国際特許分類[G11B5/82]の内容
物理学 (1,541,580) | 情報記憶 (112,808) | 記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録 (95,120) | 記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体 (16,233) | 形状によって特徴づけられた記録担体,例.ドラムの周りに巻き付けられるように形成されたシート (766) | ディスク状担体 (539)
国際特許分類[G11B5/82]に分類される特許
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情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
【課題】耐候性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の提供。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐OH値が0.20mm−1以上である情報記録媒体用ガラス基板。アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を64〜67%、Al2O3を8〜10%、Li2Oを10〜13%、Na2Oを9〜12%、K2Oを0〜2%、ZrO2を2〜4%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が21〜25%である前記情報記録媒体用ガラス基板。
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データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板
【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、基板用ガラスがアルカリ成分としてリチウムイオンを含有し、混合溶融塩が硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび質量百分率表示で硝酸リチウムを1〜6%含有し、基板用ガラスを混合溶融塩に特定の温度範囲および時間の条件下で浸漬するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。
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磁気ディスク用ガラス基板、その製造方法および磁気ディスク
【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第4級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる1以上の水溶性有機高分子および平均粒径が0.4〜1.8μmの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。
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情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、仮想温度Tfからガラス転移温度Tgを減じた差Tf−Tgが5℃以下である情報記録媒体用ガラス基板。下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を64〜67%、Al2O3を8〜10%、Li2Oを10〜13%、Na2Oを9〜12%、K2Oを0〜2%、ZrO2を2〜4%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが21〜25%である前記情報記録媒体用ガラス基板。
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ディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法
【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体1上に少なくとも磁気記録層5と犠牲層とカーボン保護層6とをこの順に積層する第1工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6を除去して凹部を形成する第2工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層5とを非磁性化する第3工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6と前記犠牲層を除去する第4工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層6と潤滑層7をこの順に被着する第5工程とを有する。
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磁気記録媒体の製造方法
【課題】プロセスダメージを除去して磁気特性の劣化を防止できる磁気記録媒体(パターンド媒体)の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層、エッチング保護層、および密着層を形成し、前記密着層上にレジストを塗付し、インプリントにより前記レジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記密着層をパターニングし、前記レジストパターンをマスクとしてエッチング保護層をパターニングし、前記密着層およびエッチング保護層のパターンをマスクとして磁気記録層をエッチングして磁気記録層の凹凸パターンを形成するとともに前記密着層のパターンを剥離し、前記エッチング保護層のパターンを剥離し、前記磁気記録層の凹凸パターンを非イオン化還元性ガスに曝すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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磁気記録媒体上にパターンを製造するためのシステム
【課題】従来の連続媒体から区別したパターニングされた媒体を識別するパターン転写ステップを統合した複数の基板の処理装置などの技術を提供すること。
【解決手段】ハードディスクドライブに用いるためのハードディスク上に磁気記録層をパターニングするためのインライン処理システム。ディスクは、MDCと呼ばれるラウンドプレート形状ホルダ(plate−like holder)の垂直方向に同時に両側に処理される。複数(10個程)のディスクは、MDCのダイヤルキャリアでホールディングされ、1つの処理ステーションから他の処理ステーションに移動する。MDCのダイヤルキャリアは、1つまたは複数の処理源がディスクを同時に処理できるように各処理ステーションで、正常から70°までの回転及び/または角度を提供する。このような構成は、時間節約及び要求される処理源の数と大きさの減少を提供する。磁気媒体のパターニングのためのマスク改善処理、及び充填と平坦化処理は共に用いられ、また開示される。
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磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
【課題】 CCPターゲットの利用効率を高めるため、厚くても漏れ磁束が大きいCCPターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部がCoおよび不可避不純物からなる磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットであって、Co、CrおよびPtの各元素を単体として又はこれらのうち2種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と非磁性酸化物の原料粉末との各原料粉末が混合された一次混合粉末を焼結させて一次焼結体を得る一次焼結工程と、前記一次焼結体を粉砕して一次焼結体粉末を得る粉砕工程と、前記各原料粉末が混合された二次混合粉末と一次焼結体粉末とを混合後、焼結させる二次焼結工程と、を経て製造され、二次混合粉末の焼結体からなる組織中に、一次焼結体粉末の焼結体からなる組織が分散している。
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情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量%表示で、SiO2を56〜70%、Al2O3を10〜26%、Li2Oを0.5〜8%、Na2Oを0〜15%、K2Oを0〜8%、MgOを0〜6%、CaOを0〜8%、ZrO2を0〜6%、Fを0.1〜0.9%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が8〜18%である情報記録媒体基板用ガラス。
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ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層
【課題】ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層を提供する。
【解決手段】部分酸化キャップ層を有する垂直磁気記録媒体は、第2酸化物層を第1キャップ層と結合して単一の部分酸化キャップを形成する。部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。酸化部分のMsは非酸化部分の約2倍である。酸化部分は、厚さが約5〜25Åの範囲である。層組成はCoPtCrBTaを含むことができ、Crのat%は約18〜24%、Ptは約13〜20%、Bは約4〜10%、Taが約0〜2%である。
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