半導体プロセスのようなプロセスに供給される冷却剤の温度を制御するための方法。本方法は、所定温度までの冷却剤の冷却、所定温度での冷却剤の制御、及び半導体プロセスへの冷却剤の送給のための方法を提供する。本方法は、定常状態条件下で約±０．１℃以内まで、並びに最大熱負荷及び熱除荷条件下で約±０．７５℃以内まで温度を制御するフィードバック及びフィードフォワード制御アルゴリズムを含む。本発明は、あらゆる流体又は構成要素の温度制御用途（例えば、半導体、製剤、又は食品用途）で用いることができる。
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【課題】圧縮機を保護を実現しながら、熱負荷の変動がある発熱体の発熱量に追随して冷却制御することを可能とする冷却装置を提供する。
【解決手段】制御装置４０は、収納室４内の空気温度が所定の冷却開始設定温度に上昇した場合に圧縮機２２の運転を開始し、収納室４内の空気温度が所定の冷却停止設定温度に低下した場合に圧縮機２２の運転を停止すると共に、圧縮機２２が停止してからの所定の再起動禁止時間を有し、圧縮機２２の停止後、再起動禁止時間が経過する以前に収納室４内の空気温度が冷却開始設定温度に上昇した場合、冷却停止設定温度を初期冷却停止設定温度より下げる補正を行う冷却停止設定温度補正モードを実行する。 （もっと読む）

本発明は、構成要素として少なくとも圧縮器２、蒸発器３、圧力制御素子６及び凝縮器４を備え、制御回路９を有する冷却系を運転するための制御系において、制御回路が少なくとも幾つかの冷却系の構成要素との電気接続部を有し、構成要素を通して制御回路９が時間インターバルにわたって、電気的動作変数を連続的に測定及び記憶し、制御回路が、冷却系の電気的動作変数の少なくとも幾つかの測定値と幾つかの記憶値の間の相関関係を確立し、この電気的動作変数の少なくとも幾つかの測定値と幾つかの記憶値と、冷却系の電気的動作変数の少なくとも幾つかの測定値と幾つかの記憶値の間で確立された相関関係とに基づき、冷却系に関する制御信号を発生させることを特徴とする制御系に関する。
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【課題】 コンタミや焼け等の原因を確実に解消するとともに、初期の仮目標温度を高くして昇温時間の短縮化を図る。
【解決手段】 射出成形機Ｍにおける複数の被加熱部位Ｈａ…の温度Ｔａ…を複数の加熱制御部２ａ…によりそれぞれフィードバック制御するとともに、昇温モード時に、参照加熱制御部２ｄにおける現在の検出温度Ｔｄｐと正規目標温度Ｔｄｓの偏差Ｅｄに対して、追従加熱制御部２ａ…における仮の目標温度（仮目標温度Ｔａｉ…）と正規目標温度Ｔａｓ…の偏差Ｅｉａ，…を一致させる当該仮目標温度Ｔａｉ…を算出し、この仮目標温度Ｔａｉ…を用いて追従加熱制御部２ａ…における昇温制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 複数の部材の温度調整を、同時に、部材間の温度ばらつきなしに、省スペースで、高精度に行う温度調整装置を提供する。
【解決手段】 気体が供給される供給部と、前記供給部に供給された流体が流れる第１の方向に対して垂直な方向成分を前記温度調整された流体に持たせる流速方向変更手段と、
前記第１の方向に対して垂直な平面内に前記流速方向変更手段を中心として複数の温度調整対象物を設置する設置機構と、
を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、複数の発熱体を一つの冷却液体循環系で効率的に冷却することが可能な冷却装置及び情報処理装置を提供することである。
【解決手段】本発明による冷却装置（１００）は、流路（２０）と、前記流路に配設され、前記流路に冷却液体を循環させることが可能なポンプ（７２）と、前記冷却液体を冷却する第１ラジエータ（４０Ａ）と、前記冷却液体と第１発熱体（９０Ａ）との間で熱交換させる第１熱交換器（３０Ａ）と、前記冷却液体を冷却する第２ラジエータ（４０Ｂ）と、前記冷却液体と第２発熱体（９０Ｂ）との間で熱交換させる第２熱交換器（３０Ｂ）とを具備している。ここで、前記流路は、前記第１ラジエータと、前記第１熱交換器と、前記２ラジエータと、前記第２熱交換器とを環状に接続している。 （もっと読む）

測定プローブ（１２）を支持する関節式プローブヘッド（１０）を含む、座標位置決め機用の装置が記載される。関節式プローブヘッド（１０）は少なくとも１つの電動機（４０、４２）を含む。関節式プローブヘッド内において熱を発生させる加熱手段が提供される。この加熱手段は、電動機（４０、４２）または別個の加熱エレメントとすることができる。１つまたは複数の温度センサ（４６、４８）など、関節式プローブヘッド（１０）の温度を決定する温度感知手段も提供される。この装置は、関節式プローブ（１０）ヘッドの温度を制御することを可能にする。
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【課題】マルチループの状態量制御系において定常偏差の絶対値を小さくする。
【解決手段】第１の制御ループについて設定値ＳＰ１と制御量ＰＶ１との偏差Ｅｒ１を算出する偏差Ｅｒ１算出部３−１と、偏差Ｅｒ１を入力として操作量ＭＶ１を算出するＰＩＤ演算部４−１と、偏差Ｅｒ１に予め設定された倍率Ａ１を乗算する倍率Ａ１演算部６−１と、第１の制御ループとの間に干渉が存在する第２の制御ループの設定値ＳＰ２に倍率Ａ１演算部６−１の乗算結果を加算して補正設定値ＳＰ２ｘを算出する加算部７−２と、補正設定値ＳＰ２ｘと制御量ＰＶ２との偏差Ｅｒ２を算出する偏差Ｅｒ２算出部３−２と、偏差Ｅｒ２を入力として操作量ＭＶ２を算出するＰＩＤ演算部４−２とを備える。 （もっと読む）

【課題】恒温液循環装置において、外部装置の熱負荷変動による循環液の温度変化幅を小さく抑え、外部装置の性能を安定化させる。
【解決手段】恒温の循環液をポンプ１４によって送給する管路１２の吐出口１２ａと戻り口１２ｂとに、外部装置２における循環液の配管３を接続する恒温液循環装置１において、上記管路に、流量センサ１５と、該管路からの循環液の吐出温度（Ｔ１）及び循環液の戻り温度（Ｔ２）を検出する温度センサ１６，１７を設け、それらの出力に基づいて求められる外部装置の熱負荷に応じて、コントローラ１８により、循環液の流量及び温度を制御する。その制御は、吐出及び戻り温度の差が設定値よりも小さい場合、循環液の温度制御によりその熱負荷に対応させ、該温度の差が設定値よりも大きくい場合、上記温度制御に加えて外部装置の配管への循環液流量の増加により上記熱負荷に対応させる。 （もっと読む）

工業用プロセスで用いるためのフィールド装置システム（１２）は、工業用プロセスに結合し、工業用プロセスを監視又は制御するように構成されたフィールド装置（１４）を含む。フィールド装置は、フィールド装置の温度に関する温度制御信号出力を提供する。フィールド装置（１４）に結合されたヒータ（２４）は、温度制御信号に応答してフィールド装置（１４）を加熱する。
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