【課題】 高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。
【解決手段】 レジスト１２はベースフィルム１１、クッション層１０、上層レジスト８、下層レジスト７、カバーフィルム９の五層で構成される。構造材の厚みは、ベースフィルム１１が５０乃至１００μm、クッション層１０が１０乃至３０μm、上層レジスト８が０．５乃至１．０μm、下層レジスト７が０．５乃至１．０μm、カバーフィルム９が１０乃至３０μmである。 （もっと読む）

【課題】印刷または転写に使用する版が、種々の理由で摩耗したり、キズがついたりした場合、再生が容易な版を提供する。
【解決手段】印刷用インクの印刷または転写用インクの転写に使用する版１であって、少なくとも裏面露光光透過性の支持基板２の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜３を設け、遮光性膜３を覆うようにして前記支持基板２の上に裏面露光光透過性層４を積層し、裏面露光光透過性層４の上に位置する版面５に、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成してなる版パターン部１０を設けた。 （もっと読む）

【課題】液浸露光の際に、レジスト膜およびレジスト膜の下層の有機膜から液浸液への成分の溶出を抑制する有機材料の製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液浸露光により露光されるレジスト膜またはこのレジスト膜の下層に設けられる有機膜を構成する有機材料の製造方法であって、レジスト材料１１を構成する各成分を配合し、レジスト材料１１を調製する工程と、レジスト材料１１を、液浸露光に用いる液浸液と同一成分からなる溶媒１２と混合して洗浄し、レジスト材料１１中の成分の一部を溶媒１２中に溶出させる工程を行うことを特徴とする有機材料の製造方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】印刷パターンから塗布物の一部が外側に滲み出すのを防止できるスクリーン印刷版を提供する。
【解決手段】感光性乳剤層４が形成されたスクリーン印刷版１の開孔部３を、導入開孔部３ａと、この導入開孔部３ａに連なる印刷開孔部３ｂとから構成し、印刷開孔部３ｂを導入開孔部３ａより平面視において外側にはみ出させ、かつ、深さを浅くした構成とすることによって、印刷開孔部３ｂの開口縁と印刷物の印刷面との隙間から塗布物の一部が漏れ出すのを防止して、印刷パターンから塗布物の一部が外側に滲み出すのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 特定波長の光線に対して高い感度を有するとともに、感光特性を安定に維持可能であり、更に、レジストパターンのライン断面形状を良好とすることができる感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】 感光性エレメント１は、支持体１０と、この上に形成された感光層２０とを備えている。感光層は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物から構成される。Ｃ成分は、特定構造の（Ｃ１）クマリン系化合物、（Ｃ２）イミダゾール二量体及び（Ｃ３）フェニルグリシン化合物を含有している。そして、感光層２０においては、Ａ成分及びＢ成分の総質量１００質量部に対するＣ１成分の含有量Ｐと、感光層の厚さＱμｍとの積Ｒが、１０．０以上２２．０未満であり、また、Ｃ３成分の含有量が、Ａ成分及びＢ成分の総質量１００質量部に対して０．０２〜０．８質量部である。 （もっと読む）

【課題】 現像性、耐傷性のバランスに優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版、及び、それを用いた、人体や環境に対して影響が懸念される有機溶剤を使用することなく、アルカリ現像液により良好な現像が行われ、優れた画像を形成しうる赤外線レーザ用感光性平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、（Ａ−１）高分子化合物と（Ｂ）赤外線吸収剤とを含有する下層と、（Ａ−２）下層に含まれる高分子化合物とは異なる高分子化合物を含有する上層とを、順次備えてなり、上層のアルカリ性水溶液への溶解速度が１．５ｎｍ／ｓｅｃ以上である赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版である。このような版材を用いることで、赤外線レーザを用いて像様に露光した後、有機溶剤の含有率が０．５質量％以下であるｐＨ１２以上のアルカリ性水溶液で現像することにより高画質の平版印刷版を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】所定の立体面を有する三次元微小成形体の成形精度を向上させることのできる感光性樹脂組成物および該組成物を用いたドライフィルムを提供する。
【解決手段】化学線露光量（ｍＪ／ｃｍ²）をｘとし、その露光量による樹脂硬化量を現像前の塗布膜厚ｈ（μｍ）に対する現像後の残膜厚Δｈ（μｍ）の比ｙ（＝Δｈ／ｈ）で表わし、ｘとｙとの関係式ｙ＝αＬｎ（ｘ）±β（βは任意の実数）を求めた場合、０．３５≦α≦０．７８である光感度を有する組成物を三次元微小成形体製造用の感光性樹脂組成物として用いるとともに、該組成物を用いて感光性ドライフィルムを得る。 （もっと読む）

【課題】 露光装置を使用しては製造が不可能であった微細構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ウエハ１上にレジスト２を塗布する。このレジスト２としては、γ特性のなだらかなレジストを使用する。そしてマスク３を使用して露光を行う（ａ）。このとき、Ｌ／Ｓの像のピッチがｇ線ステッパの解像限界に近いため、レジスト２を現像するとレジスト２の形状がほぼ正弦波となる（ｂ）。このレジスト２の表面に、保護膜４を塗布し、さらにその上に、γ特性がシャープなレジスト５を塗布する（ｃ）。続いてマスク６を使用して露光を行う（ｄ）。レジスト５を現像すると（ｅ）に示すような形状が形成される。次にこれらの全体を減厚し、（ｆ）に示すような形状を得る。続いて残ったレジストをマスクとしてウエハ１をエッチングし（ｇ）、その後レジスト溶解除去すると、ウエハ表面に細かなＬ／Ｓパターンを形成することができる（ｈ）。 （もっと読む）

【課題】 高感度感光層であっても安全灯下での光カブリを防止でき、プリント基板の製造等に好適に用いられるパターン形成材料等の提供。
【解決手段】 支持体上に、波長３５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下で５０ｍＪ／ｃｍ^２以上のエネルギーを加えることにより現像可能な感光層を少なくとも有し、
該感光層が、前記感光層を露光し現像する場合において、前記感光層の露光する部分の厚みを該現像の前後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、１〜２０ｍＪ／ｃｍ^２であり、かつ、最大吸収波長が５００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下にある染料を少なくとも１種以上含むパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】 セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも３５０〜５００ｎｍに感光特性を示す感光層を有し、エネルギー感度が１〜２０ｍｊ／ｃｍ^２であるパターン形成材料を用い、３８０〜５００ｎｍの波長領域を有し、該波長領域での少なくとも一波長のエネルギー強度が１×１０^−２μＷ／ｃｍ^２／ｎｍ以下の光源下で、基材表面への感光層の積層工程と、該積層工程と露光前までの工程のうち少なくとも一工程を行うパターン形成方法である。 （もっと読む）