槽キャリア及び基板処理装置
【課題】複数枚の基板とともに処理部を移動することにより、流体の使用量を低減することができる槽キャリアを提供する。
【解決手段】筐体３内の支持部材１１に複数枚の基板Ｗを支持させた槽キャリア１を所望の処理部に移動させる。そして、筐体３に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。また、基板Ｗの受け渡しの機会を少なくできる。
【解決手段】筐体３内の支持部材１１に複数枚の基板Ｗを支持させた槽キャリア１を所望の処理部に移動させる。そして、筐体３に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。また、基板Ｗの受け渡しの機会を少なくできる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を処理液で処理するための槽キャリア及び基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）に収納された複数枚の基板を一括して取り込み、それらの基板を搬送して処理するものが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
具体的には、ＦＯＵＰを載置されるロードポートと、ロードポートに隣接して配置され、複数個のＦＯＵＰを収納するストッカーと、ストッカーに隣接して配置され、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板の姿勢を変換する姿勢変換部と、基板に対して各種の処理を行い、並設された複数個の処理部と、複数個の処理部に沿って配置された搬送部と、各処理部に配置され、搬送部との間で複数枚の基板を受け渡すとともに、処理部の処理位置との間で複数枚の基板を昇降するリフタとを備えている。
【０００４】
このような構成の基板処理装置は、ロードポートに載置されたＦＯＵＰがストッカーに搬入される。その後、水平姿勢でＦＯＵＰに収納されている複数枚の基板が取り出されるとともに、姿勢変換部において複数枚の基板が垂直姿勢に変換される。そして、搬送部によって複数枚の基板が所望の処理部に搬送され、リフタが複数枚の基板を受け取る。リフタが処理部の処理位置に移動して、例えば、複数枚の基板に対して処理液による処理を一括して行う。処理部による処理を終えると、リフタが処理位置から上昇し、搬送部が複数枚の基板を受け取って、姿勢変換部に複数枚の基板を戻す。そして、複数枚の基板がＦＯＵＰに収納されて、ロードポートにＦＯＵＰが搬出される。このようにしてＦＯＵＰに収納された複数枚の基板に対する処理が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２０５３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、搬送部により処理部に搬送した後に、複数枚の基板をリフタで処理部の処理位置に移動させるので、処理部にはリフタが下降できるだけの空間的な余裕が必要にある。したがって、流体を貯留する処理部の容積が大きくなり、処理液の使用量も多くなるという問題がある。
【０００７】
また、ＦＯＵＰから複数枚の基板を取り出して姿勢変換を行った後、姿勢変換部と搬送部との間と、搬送部とリフタとの間とでは複数枚の基板を受け渡す必要がある。これらの受け渡しは、複数枚の基板の端縁を直接的に把持することによって行われるので、受け渡しミスが生じると基板の破損が生じる恐れがある。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、複数枚の基板とともに処理部を移動することにより、流体の使用量を低減することができるとともに、複数枚の基板の端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることにより、受け渡しに起因する基板の破損を防止することができる槽キャリア及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、を備え、所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とするものである。
【００１０】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減することができる。また、基板の受け渡しの機会を少なくできる。
【００１１】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を前記側面開口部に密着されることが好ましい（請求項２）。
【００１２】
側面開口部に側面蓋部材が密着されて流体供給ノズルから流体が供給されるので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。
【００１３】
また、本発明において、前記筐体は、前記側面蓋部材を前記側面開口部から離反されることにより、供給された流体を排出されることが好ましい（請求項３）。
【００１４】
筐体に供給された流体は、側面蓋部材が側面開口部から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を残液が少なく良好に行うことができるので、処理時間を短縮できる。また、液を置換する場合も効率良く置換でき、処理液の使用量も低減できる。
【００１５】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁に前記側面開口部を密着されることが好ましい（請求項４）。
【００１６】
側面開口部を処理部側壁に密着されて流体供給ノズルから流体が供給される。側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、上面開口部の上縁における三方に流体を排出させることができる。
【００１７】
また、本発明において、前記筐体は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反されることにより、供給された流体を排出されることが好ましい（請求項５）。
【００１８】
筐体に供給された流体は、筐体が処理部側壁から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【００１９】
また、請求項６に記載の発明は、基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、基板に対して流体による処理を行う複数個の処理部と、流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板を支持するための支持部材とを備えた槽キャリアと、前記槽キャリアを所望の処理部に搬送し、前記筐体内に流体を供給して前記槽キャリアごと処理を行うことを特徴とするものである。
【００２０】
［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給することにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減することができる。また、槽キャリアごと搬送及び処理を行うので、複数枚の基板の端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることができる。したがって、受け渡しに起因する基板の破損を防止することができる。
【００２１】
また、本発明において、複数枚の基板を収納可能なＦＯＵＰが載置されるロードポートと、前記ロードポートのＦＯＵＰを取り込むとともに、複数個のＦＯＵＰを載置可能なストッカー部と、前記ストッカー部のＦＯＵＰと前記槽キャリアとの間で複数枚の基板を受け渡し、複数枚の基板の姿勢を、前記槽キャリアごと水平姿勢と垂直姿勢とで変換する姿勢変換部と、前記複数個の処理部に沿って移動可能に構成され、前記槽キャリアを前記処理部に搬送する搬送部と、を備えていることが好ましい（請求項７）。
【００２２】
ロードポート経由で複数個のＦＯＵＰをストッカー部に載置でき、姿勢変換部で槽キャリアごと複数枚の基板の姿勢を変換した後、搬送部で槽キャリアを処理部に搬送する。したがって、効率的に槽キャリアを搬送することができ、処理効率を向上することができる。
【００２３】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記側面蓋部材を密着させることが好ましい（請求項８）。
【００２４】
側面開口部に側面蓋部材を密着させて流体供給ノズルから流体を供給するので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。また、処理部において側面蓋部材を移動させ、槽キャリアを移動させる必要がないので、搬送部の構成を簡易化することができる。
【００２５】
また、本発明において、前記各処理部は、前記側面蓋部材を前記槽キャリアの側面開口部から離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることが好ましい（請求項９）。
【００２６】
筐体に供給された流体は、側面蓋部材が側面開口部から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮できる。
【００２７】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記処理部側壁を密着させることが好ましい（請求項１０）。
【００２８】
側面開口部を処理部側壁に密着させて流体供給ノズルから流体を供給するので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、上面開口部の上縁における三方に流体を排出させることができる。また、流体供給ノズルへの供給ラインを処理部側壁に内蔵することができるので、供給ラインの構成を簡単化できる。
【００２９】
また、本発明において、前記各処理部は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることが好ましい（請求項１１）。
