容易に入手可能な化合物を原料として簡単な手段で製造可能であって、これを用いた二層レジスト材料により、高解像度で高アスペクト比、良好な断面形状、小さいラインエッジラフネスの微細パターンを形成しうる化学増幅型ポジ型シリコーン系ポジ型レジスト組成物を提供する。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）光酸発生剤を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、（ａ_１）（ヒドロキシフェニルアルキル）シルセスキオキサン単位、（ａ_２）（アルコキシフェニルアルキル）シルセスキオキサン単位及び（ａ_３）アルキル又はフェニルシルセスキオキサン単位を含んでなるラダー型シリコーン共重合体を用いる。上記（Ａ）成分において（ａ_３）単位がフェニルシルセスキオキサン単位である共重合体は新規化合物である。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルタからの汚染物質で液晶層や有機ＥＬ層が汚染されないように、カラー表示装置の表示不良現象を防止でき、簡便な方法でカラーフィルタからの汚染物質を特定し、かつ、使用する構成材料の選択幅が広く、コスト増大を引き起こさないカラーフィルタ、及びそのカラーフィルタを具備するカラー表示装置を提供する。
【解決手段】 少なくともバインダー樹脂とモノマーと光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物を紫外線露光し加熱工程を経てポリマー膜としたカラーフィルタであって、前記カラーフィルタの前記ポリマー膜に含まれる未反応光重合開始剤の前記ポリマーに対する残留比Ｘと、未反応モノマーの前記ポリマーに対する残留比Ｙが、下記の式（１）および式（２）を満たすことを特徴とする。
（１） 0≦Ｘ≦4（重量％）
（２） 0≦Ｙ≦40（重量％） （もっと読む）

【課題】複数回の露光やベークを実施することなく、一回の露光処理で容易に逆テーパー形状のレジストパターンを得ることが可能な露光用マスクならびに当該マスクを用いたポジ型フォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】外周部が遮光領域１０１で区画された光透過領域102を有し、ポジ型フォトレジスト２０７への選択的露光を行う露光システムにおいて用いる、露光用マスク１００であり、前記マスク１００の光透過領域内の一部に、ポジ型フォトレジストの塗布厚み以下の幅を有するダミー遮光領域１０３、１０５が、少なくともレジストパターンとして逆テーパー形状を形成したい部分に対応する前記外周部遮光領域の縁１０１ａ、ｂ、ｃ、ｄのいずれかの縁の近傍に少なくとも１個以上形成されている露光用マスク。 （もっと読む）

【課題】 カール量の測定をより正確に行うことの可能な平版印刷版のカール量測定方法と、このカール量測定方法を適用してカール矯正をより確実に行うことの可能な平版印刷版のカール矯正方法及びカール矯正装置を得る。
【解決手段】 カール量測定具５６を使用し、平版印刷版３０全体を鉛直下方へと吊り下げて、保持辺（上端辺）と対向辺（下端辺）の距離Ａを測定し、吊るしカール量（Ａ−Ｂ）を得る。平版印刷版３０を水平な平台においてカール量を測定しないので、正確且つ０ｍｍ付近での高感度の測定が可能となる。この吊るしカール量の値に基づいてカール矯正装置１３をフィードバック制御するので、より確実にカール矯正できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造業用に適したフレキソグラフ印刷プレート用等に改良されたスリップフィルム組成物等を提供する。
【解決手段】本発明の改良されたスリップフィルム組成物は、１つ又はそれ以上の溶剤、１つ又はそれ以上の重合体バインダー、層状シリケート化合物、そして選択的に界面活性剤から構成される。そして、スリップフィルム組成物中の充填剤として層状シリケート化合物を使用することによって、改良された剥離性と、改良された画像形成性を有しているスリップフィルム化合物である。したがって、本発明のスリップフィルムは、溶剤現像又は熱的現像されてなるフレキソグラフ印刷プレートに使うことができる。 （もっと読む）

【課題】 短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。単色光は±１５％以内の照度分布で照射するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化膜形成方法は、シロキサン樹脂を含有する放射線硬化性組成物を基板上に塗布し乾燥して塗膜を得る工程と、その塗膜を露光する工程と、を有し、かつ露光する工程の後に塗膜を加熱しないものである。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤を提供する。
【解決手段】 洗浄除去溶剤として、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ（δ_Ｈ）が５〜１０の溶剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版において、多数枚の印刷時に発生する細線やハイライト部の飛びの少ない、微小画像の耐刷性が改善された平版印刷版の処理方法を提供しする。
【解決手段】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光、現像処理後に前記平版印刷版を、チタン、ジルコニウム、亜鉛及びハフニウムの中から選ばれる金属のフッ化物の中の少なくとも１つの化合物を含む処理液で処理する。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）、（２）及び（３）の加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、酸発生剤、含窒素有機化合物、溶剤を含有してなるレジスト組成物。
Ｒ¹Ｒ²_pＳｉＸ_3-p （１）
Ｒ³Ｒ⁴_qＳｉＸ_3-q （２）
Ｒ⁵Ｒ⁶_rＳｉＸ_3-r （３）
（Ｒ¹はヒドロキシ基を持ち、かつ、該ヒドロキシ基が結合する炭素原子に更に結合する炭素原子上に合計３つ以上のフッ素原子が結合されている有機基、Ｒ³は酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、Ｒ⁵はラクトン環を有する有機基、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁶は炭化水素基、Ｘは加水分解性基、ｐは０又は１、ｑは０又は１、ｒは０又は１。）
【効果】 本発明のレジスト組成物は、良好な解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ＡｒＦ露光における２層レジスト法に好適である。 （もっと読む）