【課題】基板上にパターンを精度よく描画する。
【解決手段】磁気シールド筐体２４の円筒部２５ａの内部に磁気キャンセル機構５０を設ける。この磁気キャンセル機構５０は、環状コイル５１，５２の相互作用により、固定子ユニット３４から発生する磁束密度Ｂｘの第１の磁界を打ち消すための、磁束密度がＢｃの第２の磁界を発生させる。これにより、第１の磁界と第２の磁界とが相殺し結果的に、磁気シールド筐体２４からの漏れ磁束の発生が回避される。 （もっと読む）

【課題】
取得画像の像質や分解能の劣化を防ぐことができる走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡の画像の改良方法を提供する。
【解決手段】
試料に電子ビームを照射し該試料から発生する二次信号の情報を画像化する走査型電子顕微鏡において、前記電子ビームを前記試料で走査する走査信号を補正する補正データを格納する記憶部と、該記憶部へ格納された補正データを用いて前記走査信号を補正する補正回路と、該補正回路で補正された走査信号を用いて得られた画像を表示するディスプレイとを備え、該ディスプレイには、さらに、前記補正データに基づいて生成された補正データ波形が表示される。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線加工装置において、ビーム絞りから発生するスパッタ物によるチャージング現象に起因する加工不良を回避し、装置の稼働率を向上させることに関する。
【解決手段】
本発明は、ビーム絞りの材料として、ビーム絞りから放出されるスパッタ粒子により生成した、ビーム絞りの下流にある光学素子表面上の付着膜が、導電性を示す材料を用いることに関する。好ましくは、ビーム絞りの材質を、カーボンまたは、その化合物とする。また、好ましくは、ビーム絞りの下流側に、電位を与えた電極を配置する。 （もっと読む）

【課題】荷重の集中点を形成することなく、装置本体の振動を好適に抑制できる荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線銃２が備わる試料室４を含んでなる装置本体１０が、フレーム構造体である支持台１１に支持される荷電粒子線装置１であって、支持台１１に配設される除振装置６が、装置本体１０に取り付けられる支持部材５ａを下方から支持するとともに、装置本体１０の少なくとも一部は、除振装置６が支持部材５ａを支持する高さより低い位置にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エミッタンス測定およびリボンビームの強度分布均一化を簡易な手段で実施できるようにする。
【解決手段】イオンビームＩＢの軌道上に設けられて、そのビーム強度分布を測定するビームプロファイルモニタと、イオンビームＩＢを挟んでｘ方向に対向配置され、互いの間でイオンビームＩＢを通過させる開口を形成する一対のビーム遮蔽部材６とを利用する。そして、ビーム遮蔽部材６の少なくとも一方を、ｙ方向には隙間なく、かつ、ｘ方向には独立して進退可能に設けられた複数の可動遮蔽板６１からなるものとしたうえで、可動遮蔽板６１の位置を調整して、対向するビーム遮蔽部材６との間に微小開口Ｐを形成し、微小開口Ｐを通過したイオンビームＩＢについての強度分布測定結果から、イオンビームＩＢのエミッタンスを算出するように構成した。 （もっと読む）

【目的】本発明は、磁気遮蔽特性を有する配管あるいは容器に設けられたフランジを相互に接続する磁気遮蔽フランジに関し、ＩＣＦの真空シールを保全したままで浮遊磁場を究極迄遮蔽することを目的とする。
【構成】磁気遮蔽特性を有する第１の材質で形成し、固定具で相互に圧接させる磁気遮蔽フランジ部と、磁気遮蔽フランジ部に溶接し、ガスケットを圧接して真空シールする、充分な磁気遮蔽特性を有しないが充分な圧接を繰り返し可能な第２の材質で作成したエッジ部と、エッジ部と磁気遮蔽フランジ部とが接触する両者の内側の部分に、エッジ部に繋がる部分に所定幅で所定高さに形成した第１の溶接部、および磁気遮蔽フランジ部に繋がる部分に所定幅で所定高さよりも若干高く形成した第２の溶接部とを備える。 （もっと読む）

【課題】Ｇａ液体金属イオン源(LMIS)のイオン放射(エミッション)を安定に、かつ、長寿命にする。
【解決手段】Ｇａ液体金属イオン源２−１のエミッタ２−１１は、構成材料として母材のＷ１２と、表面を覆うイオン源材料のＧａ９を含んで構成されている。スパッタ粒子１１がＧａ液体金属イオン源２−１の構成材(Ｗ,Ｇａ)となるようにすることにより、スパッタ粒子１１がＧａ液体金属イオン源２−１に付着した場合でもＧａ９の物性を変えるような汚染が生じない。ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３としてＷアパーチャを用い、ビーム照射領域７−１に掛かる部分の表面に約２５ｍｇのＧａ(融点３０℃)を置く(Ｇａ溜り１０)。ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３にイオン照射すると、照射領域７−１のＧａが溶融してＷアパーチャのビーム照射領域の表面にＧａが拡散する。 （もっと読む）

【課題】イオン注入装置内部部品、例えば、フライトチューブ、各種スリット、電極、電極カバー、ガイドチューブ、ビームストップ等に使用される黒鉛部材から黒鉛粒子が脱落したり、該部材上に堆積した熱分解炭素が剥離したりするのを防止し、イオン注入装置内の発塵を低減する。
【解決手段】イオン注入装置用黒鉛部材の耐熱衝撃係数を５４〜９６ｋＷ／ｍにする。 （もっと読む）

【課題】低エネルギーの荷電粒子の静電偏向器への流入を減らすことができ、描画精度の向上をはかる。
【解決手段】荷電粒子源から放出された荷電ビームを試料上の所望の位置に照射することでパターン形成を行う荷電ビーム描画装置であって、荷電粒子源１０と試料５０との間に設けられ、偏向を受けない荷電ビームの軌道である光軸方向に沿って２段以上の小偏向器を設置して構成され、荷電ビームを電場によって偏向するための静電偏向器３２と、静電偏向器３２の光軸方向に隣接する小偏向器の間に設けられ、光軸方向の下流側の小偏向器の光軸方向と直交する方向の対向距離よりも開口径が短いアパーチャを有し、静電偏向器３２で偏向すべき荷電ビームよりも低いエネルギーの荷電粒子を取り除くためのアパーチャマスク６０と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】電磁石により形成される定常磁場の時間的揺らぎをより低減することが可能な磁場の補正装置を提供する。
【解決手段】電磁石の定常磁場の時間的揺らぎを検出するための変動磁場検出手段と、この変動磁場検出手段により検出した定常磁場の時間的揺らぎに相当する検出信号の振幅を増幅するための増幅手段と、この増幅手段により振幅が増幅された検出信号に基づいて、定常磁場の時間的揺らぎを低減するような補正信号を発信し、この補正信号に基づいて定常磁場の時間的揺らぎを低減する磁場を発生するための磁場補償手段とを有する定常磁場の補正装置において、前記変動磁場検出信号により検出された検出信号と、前記磁場補償手段により発信された補正信号との間の位相差を調整するための位相差調整手段を、前記増幅手段と前記磁場補償手段との間に設けることを特徴とする、補正装置。
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