【００３０】
筐体に供給された流体は、筐体が処理部側壁から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る槽キャリアによれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】実施例１に係る槽キャリアを示す縦断面図である。
【図２】槽キャリアの横断面図である。
【図３】槽キャリアの姿勢変換を示す図である。
【図４】槽キャリアに流体供給ノズルを挿入する状態を示す図である。
【図５】槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【図６】槽キャリアから処理液を排出する状態を示す図である。
【図７】槽キャリアに処理液を供給する別の形態を示す図である。
【図８】実施例２に係る槽キャリアを示す縦断面図である。
【図９】槽キャリアの姿勢変換後、流体供給ノズルを挿入する状態を示す図である。
【図１０】槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【図１１】実施例３に係る基板処理装置を示す平面図である。
【図１２】実施例４に係る基板処理装置を示す平面図である。
【図１３】実施例５に係る層キャリアを示す図である。
【図１４】変形例を示す面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の実施形態について、基板を収納する槽キャリアと、この槽キャリアを用いて処理を行う基板処理装置について説明する。
【００３４】
＜槽キャリア＞
基板Ｗを収納して処理に用いる槽キャリアの実施形態について説明する。
【実施例１】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る槽キャリアを示す縦断面図であり、図２は、槽キャリアの横断面図である。
【００３６】
本実施例に係る槽キャリア１は、複数枚の基板Ｗ（例えば、２５枚）を積層して収納するものである。槽キャリア１は、筐体３を備えている。この筐体３は、基板Ｗを収納可能な内部空間を形成するように、縦断面が逆Ｌ次状に構成されている。具体的には、筐体３は、奥側板５と、面側板７と、一対の側面板９とを備えている。奥側板５は、基板Ｗの面に垂直な方向に長手方向が一致するように構成されている。面側板７は、奥側板５の上部に取り付けられ、基板Ｗの面に平行に配置されている。なお、面側板７は、槽キャリア１の姿勢変換の説明の都合上、筐体３の上部に設けてあるが、筐体３の下部に設けるようにしてもよい。一対の側面板９は、奥側板５と面側板７の両側面に設けられている。したがって、筐体３は、図１における左側面と下面とが開放されている。
【００３７】
筐体３の内部には、複数枚の基板Ｗを支持するための支持部材１１が設けられている。具体的には、支持部材１１は、両側面板９の内壁に沿って設けられた一対の側面支持部材１３と、奥側板５の内壁に沿って設けられた奥側支持部材１５とを備えている。側面支持部材１３及び奥側支持部材１５は、横向きＶ字状の凹部を複数個形成されており、基板Ｗの一方面を当接支持し、複数枚の基板Ｗを一定の間隔をおいて積層収納する。
【００３８】
また、側面板９の外壁には、槽キャリア１を搬送したり、姿勢変換したりする際に把持される把持部１７を備えている。
【００３９】
本実施例では、槽キャリア１の処理時における位置関係を考慮して、図１の奥側板５の反対面に形成された開口を上部開口部１９と称し、面側板７の反対側に形成された開口を側面開口部２１と称する。
【００４０】
次に、図３〜図６を参照して、上記のように構成された槽キャリア１による基板Ｗの処理について説明する。なお、図３は、槽キャリアの姿勢変換を示す図であり、図４は、槽キャリアに流体供給ノズルを挿入する状態を示す図であり、図５は、槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図であり、図６は、槽キャリアから処理液を排出する状態を示す図である。
【００４１】
複数枚の基板Ｗが収納されている槽キャリア１を姿勢変換する。具体的には、図示しない姿勢変換部に把持部１７を把持させ、水平姿勢の基板Ｗが垂直姿勢となるように、槽キャリア１の面側板７が上側から右側に位置するように回転移動させる（図３）。これにより、槽キャリア１の奥側板５が底部に位置し、面側板７が右側面に位置して、上部開口部１９が上側に、側面開口部２１が左側に位置する。
【００４２】
処理液を供給する側面蓋部材２３を槽キャリア１に移動して、側面蓋部材２３に取り付けられた流体供給ノズル２５を側面開口部２１から筐体３の内部に挿入する。側面蓋部材２３は、面側板７と同等の板状部材である。側面蓋部材２３の下部には、一対の流体供給ノズル２５が取り付けられている。一対の流体供給ノズル２５は、基板Ｗの端縁と筐体３の内壁との隙間に挿通可能な位置及び間隔で設けられている。各流体供給ノズル２５は、上面に複数個の噴射口２７が形成されている。流体供給ノズル２５の延出長さは、側面蓋部材２３の内壁から筐体３の奥側板５の内壁長さに相当する長さである。流体供給ノズル２５は、図示しない処理液供給源に連通接続されている。また、流体供給ノズル２５の下部であって、側面蓋部材２３の内壁のうち、奥側板５と側面板９の端面に相当する位置にはシール部材２９が埋設されている。
【００４３】
側面蓋部材２３を筐体３に密着させると、筐体３は、シール部材２９でシールされ、液体を貯留可能な容器状となる（図５）。そして、流体供給ノズル２５から処理液を供給する。すると、筐体３の下部から供給された処理液が上方に向かい、上面開口部１９から溢れ、複数枚の基板Ｗに対して処理液が作用する。これをレシピに応じた所定時間だけ維持することにより、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理が行われる。
【００４４】
処理液の供給を所定時間行った後は、処理液ノズル２５からの処理液の供給を停止し、側面蓋部材２３を側面開口部２１から離反させる。すると、筐体３に貯留していた処理液は、側面開口部２１から急速に排液される。
【００４５】
本実施例によると、筐体３内の支持部材１１に複数枚の基板Ｗを支持させた槽キャリア１を所望の処理部に移動させる。そして、筐体３に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。
【００４６】
また、側面開口部２１に側面蓋部材２３が密着されて流体供給ノズル２５から処理液が供給されるので、側面開口部２１から挿入された液体供給ノズル２５より供給された処理液は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部１９の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。
【００４７】
さらに、筐体３に供給された処理液は、側面蓋部材２３が側面開口部２１から離反されると、側面開口部２１から排出される。したがって、筐体３の側面全体を開放するので、短時間で残留液がほとんどない処理液の急速排水を行うことができ、処理時間を短縮できるとともに、次に使う処理液との置換効率も良くなるので、使用液量の削減にもなる。また、装置にトラブル等が発生した場合で、筐体３内の処理液を直ちに排出したいような場合も、側面蓋部材２３を開放するだけで急速排液ができる。
【００４８】
なお、上記の説明では、側面蓋部材２３を槽キャリア１の側面開口部２１に密着させて処理液を供給した。しかし、これに代えて図７に示すようにしてもよい。なお、図７は、槽キャリアに処理液を供給する別の形態を示す図である。
【００４９】
流体供給ノズル２５は、基板Ｗに対して各種の処理を行う処理部に設けられた処理部側壁３１から延出されている。この場合には、槽キャリア１を処理部側壁３１側に移動させる（図７）。そして、槽キャリア１の側面開口部２１を処理部側壁３１に密着させた後、上述したようにして流体供給ノズル２５から処理液を供給して、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理を行う。
【００５０】
このような構成によると、側面開口部２１を処理部側壁３１に密着されて流体供給ノズル２５から処理液が供給される。側面開口部２１から挿入された流体供給ノズル２５より供給された処理液は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、上面開口部１９の上縁における三方に流体を排出させることができる。さらに、筐体３に供給された処理液は、筐体３が処理部側壁３１から離反されると、側面開口部２１から排出される。したがって、処理液の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【実施例２】
【００５１】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図８は、実施例２に係る槽キャリアを示す縦断面図である。なお、上述した実施例１と同じ構成については同符号を付すことにより詳細な説明については省略する。
【００５２】
本実施例に係る槽キャリア１Ａは、筐体３Ａの開口が一面だけである点において上記実施例１と構成が相違する。筐体３Ａは、奥側板５と、面側板７と、供給側板３３とを備えている。供給側板３３は、面側板７に対向する位置に設けられている。供給側板３３の奥側板５側には、ノズル開口３５が形成されている。ノズル開口３５は、供給側板３３側から見て、基板Ｗの端縁と筐体３Ａの内壁との間に位置するように形成されている。また、このノズル開口３５は、流体供給ノズル２５が挿入可能な内径を有する。
【００５３】
次に、図９及び図１０を参照して、上記のように構成された槽キャリア１Ａによる基板Ｗの処理について説明する。なお、図９は、槽キャリアの姿勢変換後、流体供給ノズルを挿入する状態を示す図であり、図１０は、槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【００５４】
