国際特許分類[H01L21/683]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置 (11,346) | 支持または把持のためのもの (4,099)
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機械的手段を使用するもの,例.チャック,クランプ,またはピンチ
国際特許分類[H01L21/683]に分類される特許
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槽キャリア及び基板処理装置
【課題】複数枚の基板とともに処理部を移動することにより、流体の使用量を低減することができる槽キャリアを提供する。
【解決手段】筐体3内の支持部材11に複数枚の基板Wを支持させた槽キャリア1を所望の処理部に移動させる。そして、筐体3に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Wに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。また、基板Wの受け渡しの機会を少なくできる。
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基板保持部材および当該半導体保持部材への半導体基板の取り付け位置調整方法
【課題】部材の位置合わせに係る工程数を減少させ、位置合わせに要する時間を短縮し、半導体製造装置の生産性を向上させる。
【解決手段】基板保持部材1は、半導体基板11を保持する保持面を備えたベース2と少なくとも1つの開口部を有していて保持面と対向するようにベース2上に支持されたマスク9とを備えている。さらに、基板保持部材1は、保持面とマスク9との間に、半導体基板11が挿通される基板挿通部14を備えている。
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サセプタ、半導体製造装置及び半導体製造方法
【課題】成膜時の温度制御が可能となり、ウェーハ上に成膜された膜厚のバラツキを極めて少なくし、生産性を高めた半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。
【解決手段】サセプタ11は、ウェーハwの径より小さく、表面に凸部12b(温度制御板となる)を有するインナーサセプタ12と、中心部に開口部を有し、インナーサセプタを開口部が遮蔽されるように載置するための第1の段部と、この第1の段部の上段に設けられ、ウェーハを載置するための第2の段部を有するアウターサセプタ13を備える。
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
【課題】複数の基板を搬送可能なトレイを備えるプラズマ処理装置において、トレイの効果的な冷却と消耗抑制を実現する。
【解決手段】トレイ3の基板収容孔27A〜27Iの孔壁には基板5の下面cの外周縁部分を支持する基板支持部11が設けられている。ステージ21の基板載置部27A〜27Iは、基板収容孔4A〜4Iに挿入され、基板載置面28に基板支持部11から基板5が受け渡される。基板支持部11の下側部は、突出量がトレイ3の上面3a側に向けて漸次増加するテーパ状面11bである。基板載置部11の側面はテーパ状面11bと適合する傾斜面29であり、ステージ21の基部21aとトレイ3との間に間隔S1が形成されるように、テーパ状面11bに当接して支持する。
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基板処理装置
【課題】基板の清浄度を向上させること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持されている基板Wの外周より外側に配置されているカップ6とを含む。カップ6は、気体吐出口から基板W上に向けて気体を吐出することにより、基板Wの上面に沿って流れる気流を形成する。この気流によって基板Wの上面がパーティクルやミストから保護される。
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静電チャック及び半導体・液晶製造装置
【課題】複数のチャック領域を備え、その外側領域に設けられた凹面部にウェハを搬送するためのトレイが配置される静電チャックにおいて、信頼性を向上させること。
【解決手段】ウェハ2が載置される複数のチャック領域Rと、チャック領域Rの外側領域に設けられた凹面部Cとを備えたチャック機能部10と、チャック領域Rに対応するチャック機能部10の内部と、凹面部Cに対応するチャック機能部10の内部とにそれぞれ配置された電極40,40aとを含む。
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チャックテーブル及び該チャックテーブルを備えた加工装置
【課題】 剛体からなる支持基板に貼着された被加工物を高精度に加工可能なチャックテーブル、及び該チャックテーブルを備えた加工装置を提供することである。
【解決手段】 剛体からなる支持基板と、該支持基板より小さい面積を有し該支持基板上に固定された板状物とからなる板状物ユニットを保持するチャックテーブルであって、該板状物ユニットの該支持基板側を保持する保持面と、該支持基板の外周縁より内側且つ板状物の外周縁より外側の該保持面上に形成された吸引溝と、一端が該吸引溝に連通し他端が吸引源に連通する吸引路と、を具備したことを特徴とする。
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温度測定用板状体及びそれを備えた温度測定装置
【課題】静電チャック装置の載置面に単に載置するだけで、製品となる半導体ウエハそのものを使用することなく、静電チャック装置の載置面の面内温度分布や昇温特性や降温時における冷却特性を容易に最適化することが可能な温度測定用板状体及びそれを備えた温度測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の温度測定用ウエハ(温度測定用板状体)1は、ウエハ2の表面2a全面に絶縁性接着剤3が貼着され、この絶縁性接着剤3上にヒーターエレメント4が設けられ、この絶縁性接着剤3の表面3a上のヒーターエレメント4を除く領域にウエハ2の表面2aの温度を測定するための温度測定領域5が設けられ、これらヒーターエレメント4及び温度測定領域5は絶縁膜6により被覆されている。
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リング状シールド部材、その構成部品及びリング状シールド部材を備えた基板載置台
【課題】リング状シールド部材の構成部品と基板載置台との間の隙間の発生を防止するとともに、構成部品の破損を防止することができるリング状シールド部材を提供する。
【解決手段】シールドリング15は4つのリング構成部品41〜44からなり、各リング構成部品41〜44の長手方向に関する固定端には全方位移動規制部45が設けられ、一方向移動許容部46が全方位移動規制部45から離間して設けられ、例えば、一のリング構成部品41の固定端41aの端面が、隣接する他のリング構成部品43の自由端43bの側面に当接し、一のリング構成部品41の自由端41bの側面が、隣接する別のリング構成部品44の固定端44aの端面に当接するように、各リング構成部品41〜44が組み合わせられている。
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載置台構造及び熱処理装置
【課題】均熱部材を載置台内に一体的に埋め込むようにして被処理体の面内温度の均一性を高めると共に、被処理体に対する加熱効率を高めることが可能な載置台構造を提供する。
【解決手段】処理容器4内にて被処理体Wに対して所定の熱処理を施すために前記被処理体を加熱する加熱手段38が埋め込まれると共に、前記被処理体を載置する載置台32と、前記載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持する支柱30とを有する載置台構造において、前記載置台内に、前記埋め込まれている前記加熱手段の上方に位置させて平面方向に広がった均熱部材40を埋め込むように構成する。
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