【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板搬送の負荷を低減させる。
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション５は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄するウェハ洗浄部１４１と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査するウェハ検査部１４２と、ウェハ洗浄部１４１とウェハ検査部１４２との間でウェハＷを搬送する搬送手段１４３を有している。ウェハ洗浄部１４１、ウェハ検査部１４２及び搬送手段１４３は、筐体１４０の内部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】簡易な処理液供給装置を用いて処理液中の異物を低減し、基板の欠陥を低減する。
【解決手段】レジスト液供給装置１００は、レジスト液を貯留するレジスト液供給源１０１と、レジスト液供給源１０１から塗布ノズル３２にレジスト液を供給する供給管１０２と、供給管１０２に設けられ、レジスト液を一旦貯留させるキッドエンドタンク１０３と、供給管１０２に設けられ、レジスト液を流通させるポンプ１０４と、供給管１０２に設けられ、レジスト液中の異物を捕集して離脱させないフィルタ１０５と、供給管１０２に設けられ、レジスト液の流通を遮断するトラップ１０６と、供給管１０２に設けられたバルブ１０７と、供給管１０２内を流通するレジスト液をフィルタ１０５に少なくとも１回往復通過させて、当該レジスト液を塗布ノズル３２に供給するようにポンプ１０４を制御する制御部２００と、を有している。 （もっと読む）

【課題】基板の上のインプリント材から型を離型するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材を型で成形して硬化させ、硬化したインプリント材と前記型とを離すことで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型を保持して移動する保持部と、前記基板を保持して移動するステージと、前記インプリント処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記基板のショット領域のうち外周ショット領域に前記インプリント処理を行う際には、前記外周ショット領域に対して供給されたインプリント材のうち前記基板の半径方向に沿って最も外側の部分の少なくとも一部が前記型と最後に離れるように、前記保持部及び前記ステージの少なくとも一方を制御することを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板を基板テーブル上に、低応力または応力がない状態で位置決めする。
【解決手段】パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するように配置されたリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板を基板テーブル上に位置決めするように配置されたグリッパと、を備える。グリッパは、基板をその上面においてクランプするように配置された真空クランプを有する。一実施形態では、真空クランプは、基板頂面の周縁外側帯の少なくとも一部をクランプするように配置される。グリッパを用いて、基板をリソグラフィ装置の基板テーブル上に位置決めすることを含む基板ハンドリング方法も提供される。かかる方法は、グリッパの真空クランプを用いて基板をその上面においてクランプすることを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置においてウェーハの露光前の熱調整を改善または簡易化する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板テーブルを受けるように構成された区画と、露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整するように配置された熱調整ユニットと、熱調整された基板を基板テーブルへ移送するように構成された移送システムと、を備え、基板テーブルおよび熱調整ユニットは、少なくとも熱調整された基板が熱調整ユニットから基板テーブルへ移送される間、リソグラフィ装置の前記区画内に配置される。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する。
【解決手段】
一実施形態は、電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する装置に関する。内部電極は、パターン生成装置を取り囲み、その内部電極の周りには、少なくとも１つの外部電極がある。内部電極及び外部電極の各々は、パターン生成装置の平面内に、平坦な表面を有する。回路は、内部電圧レベルを内部電極に印加し、少なくとも１つの外部電圧レベルを少なくとも１つの外部電極に印加するように構成されている。電圧レベルは、電子ビームリソグラフィーシステム内の像面の反りを補正するように設定され得る。別の実施形態は、電子ビーム検査システム又は再検査システム又は計量システム等の電子ビーム基盤型システム内で利用される収差を補正する装置に関する。他の実施形態、態様及び特徴も開示される。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第１方向に沿って形成され、前記基板に第１薬液を吐出する第１吐出部と、横方向が前記第１方向に沿って形成され、前記基板に第２薬液を吐出する第２吐出部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】チャンバーの内部の温度変化を最少化する基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、基板を搬入する搬入口が形成されたチャンバーと、前記チャンバー内に設置され、搬入された前記基板が位置する支持部材と、前記支持部材との間で熱伝導可能に設置される温度調節部材と、を含む。前記チャンバーには、前記支持部材よりも低い位置にある下部空間に気体を流入させる流入口と、前記支持部材よりも高い位置にある上部空間の気体を排気させる流出口と、が形成される。 （もっと読む）

【課題】レーザ耐力が異なる欠陥を１台で修正可能なリペア装置、およびリペア方法を提供する。
【解決手段】本発明の位置決め装置は、載置ステージと、対象物を撮像する撮像部と、差画像データにより欠陥を抽出する第１欠陥抽出部と、レーザ照射範囲を設定するレーザ形状制御部と、レーザ光を照射する光源と、前記レーザ形状制御部が設定した照射範囲にレーザ光を照射する第１光学系と、差画像データと輝度情報により、欠陥を抽出する第２欠陥抽出部と、前記第２欠陥抽出部が抽出した欠陥の一部にスポット照射する第２光学系と、前記光源から照射されたレーザ光の光路を、前記第１光学系と前記第２光学系とに切り替える切替部と、を備える。 （もっと読む）