図９に示すように、複数枚の基板Ｗが収納されている槽キャリア１Ａを姿勢変換する。次に、槽キャリア１Ａの供給側板３３にノズル保持部材３７を移動する。ノズル保持部材３７は、流体供給ノズル２５を保持している。ノズル保持部材３７のうち、流体供給ノズル２５を保持している側には、流体供給ノズル２５の周囲にＯリング３９が埋設されている。ノズル保持部材３７の移動は、流体供給ノズル２５がノズル開口３５に挿通されるように行われる。Ｏリング３９がノズル開口３５を液密にした後、図１０に示すように、流体供給ノズル２５から処理液を供給する。すると、筐体３Ａの下部から供給された処理液が上方に向かい、上面開口部１９から溢れ、複数枚の基板Ｗに対して処理液が作用する。これをレシピに応じた時間だけ維持することにより、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理が行われる。
【００５５】
処理液の供給を所定時間行った後、流体供給ノズル２５からの処理液の供給を停止し、ノズル保持部材３７を筐体３Ａから離反させる。すると、筐体３Ａに貯留していた処理液は、供給側板３３のノズル開口３５から排出される（図示省略）。
【００５６】
なお、槽キャリア１Ａの場合であっても、上述した処理部側壁３１に槽キャリア１Ａを移動させて処理液を供給するようにしてもよい。
【００５７】
また、槽キャリア１Ａの供給側板３３にノズル開口３５を設けず、流体供給ノズル２５を上面開口部１９から挿入し、奥側板５側に位置するように構成してもよい。
【００５８】
本実施例によると、上述した実施例１のように急速排水を行うことはできないものの、その他の点については実施例１と同様の作用効果を奏することができる。
【００５９】
この発明は、上記実施例１，２に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６０】
（１）上述した実施例１，２では、処理液を供給して処理を行う場合を例にとったが、例えば、窒素ガスのなどの気体を供給して基板Ｗへの処理を行うこともできる。その際には、例えば、側面蓋部材２３を逆Ｌの字状に構成し、上面開口部１９側も緩く覆って、気体による乾燥を行うようにするのが好ましい。これによると効率的に槽キャリア１内を気体で満たすことができる。
【００６１】
（２）上述した実施例１，２では、支持部材１１を側面支持部材１３と奥側支持部材１５の３箇所に設けている。しかしながら、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、側面支持部材１３のみで基板Ｗを支持するように構成してもよい。
【００６２】
＜基板処理装置＞
上述した槽キャリアを用いて処理を行う基板処理装置の実施形態について説明する。
【実施例３】
【００６３】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。図１１は、実施例３に係る基板処理装置を示す平面図である。なお、この実施例３では、実施例１で説明した槽キャリア１を用いて処理するものとして説明する。
【００６４】
基板処理装置５１は、ロードポート５３と、ストッカー部５５と、水平移載部５７と、姿勢変換部５９と、槽キャリア洗浄部６１と、処理ユニット６３と、搬送部６５とを備えている。
【００６５】
ロードポート５３は、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で積層して収納可能なＦＯＵＰ６７を載置される。この例では、ロードポート５３が二個のＦＯＵＰ６７を載置可能に構成されている。ストッカー部５５は、ロードポート５３からＦＯＵＰ６７を取り込んで、複数個のＦＯＵＰ６７を収納して載置することができる。このストッカー部５５は、ＦＯＵＰ６７の搬入と搬出とのバランスをとるためのバッファ的な機能を備えている。水平移載部５７は、ストッカー部５５から任意のＦＯＵＰ６７を選択し、その中の複数枚の基板Ｗだけを搬入したり、処理済の複数枚の基板ＷをＦＯＵＰ６７に搬出したりする。
【００６６】
水平移載部５７は、ストッカー部５５と姿勢変換部５９との間で複数枚の基板Ｗを水平姿勢のままで受け渡しする。具体的には、ストッカー部５５から受け取った水平姿勢の複数枚の基板Ｗを姿勢変換部５９に対して搬送する。また、姿勢変換部５９から受け取った水平姿勢の複数枚の基板をストッカー部５５のＦＯＵＰ６７に対して搬出する。この例では、水平移載部５７が９０°の角度で旋回することにより、ストッカー部５５と姿勢変換部５９との間で複数枚の基板Ｗを受け渡しする。
【００６７】
姿勢変換部５９は、水平移載部５７と搬送部６５との間で複数枚の基板Ｗの受け渡しを行う。具体的には、槽キャリア１を図１に示す状態で姿勢変換部５９が保持しており、その槽キャリア１に水平移載部５７から水平姿勢の複数枚の基板Ｗが搬入される。姿勢変換部５９は、槽キャリア１の姿勢を図３に示すように、複数枚の基板Ｗが水平姿勢から垂直姿勢となるように姿勢を変換する。そして、その槽キャリア１を処理ユニット６３に搬送する。また、逆に、処理ユニット６３で処理を終えた槽キャリア１が姿勢変換部５９に搬送されると、姿勢変換部５９は、複数枚の基板Ｗが垂直姿勢から水平姿勢となるように槽キャリア１の姿勢を変換する。
【００６８】
槽キャリア洗浄部６１は、処理ユニット６３で処理を終えた槽キャリア１から複数枚の基板Ｗが搬出された後、基板Ｗを収納していない空の槽キャリア１を受け取って洗浄処理を行う。
【００６９】
処理ユニット６３は、本実施例では４個の処理部６９〜７２を備えている。例えば、処理部６９は窒素ガスを供給することによる乾燥処理を行い、処理部７０はＳＣ２による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行い、処理部７１はＨＦ（フッ化水素）による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行い、処理部７２は、ＳＣ１による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行う。なお、ＳＣ２とは、スタンダードクリーン２を意味し、純水と、塩酸と、過酸化水素水とを混合した酸性混合液による洗浄処理のことである。また、ＳＣ１とは、スタンダードクリーン１を意味し、純水と、過酸化水素水と、水酸化アンモニウムとのアルカリ性混合液による洗浄処理のことである。
【００７０】
各処理部６９〜７２は、側面蓋部材２３を搬送部６５とは反対側の側面に備えている。側面蓋部材２３は、流体供給ノズル２５を備えている。側面蓋部材２３は、搬送部６５側へ進退可能に構成されている。各処理部６９〜７２の流体供給ノズル２５は、各処理部６９〜７２において処理に必要な流体（窒素ガス、処理液など）を供給可能に構成されている。また、各処理部６９〜７２は、底部に受け部７３を備えており、槽キャリア１から溢れた流体を回収する。
【００７１】
搬送部６５は、姿勢変換部５９と各処理部６９〜７２との間で槽キャリア１を受け渡すとともに、槽キャリア１を各処理部６９〜７２間で搬送する。搬送部６５は、槽キャリア１を保持したまま、各処理部６９〜７２において昇降可能に構成されており、各処理部６９〜７２にて処理を行う場合には、槽キャリア１を保持したまま各処理部６９〜７２において槽キャリア１を処理位置に下降させ、処理を終了すると槽キャリア１を搬送位置にまで上昇させる。
【００７２】
次に、上述した基板処理装置５１による基板Ｗの処理について説明する。なお、この例では、ＳＣ１洗浄により有機物除去を行った後、ＳＣ２により金属イオン除去を行い、乾燥処理を行う場合について説明する。
【００７３】
まず、未処理の複数枚の基板ＷをＦＯＵＰ６７に収納し、そのＦＯＵＰ６７をロードポート５３に載置する。ストッカー部５５は、そのＦＯＵＰ６７を取り込み、水平移載部５７側に搬送する。水平移載部５７は、ストッカー部５５のＦＯＵＰ６７から複数枚の基板Ｗを取り出すとともに、姿勢変換部５９側へ複数枚の基板Ｗを搬送し、姿勢変換部５９にある槽キャリア１に複数枚の基板Ｗを搬入する。姿勢変換部５９は、槽キャリア１ごと複数枚の基板Ｗを垂直姿勢に姿勢変換する。搬送部６５は、姿勢変換された槽キャリア１を処理ユニット６３の処理部７２に搬送する。
【００７４】
処理部７２に槽キャリア１が搬送された後、搬送部６５が槽キャリア１を処理部７２内の処理位置に移動する。処理部７２は、図５に示すように、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。そして、流体供給ノズル２５からアルカリ性混合液を処理液として供給する。供給された処理液は、上面開口部１９から溢れ、受け部７３で回収される。この状態を処理時間だけ維持したのち、流体供給ノズル２５から純水を処理時間だけ供給して複数枚の基板Ｗに対するＳＣ１による薬液処理及び純水洗浄を終える。純水の供給を停止した後、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、純水を槽キャリア１から急速排水する。そして、搬送部６５が槽キャリア１を搬送位置に上昇移動させる。
【００７５】
次に、搬送部６５は、処理部７２から処理部７０へ槽キャリア１を移動させる。搬送部６５が槽キャリア１を処理部７０の処理位置に下降させると、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。その後、流体供給ノズル２５から酸性混合液を処理液として供給する。供給された処理液は、槽キャリア１から溢れ受け部７３で回収される。この状態を処理時間だけ維持したのち、流体供給ノズル２５から純水を処理時間だけ供給して複数枚の基板Ｗに対するＳＣ２による薬液処理及び純水洗浄を終える。純水の供給を停止した後、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、純水を槽キャリア１から急速排水する。そして、搬送部６５が槽キャリア１を搬送位置に上昇させて移動させる。
【００７６】
