【課題】酸化マグネシウムと酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属酸化物とを含みながらも吸湿性が低く、かつ電子ビーム蒸着法やスパッタリング法などの物理的気相成長法により二次電子放出係数が高い膜を製造することができる成膜用材料を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムと酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属酸化物とを、マグネシウムとマグネシウム以外のアルカリ土類金属のモル比として９８：２〜８０：２０の範囲となる割合にて含み、相対密度が９５．０〜９９．９％の範囲にある複合アルカリ土類金属酸化物であって、さらに価数が３価、４価又は５価のいずれかである少なくとも一つの金属元素の酸化物を、上記のアルカリ土類金属１モルに対して、該金属元素の量として０．０００２〜０．１モルの範囲となる量にて含有する複合アルカリ土類金属酸化物。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを改造することなく、また工数も大きく増加させることなく、高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを簡単に形成し、さらに低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】基板の位置を認識するためのアライメントマークを形成する工程を有するフラットパネルディスプレイの製造方法であって、アライメントマークは、基板上に前記感光性ペーストを塗布するステップと、塗布した膜を乾燥して感光性膜とするステップと、感光性膜を露光することによりアライメントマークを形成するステップとを有し、かつ乾燥した感光性膜の反射率を測定するステップと、乾燥した感光性膜の反射率の測定結果に基づき、乾燥するステップの条件を変更することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保護層の不良を早期に検出し、より短い時間で歩留りの改善を実現するＰＤＰの製造方法を提供する。
【解決手段】下地膜の表面に、揮発性溶剤に金属酸化物の結晶を含む微粒子を分散させたペーストを塗布することにより塗布膜を形成するステップ１と、塗布膜を乾燥させることにより塗布膜の表層部に微粒子を露出させるステップ２と、乾燥後の塗布膜における微粒子の被覆率により塗布膜の出来栄え検査を行うステップ３と、塗布膜を焼成することにより下地膜上に微粒子を付着させるステップ４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを改造することなく、また工数も大きく増加させることなく、高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを簡単に形成し、さらに低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】基板の位置を認識するためのアライメントマークを形成する工程を有するフラットパネルディスプレイの製造方法であって、アライメントマークは、基板上に前記感光性ペーストを塗布するステップと、塗布した膜を乾燥して感光性膜とするステップと、感光性膜を露光することによりアライメントマークを形成するステップとを有し、感光性ペーストは、乾燥するステップの温度よりも高い沸点を有する感光性モノマーを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を０〜８、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１２、ＺｎＯを２〜７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．５〜３、ＣｕＯを０．５〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３を８０〜９０、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．１〜３、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜３含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ法において低仕事関数な硼化ランタン膜を再現性良く、均一性高く製造する。
【解決手段】 酸素含有量が０．４ｍａｓｓ％以上１．２ｍａｓｓ％以下である硼化ランタンのターゲットと基板とを対向配置した状態で、スパッタ法により前記基板に硼化ランタン膜を成膜する工程を備え、成膜時のスパッタガス分子の平均自由工程をλ（ｍｍ）、前記基板と前記ターゲットとの距離をＬ（ｍｍ）としたときに、Ｌ／λが２０以上に設定され、放電電力をターゲット面積で除した値が１Ｗ／ｃｍ^２以上５Ｗ／ｃｍ^２以下に設定される。 （もっと読む）

【課題】段差形成部材２の上面に設けられたゲート５と、段差形成部材２の側面２０におけるゲート５の直下に形成された凹部７と、段差形成部材２の側面２０に設けられ、上端に凹部７の下縁から上縁に向かって突起した突起部６ａを有するカソード６とを備えた電子放出素子について、電子放出効率を向上させると同時に、素子に流れる電流のバラツキを抑制する電流制限用の抵抗層を素子の構成部材の一部として組み込む。
【解決手段】段差形成部材２の側面２０は、凹部７の下縁から高さ方向中間部３０までの上段２１の傾斜角θ１より、高さ方向中間部３０から下端までの下段２２の傾斜角θ２が大きくなっており、しかもカソード６の上段２１の部分である上段カソード部分６ｂよりもカソード６の下段２２の部分である下段カソード部分６ｃの電気的抵抗値が大きい電子放出素子とする。 （もっと読む）

【課題】容易に微細パターンを形成することができるパターン状電子源の製造方法、パターン状電子源を提供する。
【解決手段】表面が導電性を有する第１の基板２上に第１のパターン５を形成し、当該第１のパターン５に沿って１または２以上の第１のエミッタ１０を設けて第１のフィールドエミッション部１を形成するステップと、前記第１のエミッタ１０から電子線を照射して表面が導電性を有する第２の基板１６上に第２のパターン１８を形成し、当該第２のパターン１８に沿って１または２以上の第２のエミッタを設けて第２のフィールドエミッション部１５を形成するステップとを備え、前記第２のフィールドエミッション部１５を複数形成してパターン状電子源２５を製造する。 （もっと読む）

【課題】保護層の電子放出特性を向上し、高精細で高画質な画像表示性能を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】互いに平行な複数の表示電極対とこれを覆う誘電体層と保護層とを前面基板に形成する前面基板作製ステップを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前面基板作製ステップの保護層を形成する保護層形成ステップ（Ｓ１３）が、誘電体層に下地膜を形成する下地膜形成ステップ（Ｓ１４）と、その後、下地膜の上に金属酸化物の結晶粒子が複数個凝集した凝集粒子を分散配置する凝集粒子配置ステップ（Ｓ１５）とを含み、凝集粒子配置ステップ（Ｓ１５）は、凝集粒子と溶媒との塗布液を下地膜に対向して開口したスリットノズルから吐出させて下地膜に塗布する塗布ステップと、待機時間において、スリットノズルの開口方向を１８０度変更する待機ステップをさらに含む。 （もっと読む）

【課題】保護層の電子放出特性を向上し、高精細で高画質な画像表示性能を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】互いに平行な複数の表示電極対とこれを覆う誘電体層と保護層とを前面基板に形成する前面基板作製ステップを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、保護層を、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、および酸化バリウムの群から選ばれる少なくとも１つ以上の金属酸化物により形成するとともに、前面基板作製ステップが、保護層を形成した後の前面基板を、酸素が存在する雰囲気下において３５０℃以上４００℃未満の温度条件で焼成する焼成ステップ（Ｓ１５）を含む。 （もっと読む）