国際特許分類[G03F7/26]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料の処理;そのための装置 (4,777)
国際特許分類[G03F7/26]の下位に属する分類
粉体画像を得るためのもの
液体手段を用いる画像様除去 (1,233)
選択的転写による画像様除去,例.剥離 (19)
グループ7/30〜7/34に包含されない画像様除去,例.ガス流を用いるもの,プラズマを用いるもの (91)
画像様除去前の処理,例.予熱 (840)
画像様除去後の処理,例.加熱 (1,695)
剥離またはそのための処理剤 (402)
国際特許分類[G03F7/26]に分類される特許
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テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法
【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。
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水なし印刷に有用な画像形成性要素
非アブレート性のネガ型画像形成性要素が、架橋型シリコーンゴム層下に第1及び第2のポリマー層を有している。これらの要素は、水なし印刷(ファウンテン溶液なし)に有用なリソグラフィ印刷版を提供するためにシンプルな方法で使用することができる。水、又は有機溶剤を極めて僅かにしか含有しない水溶液を使用して画像形成済領域を除去することにより、画像形成後の処理が比較的シンプルである。架橋型シリコーンゴム層はインク反発性であり、そして基板に最も近い第1層だけが、感熱性を提供するための赤外線吸収化合物を含有する。 (もっと読む)
調製装置
【課題】原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えており、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物(製品)中の異物を低減することができる調製装置を提供する。
【解決手段】本調製装置1は、移動式ユニット10を備えており、移動式ユニット10には、移動式基台11と、攪拌装置13を有する調製タンク12と、濾過装置14と、調製タンク12内の内容物を濾過装置14まで運ぶための第1ライン15と、濾過装置14を通過した内容物を調製タンク12まで運ぶための第2ライン16と、調製タンク12内に原料を供給するための原料供給部3と、調製物を移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部4と、が備えられている。
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レジスト用樹脂含有溶液の製造方法及びレジスト用樹脂含有溶液
【課題】微粒子等の異物を効率的に捕集することができ、且つレジスト用樹脂含有溶液の生産性に優れるレジスト用樹脂含有溶液の製造方法、及び異物量が低減されたレジスト用樹脂含有溶液を提供する。
【解決手段】本レジスト用樹脂含有溶液の製造方法は、レジスト用樹脂含有溶液を、フィルタに通過させて濾過する濾過工程を備えており、該濾過工程は、第1濾過工程と、該第1濾過工程よりも線速度が低い第2濾過工程と、を備える。
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レジスト用樹脂含有溶液の製造方法及びレジスト用樹脂含有溶液
【課題】ディフェクト要因となる異物が低減されたレジスト用樹脂含有溶液の製造方法、及びディフェクトの発生を抑制できるレジスト用樹脂含有溶液を提供する。
【解決手段】本レジスト用樹脂含有溶液の製造方法は、レジスト用樹脂含有溶液を、親水性の濾材層に通液させた後、疎水性の濾材層に通液させる濾過工程を備えており、且つ親水性の濾材層と疎水性の濾材層とが近接していることを特徴とする。
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ろ過器及び電子材料用組成物の製造方法
【課題】従来の異物除去率を維持し、ろ過ハウジング内に残留するろ過用原溶液が少なく、高い生産性を有し、フィルタカートリッジの交換が容易である電子材料用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】3つの第一連通口を有する第一固定部材21と、相互に平行に配置され、第一連通口に、長手方向の一方の端部が連結された3つのろ過ユニット40と、を備え、ろ過ユニット40は、長手方向の少なくとも一方の端面に貫通孔が形成された略柱状のろ過ハウジング41と、ろ過ハウジング41内に配置され、フィルタを有する略柱状のフィルタカートリッジ42と、をそれぞれ一つずつ備える電子材料用組成物用のろ過器20。
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レジスト樹脂含有溶液の製造方法、レジスト樹脂含有溶液、及びろ過装置
【課題】異物の含有量を低減させたレジスト樹脂含有溶液を得るレジスト樹脂含有溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト樹脂と微粒子とを含有する原溶液から微粒子を除去するろ過工程を含むものであり、ろ過工程は、原溶液を、ろ過装置内を循環させて行うものであり、ろ過装置は、原溶液を貯留し、その内部を加圧可能な加圧タンク11と、加圧タンク11から排液される原溶液をろ過するフィルタを有するろ過器13と、ろ過されたフィルタ処理液を貯留する緩衝タンク15と、フィルタ処理液を加圧タンク11に投入する投入ポンプ17と、加圧タンク内に不活性ガスを供給するガス供給器19と、を備え、加圧タンク内の圧力を、不活性ガスによって所定の圧力に加圧し、加圧された加圧タンク内の圧力によって、加圧タンク11から原溶液を排液するレジスト樹脂含有溶液の製造方法。
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平版印刷版材料積層体の製造方法および平版印刷版材料積層体
【課題】耐傷性に優れる平版印刷版材料が得られる平版印刷版材料の積層体の製造方法および平版印刷版材料積層体を提供する。
【解決手段】支持体上に感光層を有する平版印刷版材料3上に合紙1を重ねる重ね工程21と、合紙1が重ねられた平版印刷版材料3を積み重ねる積層工程23とを有する、平版印刷版材料積層体7の製造方法であって、該平版印刷版材料3上に重ねられた合紙1は、該合紙1の両面が各々正負逆に帯電されている平版印刷版材料積層体の製造方法。
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マスクブランクおよびマスクブランクの製造方法
【課題】マスクブランクのレジスト膜の感度を適切に評価する。
【解決手段】基板12上面に転写パターンを形成するための薄膜14を成膜し、薄膜14の上面に化学増幅型レジストのレジスト膜16を塗布したレジスト膜付マスクブランク10であって、レジスト膜16は、紫外線光の露光によって透過率が変化する化学増幅型レジストからなり、薄膜14の転写パターンを形成するための領域以外の領域に塗布されているレジスト膜16に対し、複数箇所で紫外線光を露光して紫外線光に対する反射率を変化させている。
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多層レジスト膜のドライエッチング方法
【課題】ラインアンドスペースパターン疎密部の下層レジスト層のサイドエッチを防止し、疎密差なく異方性形状に加工する多層レジスト膜のドライエッチング方法を提供する。
【解決手段】無機系中間層202のエッチング後、窒素を主成分として含んだ化合物(例えばN2)と酸素を主成分として含んだ化合物(例えばO2)に加え、サイドエッチを防止するために臭化水素(HBr)を添加した混合プロセスガスを用いて下層レジスト層203をエッチングする。無機系中間層202に対して高い選択比を維持しつつ、CxBry,CxNyなどの反応生成物を下層レジスト層203の側壁に堆積させ側壁保護効果を高めることにより、パターン疎密部において疎密差を制御しながら下層レジスト層203をサイドエッチなく異方性形状に加工できる。
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