次に、搬送部６５は処理部７０から処理部６９へ槽キャリア１を移動させる。搬送部６５が槽キャリア１を処理部６９の処理位置に下降して移動させると、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。その後、流体供給ノズル２５から窒素ガスを供給する。供給された窒素ガスは、槽キャリア１内の複数枚の基板Ｗを乾燥させる。なお、処理部６９では、側面蓋部材２３を逆Ｌ字状に構成しておき、槽キャリア１の密閉度を高めて乾燥効率を高くするようにしてもよい。乾燥処理を終えたのち、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、槽キャリア１内の窒素ガスを槽キャリア１から急速排出する。
【００７７】
このようにして洗浄・乾燥処理を終えた槽キャリア１は、処理部６９の処理位置から搬送位置に上昇移動される。そして、搬送部６５は、槽キャリア１を姿勢変換部５９に搬送し、姿勢変換部５９は、複数枚の基板Ｗが垂直姿勢から水平姿勢となるように姿勢変換を行う。水平移動部５７は、槽キャリア１から複数枚の基板Ｗを取り出して、ストッカー部５５のＦＯＵＰ６７に搬入する。ストッカー部５５は、処理済の基板Ｗを収納したＦＯＵＰ６７をロードポート５３に払い出す。
【００７８】
上述した一連の処理により、ＦＯＵＰ６７に収納された複数枚の基板Ｗに対する処理が完了する。
【００７９】
本実施例によると、槽キャリア１を所望の処理部６９〜７２に移動させ、槽キャリア１に処理液や気体などの流体を供給することにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液や気体などの流体の使用量を低減することができる。また、槽キャリア１ごと搬送及び処理を行うので、複数枚の基板Ｗの端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることができる。したがって、受け渡しに起因する基板Ｗの破損を防止することができる。
【００８０】
また、槽キャリア１に側面蓋部材２３を密着させて流体供給ノズル２５から処理液や気体などの流体を供給するので、槽キャリア１に供給された流体は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に処理液や気体などの流体の流れを生じさせることができる。また、処理部６９〜７２において側面蓋部材２３を移動させ、槽キャリア１を移動させる必要がないので、搬送部６５の構成を簡易化することができる。
【００８１】
また、槽キャリア１内に供給された処理液や気体などの流体は、側面蓋部材２３が槽キャリア１から離反されると排出される。したがって、処理液や気体などの流体の急速排出を行うことができるので、処理時間を短縮できる。
【実施例４】
【００８２】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。図１２は、実施例４に係る基板処理装置を示す平面図である。なお、上述した実施例３と同じ構成は、同符号を付すことにより詳細な説明については省略する。
【００８３】
基板処理装置５１Ａは、上述した基板処理装置５１と処理ユニット６３の構成が相違する。
【００８４】
つまり、処理ユニット６３Ａは、処理部６９Ａ〜７２Ａが処理部側壁３１に流体供給ノズル２５を備えている。処理部側壁３１は、位置固定であり、槽キャリア１に流体を供給する際には、搬送部６５Ａが槽キャリア１を処理部側壁３１に対して移動させることにより、槽キャリア１を処理部側壁３１に密着させる。
【００８５】
本実施例によると、槽キャリア１を処理部側壁３１に密着させて流体供給ノズル２５から処理液や気体などの流体を供給するので、槽キャリア１内に供給された処理液や気体などの流体は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、上面開口部１９の上縁における三方に流体を排出させることができる。また、流体供給ノズル２５への供給ラインを処理部側壁３１に内蔵することができるので、供給ラインの構成を簡単化できる。
【００８６】
また、槽キャリア１に供給された流体は、槽キャリア１が処理部側壁３１から離反されると排出される。したがって、処理液や気体などの流体の急速排出を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【実施例５】
【００８７】
次に、図面を参照して、本発明の実施例５について説明する。なお、図１３は、本発明の実施例５に係る槽キャリアを示す図である。
【００８８】
この実施例５は、実施例１の変形例であり、図６に示した実施例１の側面蓋部材２３の上部外面にホルダ２３ａを介して純水供給ノズル２５ａが取り付けてある。純水供給ノズル２５ａは、流体供給ノズル２５よりも長さが長く、側面蓋部材２３が側面開口部２１から離れた図１３に示す状態で、筐体３の全長にわたって位置し、かつ、その内部の基板Ｗが存在する箇所に向けてスプレーノズル２７ａを備えている。そして、その内部の全ての基板Ｗに対して純水をスプレー状で供給可能となっている。
【００８９】
係る実施例５では、実施例１と同様に側面蓋部材２３を側面開口部２１に密着させて基板Ｗを処理液で処理した後、図１３に示すように側面蓋部材２３を側面開口部２１から離間させて処理液を排出させると同時に、基板Ｗに対して純水供給ノズル２５ａから純水をスプレー状に供給して純水で処理液を洗い流すリンス処理を行うことができる。
【００９０】
なお、筐体３から処理液を排出する際、図１３や図６では側面蓋部材２３と側面開口部２１の距離を大きく描いているが、実際には側面蓋部材２３が側面開口部２１から少しでも離れると、側面開口部２１から処理液が流れ出すので、その距離は図示したほど大きくする必要はない。
【００９１】
この発明は、上記実施例３，４に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００９２】
（１）上述した実施例３，４では、槽キャリア１を用いて処理を行う基板処理装置５１，５１Ａについて説明したが、本発明は槽キャリア１に代えて槽キャリア１Ａを用いて処理を行ってもよい。
【００９３】
（２）上述した実施例３，４では、ＳＣ１、ＳＣ２、乾燥処理を例にとって説明したが、本発明はこのような処理に限定されるものではない。
【００９４】
（３）上述した実施例３，４では、４個の処理部を備えているが、２個の処理部や、５個以上の処理部を備えている装置であってもよい。
【００９５】
（４）上述した実施例３，４では、ストッカー部５５を備えているが、必ずしもストッカー部５５を備える必要はない。
【００９６】
（５）上記実施例３では、純水を供給した後、側面蓋部材２３を側面開口部２１から離して純水を急速排水しているが、このタイミングに限らず、例えば、ＳＣ１による処理が終了した後であって、純水を供給する前に側面蓋部材２３を側面開口部２１から離してＳＣ１を急速排水し、しかる後に再び側面蓋部材２３を側面開口部２１に密着させて純水を供給してもよい。また、その他の液置換を行う段階で急速排水するようにしてもよい。この場合も、急速にかつ残存液が少ない排液が可能なので、液置換が短時間で効率よく良好に行え、液使用量を少なくてすむ。
【００９７】
（６）図１４に示すように、基板Ｗをその表面側（Ｆ）同士が向かい合い、裏面側（Ｂ）同士が向かい合うように筐体３内に収納する場合には、流体供給ノズル２５や純水供給ノズル２５ａは、例えば、その表面側（Ｆ）だけに噴射口２７，スプレーノズル２７ａを設けて流体や純水を供給して処理するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００９８】
Ｗ … 基板
１，１Ａ … 槽キャリア
３ … 筐体
５ … 奥側板
７ … 面側板
９ … 側面板
１１ … 支持部材
１９ … 上面開口部
２１ … 側面開口部
２３ … 側面蓋部材
２５ … 流体供給ノズル
２７ … 噴射口
５１，５１Ａ … 基板処理装置
５３ … ロードポート
５５ … ストッカー部
５７ … 水平移載部
５９ … 姿勢変換部
６１ … 槽キャリア洗浄部
６３ … 処理ユニット
６５ … 搬送部
６７ … ＦＯＵＰ
６９〜７２ … 処理部
７３ … 受け部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を処理液で処理するための槽キャリア及び基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）に収納された複数枚の基板を一括して取り込み、それらの基板を搬送して処理するものが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
具体的には、ＦＯＵＰを載置されるロードポートと、ロードポートに隣接して配置され、複数個のＦＯＵＰを収納するストッカーと、ストッカーに隣接して配置され、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板の姿勢を変換する姿勢変換部と、基板に対して各種の処理を行い、並設された複数個の処理部と、複数個の処理部に沿って配置された搬送部と、各処理部に配置され、搬送部との間で複数枚の基板を受け渡すとともに、処理部の処理位置との間で複数枚の基板を昇降するリフタとを備えている。
【０００４】
このような構成の基板処理装置は、ロードポートに載置されたＦＯＵＰがストッカーに搬入される。その後、水平姿勢でＦＯＵＰに収納されている複数枚の基板が取り出されるとともに、姿勢変換部において複数枚の基板が垂直姿勢に変換される。そして、搬送部によって複数枚の基板が所望の処理部に搬送され、リフタが複数枚の基板を受け取る。リフタが処理部の処理位置に移動して、例えば、複数枚の基板に対して処理液による処理を一括して行う。処理部による処理を終えると、リフタが処理位置から上昇し、搬送部が複数枚の基板を受け取って、姿勢変換部に複数枚の基板を戻す。そして、複数枚の基板がＦＯＵＰに収納されて、ロードポートにＦＯＵＰが搬出される。このようにしてＦＯＵＰに収納された複数枚の基板に対する処理が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２０５３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、搬送部により処理部に搬送した後に、複数枚の基板をリフタで処理部の処理位置に移動させるので、処理部にはリフタが下降できるだけの空間的な余裕が必要にある。したがって、流体を貯留する処理部の容積が大きくなり、処理液の使用量も多くなるという問題がある。
