【課題】レジスト残渣を低減し、加工精度を向上させたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工膜１上に下層膜２を形成する工程と、下層膜２上に、酸により脱保護する保護基を含むシリコン含有中間膜３を形成する工程と、シリコン含有中間膜３上にレジスト膜４を形成する工程と、レジスト膜４の所定領域を露光する工程と、現像液を用いて前記レジスト膜を現像する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】パターン縁部の凸凹を抑制し、所望の形状のレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供すること。また、当該レジストパターン形成方法を利用した金属パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板１０上に形成したレジスト層４０に、パターン露光を行う。次に、高解像度用の現像液を用いて、レジスト層４０を現像し、レジスト層４０に開口部（抜きパターン４２）を形成する。次に、露光部及び非露光部のいずれも同じレートで溶解する溶液を用いて、レジスト層４０を処理し、レジスト層４０の開口部（抜きパターン４２）の開口径を広げる。これにより、レジストパターンを形成する。そして、このレジストパターンを利用して金属パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト感光速度の望ましくない増加を回避することができる、新規ケイ素樹脂およびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、一態様において、ケイ素含有有機コーティング組成物、特には、フェニル等の発色団部分がＳｉ原子から隔てられている、反復単位を含む反射防止コーティング組成物に関する。別の態様において、液体（有機溶媒）組成物として配合され、溶媒成分の少なくとも１種類の溶媒がヒドロキシ基を含む、ケイ素含有下地組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られるだけでなく、現像性にも優れ、さらに多数版連続処理した場合でも現像液中でのカスやヘドロの発生が抑制された赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、単数又は複数の感光層を設けた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版であって、
前記感光層の最表面層が、赤外線吸収剤と、（ｉ）カルボキシル基を有する芳香族モノマー及び（ii）炭素数１〜１０のアルキル基を有するアクリレートまたはメタクリレート、を共重合成分として含む共重合体と、を含有することを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 汚染の少ない薬液を再利用するシステムを提供する。
【解決手段】 貯留タンク１Ａ、１Ｂからスリットノズル８に至るまでの経路の途中から回収した薬液およびスリットノズルのエア抜きの際に回収した薬液中の空気を抜く第１の回収タンク１３と、スリットノズルの下端部が浸漬するディップ槽１９から回収した薬液の空気を抜く第２の回収タンク２２と、前記第１及び第２の回収タンクからの薬液が集められる一時貯留容器３０Ａ、３０Ｂと、この一時貯留容器に集められた薬液の濃度を検出する濃度計３３と、薬液の濃度が所定値以下の場合には一時貯留容器からの配管流路を廃液タンク１８に切り替え、薬液の濃度が所定値を維持している場合には一時貯留容器からの配管流路を前記貯留タンクからの薬液供給配管に繋がる流路に切り替えるバルブとを備える。 （もっと読む）

【課題】高精細画像の再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含む赤外線感応性ポジ型記録層を少なくとも２層以上有し、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層は、特定の構造単位を有するポリマーを含む２種以上の樹脂を含有し、樹脂のうち少なくとも１種が層中で分散相を形成し、分散相を形成する樹脂のアルカリ水溶液溶解速度が、マトリックス相を形成する樹脂よりも遅いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を所望の温度で圧着ローラに供給して感光材料層を貼り付け、高品質な感光性積層体を効率的に製造することのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】温度調節部１２０は、タッチパネル１１６で設定したラミネート目標温度と、放射温度計９８ａ〜９８ｈで検出したガラス基板２４の温度との差分を算出し、その差分に従って、Ｇって所定の温度パターンを温度パターン記憶部１２４から選択し、出力制御部１２６により各基板加熱部７４ａ〜７４ｅの石英ヒータ管９０ａ〜９０ｄを制御して、ガラス基板２４を加熱する。 （もっと読む）

【課題】 解像度に優れ、高精細なレジストパターンを形成すること。
【解決手段】 本発明のフォトレジストフィルムは、所望のパターンを露光した後に、現像液とガスとからなる混合流体を吹き付けて現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する方法に用いられる、少なくとも感光性樹脂組成物層を有するフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物層は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物からなり、かつ、該感光性樹脂組成物層の波長３６５ｎｍ及び／又は４０５ｎｍでの光線透過率が２５％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非常に微細な段差を有する下地においても、アライメントのずれが起こらず、かつ、確実に既存パターンの間にパターニングすることが可能なようにレジストを塗布できるレジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】レジスト塗布装置は、レジストに溶剤を供給する手段を備えて、レジストの粘度を変化させることができる。このレジスト塗布装置を半導体装置の製造方法に用いることにより、段差のある下地に塗布するレジストの膜厚を幅広く制御することができる。 （もっと読む）