【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）酸発生剤、（ｃ）その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
（Ａ）ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
（Ｂ）前記工程（Ａ）を２回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
（Ｃ）多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）基板、（ｂ）基板上に重なる第１のポリマー層、（ｃ）第１のポリマー層上に重なる第２のポリマー層、（ｄ）第２のポリマー層上に重なる金属ハードマスク層、及び（ｅ）金属ハードマスク層上に重なる感光性層を備える前駆体物品は、フォトリソグラフィのイメージング、現像、及びプラズマエッチング工程が施され、基板及びフォトリソグラフィのイメージングに使用されるフォトマスクのパターンに対応するパターンに配置されている第１のポリマー層の一部を含む物品を形成する、光導波路等の物品を準備するための微細加工プロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、解像度に優れ高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を現像する場合において、第一の形態では現像後の現像液中に存在する粒状物の９５％以上が、粒径０．０１〜１．０μｍの粒状物であり、第二の形態では該現像後の現像液の静的表面張力が、３０〜４５ｍＮ／ｍであり、第三の形態では該現像後の現像液の１００秒後の動的表面張力が、４０〜５６ｍＮ／ｍであることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 ２層フォトレジストプロセスにおいて上層レジストと下層膜とのインターミキシングレイヤーを生ずることなく良好なアンダーカット形状を形成できる実用性の高い下層用組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決の手段】 基板上に形成した下層有機膜と上層ポジ型フォトレジスト膜との２層の膜を、マスクを介して露光し、現像することによりアンダーカット形状を有するレジストパターンを上記基板上に形成するための上記下層有機膜用の組成物であって、３−メチルフェノールと４−メチルフェノールとの混合物であるフェノール成分（Ａ１）と、芳香族アルデヒド及びホルムアルデヒドからなるアルデヒド成分（Ａ２）とを縮合してなるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、溶剤（Ｂ）とからなる下層有機膜組成物、及び、これを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

カラー形成感光性高分子層でカラー画素を形成するプロセス、こうして形成されたカラー画素及びデジタル画像化システムが提供される。基板上の単独の減法作動色感受性光重合性組成物層は、デジタル光プロセッサから反射された化学線に暴露されると、光重合性組成物上に所望のデジタルカラー画像を正確に再現する。カラー特定感光性高分子の多重層を用いると、このプロセスにより基板上にフルカラー画像を形成することができる。
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本発明は、光学用接触媒質、光学セメント、光学素子、半導体ウェハおよび半導体デバイス用光学検査メディア、液浸フォトリソグラフィにおける約１７０ｎｍから２６０ｎｍの範囲のＵＶ波長に対して、特に１９３ｎｍと２４８ｎｍの曝露波長で極めて透明なアルカンを使用することに関する。
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【課題】本発明は、２つの異なる光画像形成膜組成物、特に、基板上に２つの異なるドライフィルム組成物を設ける方法に関する。
【解決手段】２つの光画像形成膜組成物は、現像後、光画像形成膜上層が光画像形成膜下層にオーバーハングするように、異なる現像速度及び／又は硬化速度を有するようにそれぞれ選択される。その後、金属層が基板の表面上に堆積される。オーバーハング形状は基板と光画像形成膜層との界面に沿って金属層が光画像形成膜層との密着を防ぐため、オーバーハング形状が次に配置される金属層に損傷を与えずに、光画像形成膜層の完全な除去が可能となる。 （もっと読む）

アブレーション機構ではなく溶解度の変化によって石版印刷用プレートの画像形成層の選択的除去を進行させ、それによって、アブレーションを引き起こすエネルギーレベルを必要としない低出力レーザを用いたイメージングが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては及び光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含む、前記組成物に関する。本発明は更に、このような組成物の使用方法にも関する。 （もっと読む）

【要約書】本発明の感光性印刷要素は、中空円柱状支持層、少なくとも１つの光重合性材料層、及びマスク層を含む。マスク層部分は、レーザ照射により除去される。そして、光重合性材料層は、中空円柱状支持層を介して化学線に露光され、重合性材料のフロア層を形成する。次に、スリーブは、化学線に露光されて、マスク層の除去間に露呈された光重合性材料層部分が重合される。そして、感光性印刷要素は、現像されてマスク層及び光重合性材料層の非重合部を除去してレリーフ像を形成する。化学線源もまた、感光性印刷要素の表面衝突部分に略垂直な角度で感光性印刷スリーブの表面に当たるようにコリメートされる。 （もっと読む）