【０００７】
また、ＦＯＵＰから複数枚の基板を取り出して姿勢変換を行った後、姿勢変換部と搬送部との間と、搬送部とリフタとの間とでは複数枚の基板を受け渡す必要がある。これらの受け渡しは、複数枚の基板の端縁を直接的に把持することによって行われるので、受け渡しミスが生じると基板の破損が生じる恐れがある。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、複数枚の基板とともに処理部を移動することにより、流体の使用量を低減することができるとともに、複数枚の基板の端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることにより、受け渡しに起因する基板の破損を防止することができる槽キャリア及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、を備え、所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とするものである。
【００１０】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減することができる。また、基板の受け渡しの機会を少なくできる。
【００１１】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を前記側面開口部に密着されることが好ましい（請求項２）。
【００１２】
側面開口部に側面蓋部材が密着されて流体供給ノズルから流体が供給されるので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。
【００１３】
また、本発明において、前記筐体は、前記側面蓋部材を前記側面開口部から離反されることにより、供給された流体を排出されることが好ましい（請求項３）。
【００１４】
筐体に供給された流体は、側面蓋部材が側面開口部から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を残液が少なく良好に行うことができるので、処理時間を短縮できる。また、液を置換する場合も効率良く置換でき、処理液の使用量も低減できる。
【００１５】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁に前記側面開口部を密着されることが好ましい（請求項４）。
【００１６】
側面開口部を処理部側壁に密着されて流体供給ノズルから流体が供給される。側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、上面開口部の上縁における三方に流体を排出させることができる。
【００１７】
また、本発明において、前記筐体は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反されることにより、供給された流体を排出されることが好ましい（請求項５）。
【００１８】
筐体に供給された流体は、筐体が処理部側壁から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【００１９】
また、請求項６に記載の発明は、基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、基板に対して流体による処理を行う複数個の処理部と、流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板を支持するための支持部材とを備えた槽キャリアと、前記槽キャリアを所望の処理部に搬送し、前記筐体内に流体を供給して前記槽キャリアごと処理を行うことを特徴とするものである。
【００２０】
［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給することにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減することができる。また、槽キャリアごと搬送及び処理を行うので、複数枚の基板の端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることができる。したがって、受け渡しに起因する基板の破損を防止することができる。
【００２１】
また、本発明において、複数枚の基板を収納可能なＦＯＵＰが載置されるロードポートと、前記ロードポートのＦＯＵＰを取り込むとともに、複数個のＦＯＵＰを載置可能なストッカー部と、前記ストッカー部のＦＯＵＰと前記槽キャリアとの間で複数枚の基板を受け渡し、複数枚の基板の姿勢を、前記槽キャリアごと水平姿勢と垂直姿勢とで変換する姿勢変換部と、前記複数個の処理部に沿って移動可能に構成され、前記槽キャリアを前記処理部に搬送する搬送部と、を備えていることが好ましい（請求項７）。
【００２２】
ロードポート経由で複数個のＦＯＵＰをストッカー部に載置でき、姿勢変換部で槽キャリアごと複数枚の基板の姿勢を変換した後、搬送部で槽キャリアを処理部に搬送する。したがって、効率的に槽キャリアを搬送することができ、処理効率を向上することができる。
【００２３】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記側面蓋部材を密着させることが好ましい（請求項８）。
【００２４】
側面開口部に側面蓋部材を密着させて流体供給ノズルから流体を供給するので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。また、処理部において側面蓋部材を移動させ、槽キャリアを移動させる必要がないので、搬送部の構成を簡易化することができる。
【００２５】
また、本発明において、前記各処理部は、前記側面蓋部材を前記槽キャリアの側面開口部から離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることが好ましい（請求項９）。
【００２６】
筐体に供給された流体は、側面蓋部材が側面開口部から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮できる。
【００２７】
また、本発明において、前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記処理部側壁を密着させることが好ましい（請求項１０）。
【００２８】
側面開口部を処理部側壁に密着させて流体供給ノズルから流体を供給するので、側面開口部から供給された流体は、複数枚の基板に対して作用した後、上面開口部から排出される。したがって、上面開口部の上縁における三方に流体を排出させることができる。また、流体供給ノズルへの供給ラインを処理部側壁に内蔵することができるので、供給ラインの構成を簡単化できる。
【００２９】
また、本発明において、前記各処理部は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることが好ましい（請求項１１）。
【００３０】
筐体に供給された流体は、筐体が処理部側壁から離反されると、側面開口部から排出される。したがって、流体の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係る槽キャリアによれば、筐体内の支持部材に複数枚の基板を支持させた槽キャリアを所望の処理部に移動させる。そして、筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する流体の使用量を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】実施例１に係る槽キャリアを示す縦断面図である。
【図２】槽キャリアの横断面図である。
【図３】槽キャリアの姿勢変換を示す図である。
【図４】槽キャリアに流体供給ノズルを挿入する状態を示す図である。
【図５】槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【図６】槽キャリアから処理液を排出する状態を示す図である。
【図７】槽キャリアに処理液を供給する別の形態を示す図である。
【図８】実施例２に係る槽キャリアを示す縦断面図である。
【図９】槽キャリアの姿勢変換後、流体供給ノズルを挿入する状態を示す図である。
【図１０】槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【図１１】実施例３に係る基板処理装置を示す平面図である。
【図１２】実施例４に係る基板処理装置を示す平面図である。
【図１３】実施例５に係る層キャリアを示す図である。
【図１４】変形例を示す面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の実施形態について、基板を収納する槽キャリアと、この槽キャリアを用いて処理を行う基板処理装置について説明する。
【００３４】
＜槽キャリア＞
基板Ｗを収納して処理に用いる槽キャリアの実施形態について説明する。
【実施例１】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る槽キャリアを示す縦断面図であり、図２は、槽キャリアの横断面図である。
【００３６】
