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国際特許分類[H01J49/10]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 粒子分光器または粒子分離管 (1,755) | 細部 (827) | イオン源;イオン銃 (433)

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試料を分析するシステムおよび方法を記載する。本システムは、各々別個の検出領域で検出される複数のイオンビームを形成するイオンソースおよび偏向器を含む。検出システムは、検出領域から得られる情報を使用して試料を分析する。

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濃度の高い被験試料をイオン気化した分析装置(10)のイオン化室に、イオン導入量制御手段(8)を設け、イオン引出電極(9)に導入する被験試料イオンの量を制御するため、質量スペクトルの分析および吸収・発光・散乱スペクトルの分析を略同時に行うことができる分析装置を提供することができる。さらに、スプレイヤー(104)に導入される前の上記被験試料溶液を冷却する低温浴(106)と、上記スプレイヤーおよび、上記スプレイヤー(104)に導入された上記被験試料溶液を冷却する、上記スプレイヤーとは独立した構造の冷却ガス導入管(108)とを備えことにより、高電圧印加時における被験試料の加熱を効果的に抑制することが可能となることから、極低温下でのみ安定な被験試料を用いた場合であっても、質量スペクトル分析と吸収・発光・散乱スペクトル分析とを略同時に行うことができる。 (もっと読む)


本発明は、電気スプレー構造(1)に組み込まれたマイクロ流体チップ(10)を含むマイクロ流体デバイスに関し、マイクロ流体チップは、出口アパーチャ(12)を通してマイクロ流体チップの表面領域に連通する少なくとも1つのマイクロ流体チャンネル(11)を含み、電気スプレー構造は少なくとも1つの細く平らな先端部(3)を含み、その先端部には、スプレーされる液体を噴出するためのアパーチャを形成するために先端部の終端(5)で終わるキャピラリースロット(4)が提供される。電気スプレー構造は、先端部(3)がマイクロ流体チップ(10)に対し片持ちされるように、またマイクロ流体デバイスの出口アパーチャ(12)が先端部のキャピラリースロット(4)に連通するように、マイクロ流体チップの表面領域に配置され、そのマイクロ流体デバイスは、スプレーされる液体に電気スプレー電圧を印加するための手段をも有する。
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装置および方法が提供される。この装置は、導電性ホルダ内に配置した導電性ユニオンと、ホルダと接続し、導電性ユニオンと流体連通できる第1のフィッティングと、このフィッティング内に配置してあり、軸線に沿って導電性ユニオンと連通しているスプレー・チップとを含む。装置は、また、第2のホルダに接続し、第2の導電性ユニオンと連通できるフェルールおよびフィッティングと、フェルール内に配置してあり、軸線に沿って第1の導電性ユニオンおよびスプレー・チップと流体連通している管とを含む。アセンブリは、また、第1、第2の導電性ユニオンに着脱自在に固定してあり、これら第1、第2の導電性ユニオンが、それぞれ、第1、第2の電圧レベルに電気的に接続したときに第1、第2の導電性ユニオンを電気的に絶縁する絶縁部材を含む。 (もっと読む)


一次イオンビームを作り出すイオン源を有する質量分析器であって、イオン源は、加熱可能なイオンエミッタを有しており、イオンエミッタは、液体金属層で被覆されており、液体金属層は、主に純粋な金属性ビスマスまたは低融点の、主にビスマスを含有する合金からなり、電場の影響下でイオンエミッタを用いてビスマスイオン混合ビームが放射可能であり、ビスマスイオン混合ビームから、それらの質量が単原子の1重または多重に電荷されたビスマスイオンBiP+の複数倍となる複数のビスマスイオン種のうちの1種が、質量の純粋なイオンビームとしてろ過可能であり、該イオンビームは1種類のBiP+イオンのみから成っており、その際n≧2およびp≧1であり、かつnとpはそれぞれ自然数である。
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【解決手段】
多重反射飛行時間型質量分析計(MR−TOF MS)及び分析方法を開示する。イオンの飛行経路が、静電ミラーによって軌道に沿って折り返される。適度な機器サイズを維持しながら飛行経路が長いほど分解能が高くなる。 (もっと読む)


【課題】 イオン放出体と基準電圧印加部の間の電位差の変動の発生を抑制し、イオン放出量を安定化させ、精度の高い質量分析を行えるイオン付着質量分析装置のイオン源を提供する。
【解決手段】 放出体12と、この放出体にバイアス電圧を印加する電圧印加部11とを有し、放出体を加熱して正電荷の金属イオンを放出させ、金属イオンを被検出ガスに付着させて被検出ガスをイオン化するイオン付着質量分析装置のイオン源である。放出体12の材質を変えることにより、放出体のイオン放出点と電圧印加部の基準電圧印加部11aとの間の電気抵抗を低減する。基準電圧印加部とイオン放出点との間の距離を短くすることにより、放出体のイオン放出点と電圧印加部の基準電圧印加部との間の電気抵抗値を1010Ω以下に低減する。また基準電圧印加部の表面に薄膜状放出体を形成することもできる。 (もっと読む)


【課題】 超音速分子ジェットによる試料導入のレーザー多光子イオン化質量分析技術において、バックグランドを低減し、これにより信号強度を増大する測定装置、および測定方法を提供する。
【解決手段】 上記課題は、分子ジェットを形成するパルスバルブを備えた試料導入部と、パルスレーザー光発振器と、該発振器から発せられたレーザー光が通過しうる窓を有する真空イオン化室または相当する部位と、該レーザー光によってイオン化された分子の質量を分析する質量分析計を有し、前記真空イオン化室を排気するポンプにターボ分子ポンプが使用されていることを特徴とするレーザーイオン化質量分析装置によって解決される。 (もっと読む)


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