フォトリソグラフィ２層塗布基板を形成する、多層リソグラフィプロセスで使用するためのエッチング耐性熱硬化性下層組成物であって、該組成物は、（ａ）構造式（Ｉ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、構造式（ＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、任意に構造式（ＩＩＩ）の少なくとも一つの繰り返し単位と、から構成される、但し、構造式（Ｉ）、構造式（ＩＩ）及び構造式（ＩＩＩ）のいずれも酸感応性基を含有しない、少なくとも一つのシクロオレフィンポリマーと、（ｂ）アミノ又はフェノール架橋剤からなる群から選択される少なくとも一つの架橋剤と、（ｃ）少なくとも一つの熱酸発生剤（ＴＡＧ）と、（ｄ）少なくとも一つの溶媒と、（ｅ）任意に、少なくとも一つの界面活性剤と、を有する。
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【課題】 本発明は種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法、例えば、「ワン−ポット」製法に関する。本発明の好ましいワンポット製法は、選択されたフォトレジスト溶媒中でフォトレジスト樹脂バインダーを調製する工程、当該溶媒中から樹脂バインダーを分離することなく、感光性成分及び他の成分を当該樹脂バインダー混合物中に添加して、樹脂バインダーが調製された溶媒中でフォトレジスト組成物を調製する方法を包含している。また、本発明は、フォトレジスト樹脂バインダー、特に、酸不安定基又は不活性ブロッキング基などの基と共有結合することができるフェノール性−ＯＨ基を含有するフェノール性ポリマー、の新規な製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法、例えば、「ワン−ポット」製法に関する。本発明の好ましいワンポット製法は、選択されたフォトレジスト溶媒中でフォトレジスト樹脂バインダーを調製する工程、当該溶媒中から樹脂バインダーを分離することなく、感光性成分及び他の成分を当該樹脂バインダー混合物中に添加して、樹脂バインダーが調製された溶媒中でフォトレジスト組成物を調製する方法を包含している。また、本発明は、フォトレジスト樹脂バインダー、特に、酸不安定基又は不活性ブロッキング基などの基と共有結合することができるフェノール性−ＯＨ基を含有するフェノール性ポリマー、の新規な製造方法に関する。 （もっと読む）

【解決課題】 製造したレジスト組成物より得たレジスト膜の解像性能の安定化を可能とするレジスト組成物の製造方法、及びその製造方法により経時劣化のロット間差の小さなレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 結合剤、酸発生剤、窒素含有塩基性物質及び溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法であって、前記溶剤として、過酸化物含有量が許容値以下である溶剤を選択する工程と、前記選択された溶剤中でレジスト組成物構成用材料を混合する工程とを含んでなる化学増幅型レジスト組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】レジスト下層膜材料であって、エッチング速度が速く、このためエッチング時間を短縮してエッチング中のレジストパターンの膜減りを少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。そのため、パターンの転写を高精度に行うことができ基板に良好なパターンを形成することができるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化５５】
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【課題】ダイレクト製版用の製版条件、特に現像液の活性状態を容易に判定する簡易な、製版工程を管理するための標準画像パターン及びそれを用いた平版印刷版の現像液評価方法、平版印刷版の品質管理方法を提供する。
【解決手段】ＡＭスクリーン方式による面積率の異なる複数のＡＭ網点画像と、前記複数のＡＭ網点画像の各々に隣接して形成される所定の面積率を有するＦＭスクリーン方式によるＦＭ網点画像とを備えることを特徴とする、印刷版の製版工程を管理するための標準画像パターンである。 （もっと読む）

【課題】レジスト原液と溶剤を混合したレジスト液の濃度を正確に測定する。
【解決手段】レジスト濃度測定装置１００にはレジスト原液タンク１０１、溶剤タンク１０２、及びマーカー材タンク１０３が設けられ、これらタンクから供給されるレジスト原液、溶剤、及びレジスト原液の濃度に対して所定の比率で添加されるマーカー材溶液が混合ブロック１０６で混合される。マーカー材は６００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光に対して最大の吸光度を有しており、吸光度計１０８で６００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光をレジスト液に照射することで、マーカー材のみの一定の吸光度を測定することができる。そしてマーカー材の濃度を演算することにより、レジスト液の濃度を正確に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成
することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を基板表面に塗布して２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】機上現像の際に除去される成分による印刷インキ色相変化や湿し水着色が少ない機上現像型平版印刷版原版の製造欠陥検査方法において、特に無色或いは限りなく無色に近い層の製造欠陥を容易かつ迅速に検出出来る平版印刷版原版の検査方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、塩基性色素と相互作用する化合物を含み、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能な画像形成層を有する平版印刷版原版の製造時の欠陥検査方法であって、概原版を製版工程に先立って塩基性色素を含む水溶液で処理させることを特徴とする平版印刷版原版の製造欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】解像度以下の線幅の形成が可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】受ける光量が小さい順に低光量、中間光量、高光量とした場合、低光量及び高光量の露光で現像液に対して不溶（可溶）となり、中間光量の露光で現像液に対して可溶（不溶）となるレジストに対して露光及び現像を行い、レジストにおいて中間光量の露光を受けた部分のみを除去する（残す）。 （もっと読む）