本実施例に係る槽キャリア１は、複数枚の基板Ｗ（例えば、２５枚）を積層して収納するものである。槽キャリア１は、筐体３を備えている。この筐体３は、基板Ｗを収納可能な内部空間を形成するように、縦断面が逆Ｌ次状に構成されている。具体的には、筐体３は、奥側板５と、面側板７と、一対の側面板９とを備えている。奥側板５は、基板Ｗの面に垂直な方向に長手方向が一致するように構成されている。面側板７は、奥側板５の上部に取り付けられ、基板Ｗの面に平行に配置されている。なお、面側板７は、槽キャリア１の姿勢変換の説明の都合上、筐体３の上部に設けてあるが、筐体３の下部に設けるようにしてもよい。一対の側面板９は、奥側板５と面側板７の両側面に設けられている。したがって、筐体３は、図１における左側面と下面とが開放されている。
【００３７】
筐体３の内部には、複数枚の基板Ｗを支持するための支持部材１１が設けられている。具体的には、支持部材１１は、両側面板９の内壁に沿って設けられた一対の側面支持部材１３と、奥側板５の内壁に沿って設けられた奥側支持部材１５とを備えている。側面支持部材１３及び奥側支持部材１５は、横向きＶ字状の凹部を複数個形成されており、基板Ｗの一方面を当接支持し、複数枚の基板Ｗを一定の間隔をおいて積層収納する。
【００３８】
また、側面板９の外壁には、槽キャリア１を搬送したり、姿勢変換したりする際に把持される把持部１７を備えている。
【００３９】
本実施例では、槽キャリア１の処理時における位置関係を考慮して、図１の奥側板５の反対面に形成された開口を上部開口部１９と称し、面側板７の反対側に形成された開口を側面開口部２１と称する。
【００４０】
次に、図３〜図６を参照して、上記のように構成された槽キャリア１による基板Ｗの処理について説明する。なお、図３は、槽キャリアの姿勢変換を示す図であり、図４は、槽キャリアに流体供給ノズルを挿入する状態を示す図であり、図５は、槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図であり、図６は、槽キャリアから処理液を排出する状態を示す図である。
【００４１】
複数枚の基板Ｗが収納されている槽キャリア１を姿勢変換する。具体的には、図示しない姿勢変換部に把持部１７を把持させ、水平姿勢の基板Ｗが垂直姿勢となるように、槽キャリア１の面側板７が上側から右側に位置するように回転移動させる（図３）。これにより、槽キャリア１の奥側板５が底部に位置し、面側板７が右側面に位置して、上部開口部１９が上側に、側面開口部２１が左側に位置する。
【００４２】
処理液を供給する側面蓋部材２３を槽キャリア１に移動して、側面蓋部材２３に取り付けられた流体供給ノズル２５を側面開口部２１から筐体３の内部に挿入する。側面蓋部材２３は、面側板７と同等の板状部材である。側面蓋部材２３の下部には、一対の流体供給ノズル２５が取り付けられている。一対の流体供給ノズル２５は、基板Ｗの端縁と筐体３の内壁との隙間に挿通可能な位置及び間隔で設けられている。各流体供給ノズル２５は、上面に複数個の噴射口２７が形成されている。流体供給ノズル２５の延出長さは、側面蓋部材２３の内壁から筐体３の奥側板５の内壁長さに相当する長さである。流体供給ノズル２５は、図示しない処理液供給源に連通接続されている。また、流体供給ノズル２５の下部であって、側面蓋部材２３の内壁のうち、奥側板５と側面板９の端面に相当する位置にはシール部材２９が埋設されている。
【００４３】
側面蓋部材２３を筐体３に密着させると、筐体３は、シール部材２９でシールされ、液体を貯留可能な容器状となる（図５）。そして、流体供給ノズル２５から処理液を供給する。すると、筐体３の下部から供給された処理液が上方に向かい、上面開口部１９から溢れ、複数枚の基板Ｗに対して処理液が作用する。これをレシピに応じた所定時間だけ維持することにより、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理が行われる。
【００４４】
処理液の供給を所定時間行った後は、処理液ノズル２５からの処理液の供給を停止し、側面蓋部材２３を側面開口部２１から離反させる。すると、筐体３に貯留していた処理液は、側面開口部２１から急速に排液される。
【００４５】
本実施例によると、筐体３内の支持部材１１に複数枚の基板Ｗを支持させた槽キャリア１を所望の処理部に移動させる。そして、筐体３に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。
【００４６】
また、側面開口部２１に側面蓋部材２３が密着されて流体供給ノズル２５から処理液が供給されるので、側面開口部２１から挿入された液体供給ノズル２５より供給された処理液は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部１９の上縁における四方に流体の流れを生じさせることができる。
【００４７】
さらに、筐体３に供給された処理液は、側面蓋部材２３が側面開口部２１から離反されると、側面開口部２１から排出される。したがって、筐体３の側面全体を開放するので、短時間で残留液がほとんどない処理液の急速排水を行うことができ、処理時間を短縮できるとともに、次に使う処理液との置換効率も良くなるので、使用液量の削減にもなる。また、装置にトラブル等が発生した場合で、筐体３内の処理液を直ちに排出したいような場合も、側面蓋部材２３を開放するだけで急速排液ができる。
【００４８】
なお、上記の説明では、側面蓋部材２３を槽キャリア１の側面開口部２１に密着させて処理液を供給した。しかし、これに代えて図７に示すようにしてもよい。なお、図７は、槽キャリアに処理液を供給する別の形態を示す図である。
【００４９】
流体供給ノズル２５は、基板Ｗに対して各種の処理を行う処理部に設けられた処理部側壁３１から延出されている。この場合には、槽キャリア１を処理部側壁３１側に移動させる（図７）。そして、槽キャリア１の側面開口部２１を処理部側壁３１に密着させた後、上述したようにして流体供給ノズル２５から処理液を供給して、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理を行う。
【００５０】
このような構成によると、側面開口部２１を処理部側壁３１に密着されて流体供給ノズル２５から処理液が供給される。側面開口部２１から挿入された流体供給ノズル２５より供給された処理液は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、上面開口部１９の上縁における三方に流体を排出させることができる。さらに、筐体３に供給された処理液は、筐体３が処理部側壁３１から離反されると、側面開口部２１から排出される。したがって、処理液の急速排水を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【実施例２】
【００５１】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図８は、実施例２に係る槽キャリアを示す縦断面図である。なお、上述した実施例１と同じ構成については同符号を付すことにより詳細な説明については省略する。
【００５２】
本実施例に係る槽キャリア１Ａは、筐体３Ａの開口が一面だけである点において上記実施例１と構成が相違する。筐体３Ａは、奥側板５と、面側板７と、供給側板３３とを備えている。供給側板３３は、面側板７に対向する位置に設けられている。供給側板３３の奥側板５側には、ノズル開口３５が形成されている。ノズル開口３５は、供給側板３３側から見て、基板Ｗの端縁と筐体３Ａの内壁との間に位置するように形成されている。また、このノズル開口３５は、流体供給ノズル２５が挿入可能な内径を有する。
【００５３】
次に、図９及び図１０を参照して、上記のように構成された槽キャリア１Ａによる基板Ｗの処理について説明する。なお、図９は、槽キャリアの姿勢変換後、流体供給ノズルを挿入する状態を示す図であり、図１０は、槽キャリアに処理液を供給する状態を示す図である。
【００５４】
図９に示すように、複数枚の基板Ｗが収納されている槽キャリア１Ａを姿勢変換する。次に、槽キャリア１Ａの供給側板３３にノズル保持部材３７を移動する。ノズル保持部材３７は、流体供給ノズル２５を保持している。ノズル保持部材３７のうち、流体供給ノズル２５を保持している側には、流体供給ノズル２５の周囲にＯリング３９が埋設されている。ノズル保持部材３７の移動は、流体供給ノズル２５がノズル開口３５に挿通されるように行われる。Ｏリング３９がノズル開口３５を液密にした後、図１０に示すように、流体供給ノズル２５から処理液を供給する。すると、筐体３Ａの下部から供給された処理液が上方に向かい、上面開口部１９から溢れ、複数枚の基板Ｗに対して処理液が作用する。これをレシピに応じた時間だけ維持することにより、複数枚の基板Ｗに対して処理液による処理が行われる。
【００５５】
処理液の供給を所定時間行った後、流体供給ノズル２５からの処理液の供給を停止し、ノズル保持部材３７を筐体３Ａから離反させる。すると、筐体３Ａに貯留していた処理液は、供給側板３３のノズル開口３５から排出される（図示省略）。
【００５６】
なお、槽キャリア１Ａの場合であっても、上述した処理部側壁３１に槽キャリア１Ａを移動させて処理液を供給するようにしてもよい。
【００５７】
また、槽キャリア１Ａの供給側板３３にノズル開口３５を設けず、流体供給ノズル２５を上面開口部１９から挿入し、奥側板５側に位置するように構成してもよい。
【００５８】
本実施例によると、上述した実施例１のように急速排水を行うことはできないものの、その他の点については実施例１と同様の作用効果を奏することができる。
【００５９】
この発明は、上記実施例１，２に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６０】
（１）上述した実施例１，２では、処理液を供給して処理を行う場合を例にとったが、例えば、窒素ガスのなどの気体を供給して基板Ｗへの処理を行うこともできる。その際には、例えば、側面蓋部材２３を逆Ｌの字状に構成し、上面開口部１９側も緩く覆って、気体による乾燥を行うようにするのが好ましい。これによると効率的に槽キャリア１内を気体で満たすことができる。
【００６１】
（２）上述した実施例１，２では、支持部材１１を側面支持部材１３と奥側支持部材１５の３箇所に設けている。しかしながら、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、側面支持部材１３のみで基板Ｗを支持するように構成してもよい。
