【課題】フォトリソグラフィによるパターン形成方法において、検査工程を短縮すると共に、その検査の高精度化を図る。
【解決手段】パターン形成方法は、フォトリソグラフィにより、表示領域に主パターンを形成すると共に、非表示領域に検査用パターン３０を形成するパターン形成工程と、検査用パターン３０を直接に検査することにより、主パターンの形成状態を間接的に検査する検査工程とを含んでいる。検査用パターン３０は、主パターンにおける検査対象部を含む所定領域と同じ構成を有する検査領域３５を備えている。検査工程では、検査用パターン３０の検査領域３５を計測することにより、主パターンにおける線幅とアライメントずれとを検査する。 （もっと読む）

【課題】 耐傷性及び形成された画像のディスクリミネーションに優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 樹脂及び赤外吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を２層以上設けてなり、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層のアルカリ水溶液に対する深さ方向と横方向との溶解速度比が少なくとも１未満であることを特徴とする。このような溶解速度比を達成するには下層が分散相を有するか、又は、下層を形成する際高温乾燥を行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 保護層の検査を素早く、かつ正確に実施することのできる印刷版の保護層の検査方法を提供すること。
【解決手段】 平板印刷版１０の保護層１６全体に、保護層１６を溶解せず、記録層１４を溶解する液体状の溶媒を塗布し、その後自然乾燥させ、平板印刷版１０を目視する。保護層１６に故障部（欠落している部分）があると、故障部において記録層１４が露出するので、故障部の記録層１４が溶媒によって溶解され、アルミニウムの支持体１２が露出する。記録層１４の青（または緑）色に対して、故障部の色（アルミニウムの色）が異なるため、目視にて色の異なる部位、即ち、保護層１６の故障部を容易かつ確実に発見することができる。 （もっと読む）

【課題】粒子を含有する液体、特に粒子を含有する高粘度の液体を効率良くろ過することができ、なおかつフィルター目詰まりが発生し難いろ過方法を提供することを目的とする。
【解決手段】粒子を含有する液体を２つ以上のろ過工程によりろ過を行うことを特徴とするろ過方法を提供することで課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】 上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト含有排水を良好な凝集濾過性及び運転安定性で処理することのできるフォトレジスト含有排水の処理方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト含有排水のｐＨを酸性に調整してから、フォトレジストの凝集沈殿に適するようにｐＨを調整してフォトレジストを凝集沈殿させ、膜処理を行う。排水中に銅が含まれる場合には、フォトレジストを凝集沈殿させるためのｐＨ調整前に、酸性へのｐＨ調整後のフォトレジスト含有排水のｐＨを一旦アルカリ性に調整する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性が高く、他層とのミキシングや溶解を起こさず、また紫外光吸収により定在波効果を防ぐことのできる多層レジスト中間層形成用塗布液及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る多層レジスト中間層形成用塗布液は、Ｍを金属原子、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３を炭素数１〜８のアルキル基、ａはＭの価数、ｂ、ｃは整数でｂ＋ｃ＝金属原子Ｍの価数として、Ｍ（ＯＲ^１）_ａ、又は Ｒ^２_ｂＭ（ＯＲ^３）_ｃで表される金属アルコキシド誘導体を主成分とし、有機溶剤に溶解されている。ＭはＴｉであることが好ましい。この塗布液を基板に塗布後、１００℃〜２５０℃、不活性ガス雰囲気下にベークして固化させ、多層レジスト中間層とする。 （もっと読む）

【課題】 ＵＶ露光により画像形成可能で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、耐熱性、耐湿性及び絶縁性などを発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、該感光性フィルムを用い、薄層化された永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジストなど）であっても、実装時の熱履歴や温度サイクル試験（ＴＣＴ）における耐熱疲労性に優れ、高加速度試験（ＨＡＳＴ）におけるイオンマイグレーションの発生がなく、耐湿性に優れた高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法を提供。
【解決手段】 アルカリ可溶性光架橋性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、エラストマーと、無機充填剤と、着色剤と、熱硬化促進剤と、溶剤とを含む感光性組成物であって、該感光性組成物が、イオン吸着剤でイオン吸着処理されてなることを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、テント性及びエッチングの均一性に優れた高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第一の層と第二の層とをこの順に有し、該第一の層のガラス転移温度（Ｔｇ）をＡ、該第二の層のガラス転移温度（Ｔｇ）をＢとしたとき、Ｂ≧Ａであることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。前記パターン形成材料における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 シリコン含有フォトレジストの基層として用いるのに適切な低屈折率のポリマーを提供する。
【解決手段】 高いエッチング耐性及び改善された光学特性を示す新規な基層組成物が開示される。基層組成物は、ビニル又はアクリル・ポリマー、例えばメタクリル・ポリマーを含み、このポリマーは、少なくとも１つの置換又は非置換ナフタレン又はナフトール部分、又はこれら混合物を含む。本発明のポリマーの例は次式、
【化１】


で表されるポリマーを含み、式中、Ｒ_１の各々は独立に、有機部分又はハロゲンから選択され、各Ａは独立に、単結合又は有機部分であり、Ｒ_２は水素又はメチル基であり、Ｘ、Ｙ及びＺの各々は０から７までの整数であり、Ｙ＋Ｚは７又はそれ以下である。上述の有機部分は、直鎖又は分枝鎖アルキル、ハロゲン化直鎖又は分枝鎖アルキル、アリール、ハロゲン化アリール、環状アルキル、及びハロゲン化環状アルキル、及びこれらの組合せから成る群から選択される置換又は非置換炭化水素とすることができる。組成物は、三層リソグラフィ工程を含む多層リソグラフィ工程における平坦化基層として使用するのに適している。 （もっと読む）