって、前記レジスト層２の上面に密着するフォトマスク層３を具備することを特徴とするレジスト基板４が提供される。 （もっと読む）

本発明は、感光性半導体基板の表面における選択領域上に有機膜を形成する方法であって、ｉ）少なくとも１つの有機定着剤を含む溶液を少なくとも１つの選択領域と接触させる段階と、ｉｉ）前記基板を、段階ｉ）において使用する前記定着剤の還元電位よりもより負の電位に分極する段階と、ｉｉｉ）そのエネルギーが少なくとも前記半導体のバンドギャップと少なくとも等しい光放射に前記選択領域を曝露させる段階と、を含むことを特徴とする形成方法に関する。 （もっと読む）

【課題】アクリル系カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、それが半硬化状態となっていても容易に除去することのできる水性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、該処理槽内から除去するための水性洗浄剤組成物は、成分（Ａ）アルカリ剤０．１〜１０重量％、成分（Ｂ）有機溶剤３０〜５０重量％、成分（Ｃ）キレート剤１〜１０重量％、成分（Ｄ）界面活性剤０．０１〜１重量％、及び成分（Ｅ）水 残部を含有する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの特性化および分析を行う方法を提供する。
【解決手段】フォトレジストの特性化方法は、支持構造上にフォトレジストを形成する工程１０２と、フォトレジストをベーキングする工程１０４と、フォトレジストを染色剤により染色する工程１０６と、ＴＥＭ、ＳＥＭおよびＡＦＭのうちの少なくとも１つを利用し、フォトレジストを特性化する工程１０８と、を含む。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体において、露光時に、感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、現像後に良好なパターンを得ることができる凸版印刷版製造用多層積層体、及びこれを用いて行う凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体上に、（Ｂ）感光性樹脂層と、（Ｃ）マスク層と、がこの順に積層されてなり、前記マスク層が、（ａ）少なくとも１種の赤外線吸収性物質、（ｂ）少なくとも１種の紫外線吸収性物質、及び（ｃ）ポリビニルブチラールを含む、凸版印刷版製造用多層積層体。 （もっと読む）