【００６２】
＜基板処理装置＞
上述した槽キャリアを用いて処理を行う基板処理装置の実施形態について説明する。
【実施例３】
【００６３】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。図１１は、実施例３に係る基板処理装置を示す平面図である。なお、この実施例３では、実施例１で説明した槽キャリア１を用いて処理するものとして説明する。
【００６４】
基板処理装置５１は、ロードポート５３と、ストッカー部５５と、水平移載部５７と、姿勢変換部５９と、槽キャリア洗浄部６１と、処理ユニット６３と、搬送部６５とを備えている。
【００６５】
ロードポート５３は、複数枚の基板Ｗを水平姿勢で積層して収納可能なＦＯＵＰ６７を載置される。この例では、ロードポート５３が二個のＦＯＵＰ６７を載置可能に構成されている。ストッカー部５５は、ロードポート５３からＦＯＵＰ６７を取り込んで、複数個のＦＯＵＰ６７を収納して載置することができる。このストッカー部５５は、ＦＯＵＰ６７の搬入と搬出とのバランスをとるためのバッファ的な機能を備えている。水平移載部５７は、ストッカー部５５から任意のＦＯＵＰ６７を選択し、その中の複数枚の基板Ｗだけを搬入したり、処理済の複数枚の基板ＷをＦＯＵＰ６７に搬出したりする。
【００６６】
水平移載部５７は、ストッカー部５５と姿勢変換部５９との間で複数枚の基板Ｗを水平姿勢のままで受け渡しする。具体的には、ストッカー部５５から受け取った水平姿勢の複数枚の基板Ｗを姿勢変換部５９に対して搬送する。また、姿勢変換部５９から受け取った水平姿勢の複数枚の基板をストッカー部５５のＦＯＵＰ６７に対して搬出する。この例では、水平移載部５７が９０°の角度で旋回することにより、ストッカー部５５と姿勢変換部５９との間で複数枚の基板Ｗを受け渡しする。
【００６７】
姿勢変換部５９は、水平移載部５７と搬送部６５との間で複数枚の基板Ｗの受け渡しを行う。具体的には、槽キャリア１を図１に示す状態で姿勢変換部５９が保持しており、その槽キャリア１に水平移載部５７から水平姿勢の複数枚の基板Ｗが搬入される。姿勢変換部５９は、槽キャリア１の姿勢を図３に示すように、複数枚の基板Ｗが水平姿勢から垂直姿勢となるように姿勢を変換する。そして、その槽キャリア１を処理ユニット６３に搬送する。また、逆に、処理ユニット６３で処理を終えた槽キャリア１が姿勢変換部５９に搬送されると、姿勢変換部５９は、複数枚の基板Ｗが垂直姿勢から水平姿勢となるように槽キャリア１の姿勢を変換する。
【００６８】
槽キャリア洗浄部６１は、処理ユニット６３で処理を終えた槽キャリア１から複数枚の基板Ｗが搬出された後、基板Ｗを収納していない空の槽キャリア１を受け取って洗浄処理を行う。
【００６９】
処理ユニット６３は、本実施例では４個の処理部６９〜７２を備えている。例えば、処理部６９は窒素ガスを供給することによる乾燥処理を行い、処理部７０はＳＣ２による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行い、処理部７１はＨＦ（フッ化水素）による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行い、処理部７２は、ＳＣ１による薬液処理と、純水による洗浄処理とを行う。なお、ＳＣ２とは、スタンダードクリーン２を意味し、純水と、塩酸と、過酸化水素水とを混合した酸性混合液による洗浄処理のことである。また、ＳＣ１とは、スタンダードクリーン１を意味し、純水と、過酸化水素水と、水酸化アンモニウムとのアルカリ性混合液による洗浄処理のことである。
【００７０】
各処理部６９〜７２は、側面蓋部材２３を搬送部６５とは反対側の側面に備えている。側面蓋部材２３は、流体供給ノズル２５を備えている。側面蓋部材２３は、搬送部６５側へ進退可能に構成されている。各処理部６９〜７２の流体供給ノズル２５は、各処理部６９〜７２において処理に必要な流体（窒素ガス、処理液など）を供給可能に構成されている。また、各処理部６９〜７２は、底部に受け部７３を備えており、槽キャリア１から溢れた流体を回収する。
【００７１】
搬送部６５は、姿勢変換部５９と各処理部６９〜７２との間で槽キャリア１を受け渡すとともに、槽キャリア１を各処理部６９〜７２間で搬送する。搬送部６５は、槽キャリア１を保持したまま、各処理部６９〜７２において昇降可能に構成されており、各処理部６９〜７２にて処理を行う場合には、槽キャリア１を保持したまま各処理部６９〜７２において槽キャリア１を処理位置に下降させ、処理を終了すると槽キャリア１を搬送位置にまで上昇させる。
【００７２】
次に、上述した基板処理装置５１による基板Ｗの処理について説明する。なお、この例では、ＳＣ１洗浄により有機物除去を行った後、ＳＣ２により金属イオン除去を行い、乾燥処理を行う場合について説明する。
【００７３】
まず、未処理の複数枚の基板ＷをＦＯＵＰ６７に収納し、そのＦＯＵＰ６７をロードポート５３に載置する。ストッカー部５５は、そのＦＯＵＰ６７を取り込み、水平移載部５７側に搬送する。水平移載部５７は、ストッカー部５５のＦＯＵＰ６７から複数枚の基板Ｗを取り出すとともに、姿勢変換部５９側へ複数枚の基板Ｗを搬送し、姿勢変換部５９にある槽キャリア１に複数枚の基板Ｗを搬入する。姿勢変換部５９は、槽キャリア１ごと複数枚の基板Ｗを垂直姿勢に姿勢変換する。搬送部６５は、姿勢変換された槽キャリア１を処理ユニット６３の処理部７２に搬送する。
【００７４】
処理部７２に槽キャリア１が搬送された後、搬送部６５が槽キャリア１を処理部７２内の処理位置に移動する。処理部７２は、図５に示すように、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。そして、流体供給ノズル２５からアルカリ性混合液を処理液として供給する。供給された処理液は、上面開口部１９から溢れ、受け部７３で回収される。この状態を処理時間だけ維持したのち、流体供給ノズル２５から純水を処理時間だけ供給して複数枚の基板Ｗに対するＳＣ１による薬液処理及び純水洗浄を終える。純水の供給を停止した後、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、純水を槽キャリア１から急速排水する。そして、搬送部６５が槽キャリア１を搬送位置に上昇移動させる。
【００７５】
次に、搬送部６５は、処理部７２から処理部７０へ槽キャリア１を移動させる。搬送部６５が槽キャリア１を処理部７０の処理位置に下降させると、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。その後、流体供給ノズル２５から酸性混合液を処理液として供給する。供給された処理液は、槽キャリア１から溢れ受け部７３で回収される。この状態を処理時間だけ維持したのち、流体供給ノズル２５から純水を処理時間だけ供給して複数枚の基板Ｗに対するＳＣ２による薬液処理及び純水洗浄を終える。純水の供給を停止した後、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、純水を槽キャリア１から急速排水する。そして、搬送部６５が槽キャリア１を搬送位置に上昇させて移動させる。
【００７６】
次に、搬送部６５は処理部７０から処理部６９へ槽キャリア１を移動させる。搬送部６５が槽キャリア１を処理部６９の処理位置に下降して移動させると、側面蓋部材２３を槽キャリア１に密着させる。その後、流体供給ノズル２５から窒素ガスを供給する。供給された窒素ガスは、槽キャリア１内の複数枚の基板Ｗを乾燥させる。なお、処理部６９では、側面蓋部材２３を逆Ｌ字状に構成しておき、槽キャリア１の密閉度を高めて乾燥効率を高くするようにしてもよい。乾燥処理を終えたのち、側面蓋部材２３を槽キャリア１から離反させ、槽キャリア１内の窒素ガスを槽キャリア１から急速排出する。
【００７７】
このようにして洗浄・乾燥処理を終えた槽キャリア１は、処理部６９の処理位置から搬送位置に上昇移動される。そして、搬送部６５は、槽キャリア１を姿勢変換部５９に搬送し、姿勢変換部５９は、複数枚の基板Ｗが垂直姿勢から水平姿勢となるように姿勢変換を行う。水平移動部５７は、槽キャリア１から複数枚の基板Ｗを取り出して、ストッカー部５５のＦＯＵＰ６７に搬入する。ストッカー部５５は、処理済の基板Ｗを収納したＦＯＵＰ６７をロードポート５３に払い出す。
【００７８】
上述した一連の処理により、ＦＯＵＰ６７に収納された複数枚の基板Ｗに対する処理が完了する。
【００７９】
本実施例によると、槽キャリア１を所望の処理部６９〜７２に移動させ、槽キャリア１に処理液や気体などの流体を供給することにより、複数枚の基板Ｗに対する処理を行うので、流体の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液や気体などの流体の使用量を低減することができる。また、槽キャリア１ごと搬送及び処理を行うので、複数枚の基板Ｗの端縁を直接的に把持する受け渡しの機会を少なくすることができる。したがって、受け渡しに起因する基板Ｗの破損を防止することができる。
【００８０】
また、槽キャリア１に側面蓋部材２３を密着させて流体供給ノズル２５から処理液や気体などの流体を供給するので、槽キャリア１に供給された流体は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、通常の処理槽と同様に、上面開口部の上縁における四方に処理液や気体などの流体の流れを生じさせることができる。また、処理部６９〜７２において側面蓋部材２３を移動させ、槽キャリア１を移動させる必要がないので、搬送部６５の構成を簡易化することができる。
【００８１】
また、槽キャリア１内に供給された処理液や気体などの流体は、側面蓋部材２３が槽キャリア１から離反されると排出される。したがって、処理液や気体などの流体の急速排出を行うことができるので、処理時間を短縮できる。
【実施例４】
【００８２】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。図１２は、実施例４に係る基板処理装置を示す平面図である。なお、上述した実施例３と同じ構成は、同符号を付すことにより詳細な説明については省略する。
