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国際特許分類[H01J9/02]の内容

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【課題】前面板の誘電体層でのクラックが効果的に防止または軽減されたPDPを提供すること。
【解決手段】基板A上に電極Aと誘電体層Aと保護層とが形成された前面板と、基板B上に電極Bと誘電体層Bと隔壁と蛍光体層とが形成された背面板とが対向配置されて成るPDPであって、前面板の誘電体層Aがシロキサン骨格(またはシロキサン結合)を含んだガラス材料を含んで成り、隔壁が下層部と上層部とから成る2層構造となっており、下層部が誘電体層B上に設けられ、上層部が下層部の上に設けられたPDP。かかるPDPでは、隔壁上層部の硬度が前面板の誘電体層Aの硬度以下となっている。 (もっと読む)


【課題】大画面化、高精細化に適するプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【解決手段】PDP1の保護膜8を、主成分であるCeOに対し、Srが11.8mol%以上49.4mol%以下の濃度範囲で添加され、結晶構造としてはCeOの結晶構造であるホタル石構造を保持し、且つ、(100)配向を有する下層保護膜8aと、これを覆うように(111)配向を有する上層保護膜8bを積層させて構成する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。
【解決手段】基板10上に、レーザ光を用いて金属層30のパターンを形成する金属パターン付き基板の製造方法であって、表面に前記金属層が形成された基板を用意する工程と、前記金属層上に、前記金属層と異なる金属材料から構成され、前記レーザ光に対する光吸収率が前記金属層と異なるアシスト層40を形成し、前記基板上に金属の積層体50を形成する工程と、該積層体にレーザ光81を照射し、該積層体のレーザ光照射部位を除去することにより前記金属層をパターニングし、金属パターンを形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】耐酸性に優れたアドレス電極を形成することが可能な導電ペースト、及び耐酸性に優れた導電パターンを提供する。
【解決手段】導電粉末と、酸化ビスマス、シリカ、酸化ホウ素、ジルコニアとチタニアのうち少なくともいずれか、RO(ROは、BeO、MgO、CaO、BaO、SrOから選ばれる少なくとも一種)、RO(R2Oは、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2Oから選ばれる少なくとも一種)、を含むガラスフリットと、を含む無機成分、及び、有機バインダー、を含有する。 (もっと読む)


【課題】機械的にパターン形成されたIII族窒化物の層を製造する方法を提供する。
【解決手段】本方法は結晶質基板を提供すること、および基板の平坦な表面上にIII族窒化物の第1の層を形成することを含む。第1の層は単一極性であり、また基板の一部を露出する孔または溝のパターンを有する。次いで、本方法は、第1の層と基板の露出部の上に第2のIII族窒化物の第2の層をエピタキシャル成長することを含む。第1および第2のIII族窒化物は異なる合金組成物を有する。また、本方法は第2の層を塩基の水性溶液に曝し、第2層を機械的にパターン形成することも含む。 (もっと読む)


【課題】設計自由度が高く曲げ強度が高く極めてアスペクト比が高いニードルを提供する。
【解決手段】最小幅1μm以上の連続領域を保護する膜であるリード保護膜R1をシリコン基板100の主面101の一カ所以上に形成する工程と、シリコン基板100の主面101のリード保護膜R1から露出している領域を垂直方向にエッチングすることによって直柱体102を形成する工程と、直柱体102の内部に酸化されずに残る直柱体領域104の横断面最大幅が1μm未満になるまでシリコン基板100を熱酸化する工程と、シリコン基板100に形成された酸化膜103を除去することによって、直柱体領域104からなるリードと、底に向かって広がるフレア面を側面とし頂からリード104が突出するマウント105とを有しシリコンからなるニードル10を形成する工程と、を含むシリコンナノニードルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】加熱時にヒーターからの輻射熱を遮ることなく、冷却時に被処理物との間に周辺から流れ込む冷気によって発生する被処理物の端部の温度ムラを低減できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱時に被処理物11に接することなく被処理物11の周囲を囲うように可動板14を配設し、冷却時には可動板14が回転して被処理物11の周囲および被処理物11の周縁部に接することなく囲うように、被処理物11の面11bとの隙間を形成することで、冷却時における被処理物の端部をガス流れ抵抗を大きくして、ガス流れによる被処理物の端部の温度変化を抑える。 (もっと読む)


【課題】前面基板と背面基板との間隔を一定に保持し、聴感ノイズの発生やクロストークの発生を抑制したPDPを実現する。
【解決手段】互いに平行な複数の表示電極対14と誘電体層15と保護層16とが形成された前面基板11と、互いに平行な複数のデータ電極18と下地誘電体層19と隔壁20と蛍光体層とが形成された背面基板17とを、間に放電空間を形成するように隔壁20を挟んで対向配置し周囲を封着材で封着したPDP10であって、下地誘電体層19を背面基板17の外周領域40を除く内周領域41に設け、封着材を外周領域40に設けた第1封着材25と内周領域41に設けた第2封着材28とで構成し、第1封着材25中に大径粒状物質29を配置するとともに、第2封着材28に小径粒状物質30を配置し、大径粒状物質29の粒径を小径粒状物質30の粒径よりも下地誘電体層19の膜厚分だけ大きくする。 (もっと読む)


【課題】化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】酸化物のモル%表示で、SiO:26〜40%、Al:4〜25%、B:20〜50%、ZnO:0.1〜4%、MgO、CaO、SrO及びBaOの少なくとも1種:2〜13%、LiO、NaO及びKOの少なくとも1種:10〜30%、但し、LiO:0〜25%、NaO:0〜20%、KO:0〜17%を含有する無鉛ガラス組成物である。 (もっと読む)


【課題】長寿命化かつ安定した電子放出特性を有する冷陰極蛍光ランプ用電極を提供する。
【解決手段】冷陰極蛍光ランプ1用電極7は、内面に蛍光体皮膜層3を有するガラス管内に放電媒体4を封入し、前記ガラス管内に封入された一対のカップ形状の電極を備える冷陰極蛍光ランプであって、カップ形状電極の内面に酸化物セラミックス膜8を成膜し、さらにその最上層にDLC膜9を形成する。 (もっと読む)


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