【００８３】
基板処理装置５１Ａは、上述した基板処理装置５１と処理ユニット６３の構成が相違する。
【００８４】
つまり、処理ユニット６３Ａは、処理部６９Ａ〜７２Ａが処理部側壁３１に流体供給ノズル２５を備えている。処理部側壁３１は、位置固定であり、槽キャリア１に流体を供給する際には、搬送部６５Ａが槽キャリア１を処理部側壁３１に対して移動させることにより、槽キャリア１を処理部側壁３１に密着させる。
【００８５】
本実施例によると、槽キャリア１を処理部側壁３１に密着させて流体供給ノズル２５から処理液や気体などの流体を供給するので、槽キャリア１内に供給された処理液や気体などの流体は、複数枚の基板Ｗに対して作用した後、上面開口部１９から排出される。したがって、上面開口部１９の上縁における三方に流体を排出させることができる。また、流体供給ノズル２５への供給ラインを処理部側壁３１に内蔵することができるので、供給ラインの構成を簡単化できる。
【００８６】
また、槽キャリア１に供給された流体は、槽キャリア１が処理部側壁３１から離反されると排出される。したがって、処理液や気体などの流体の急速排出を行うことができるので、処理時間を短縮することができる。
【実施例５】
【００８７】
次に、図面を参照して、本発明の実施例５について説明する。なお、図１３は、本発明の実施例５に係る槽キャリアを示す図である。
【００８８】
この実施例５は、実施例１の変形例であり、図６に示した実施例１の側面蓋部材２３の上部外面にホルダ２３ａを介して純水供給ノズル２５ａが取り付けてある。純水供給ノズル２５ａは、流体供給ノズル２５よりも長さが長く、側面蓋部材２３が側面開口部２１から離れた図１３に示す状態で、筐体３の全長にわたって位置し、かつ、その内部の基板Ｗが存在する箇所に向けてスプレーノズル２７ａを備えている。そして、その内部の全ての基板Ｗに対して純水をスプレー状で供給可能となっている。
【００８９】
係る実施例５では、実施例１と同様に側面蓋部材２３を側面開口部２１に密着させて基板Ｗを処理液で処理した後、図１３に示すように側面蓋部材２３を側面開口部２１から離間させて処理液を排出させると同時に、基板Ｗに対して純水供給ノズル２５ａから純水をスプレー状に供給して純水で処理液を洗い流すリンス処理を行うことができる。
【００９０】
なお、筐体３から処理液を排出する際、図１３や図６では側面蓋部材２３と側面開口部２１の距離を大きく描いているが、実際には側面蓋部材２３が側面開口部２１から少しでも離れると、側面開口部２１から処理液が流れ出すので、その距離は図示したほど大きくする必要はない。
【００９１】
この発明は、上記実施例３，４に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００９２】
（１）上述した実施例３，４では、槽キャリア１を用いて処理を行う基板処理装置５１，５１Ａについて説明したが、本発明は槽キャリア１に代えて槽キャリア１Ａを用いて処理を行ってもよい。
【００９３】
（２）上述した実施例３，４では、ＳＣ１、ＳＣ２、乾燥処理を例にとって説明したが、本発明はこのような処理に限定されるものではない。
【００９４】
（３）上述した実施例３，４では、４個の処理部を備えているが、２個の処理部や、５個以上の処理部を備えている装置であってもよい。
【００９５】
（４）上述した実施例３，４では、ストッカー部５５を備えているが、必ずしもストッカー部５５を備える必要はない。
【００９６】
（５）上記実施例３では、純水を供給した後、側面蓋部材２３を側面開口部２１から離して純水を急速排水しているが、このタイミングに限らず、例えば、ＳＣ１による処理が終了した後であって、純水を供給する前に側面蓋部材２３を側面開口部２１から離してＳＣ１を急速排水し、しかる後に再び側面蓋部材２３を側面開口部２１に密着させて純水を供給してもよい。また、その他の液置換を行う段階で急速排水するようにしてもよい。この場合も、急速にかつ残存液が少ない排液が可能なので、液置換が短時間で効率よく良好に行え、液使用量を少なくてすむ。
【００９７】
（６）図１４に示すように、基板Ｗをその表面側（Ｆ）同士が向かい合い、裏面側（Ｂ）同士が向かい合うように筐体３内に収納する場合には、流体供給ノズル２５や純水供給ノズル２５ａは、例えば、その表面側（Ｆ）だけに噴射口２７，スプレーノズル２７ａを設けて流体や純水を供給して処理するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００９８】
Ｗ … 基板
１，１Ａ … 槽キャリア
３ … 筐体
５ … 奥側板
７ … 面側板
９ … 側面板
１１ … 支持部材
１９ … 上面開口部
２１ … 側面開口部
２３ … 側面蓋部材
２５ … 流体供給ノズル
２７ … 噴射口
５１，５１Ａ … 基板処理装置
５３ … ロードポート
５５ … ストッカー部
５７ … 水平移載部
５９ … 姿勢変換部
６１ … 槽キャリア洗浄部
６３ … 処理ユニット
６５ … 搬送部
６７ … ＦＯＵＰ
６９〜７２ … 処理部
７３ … 受け部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、
前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、
を備え、
所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とする槽キャリア。
【請求項２】
請求項１に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を前記側面開口部に密着されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項３】
請求項２に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記側面蓋部材を前記側面開口部から離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項４】
請求項１に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁に前記側面開口部を密着されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項５】
請求項４に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項６】
基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、
基板に対して流体による処理を行う複数個の処理部と、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板を支持するための支持部材とを備えた槽キャリアと、
前記槽キャリアを所望の処理部に搬送し、前記筐体内に流体を供給して前記槽キャリアごと処理を行うことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
複数枚の基板を収納可能なＦＯＵＰが載置されるロードポートと、
前記ロードポートのＦＯＵＰを取り込むとともに、複数個のＦＯＵＰを載置可能なストッカー部と、
前記ストッカー部のＦＯＵＰと前記槽キャリアとの間で複数枚の基板を受け渡し、複数枚の基板の姿勢を、前記槽キャリアごと水平姿勢と垂直姿勢とで変換する姿勢変換部と、
前記複数個の処理部に沿って移動可能に構成され、前記槽キャリアを前記処理部に搬送する搬送部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記側面蓋部材を密着させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記側面蓋部材を前記槽キャリアの側面開口部から離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記処理部側壁を密着させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、
前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、
を備え、
所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とする槽キャリア。
【請求項２】
請求項１に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を前記側面開口部に密着されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項３】
請求項２に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記側面蓋部材を前記側面開口部から離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項４】
請求項１に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁に前記側面開口部を密着されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項５】
請求項４に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。
【請求項６】
基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、
基板に対して流体による処理を行う複数個の処理部と、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、ＦＯＵＰから取り出された複数枚の基板を支持するための支持部材とを備えた槽キャリアと、
前記槽キャリアを所望の処理部に搬送し、前記筐体内に流体を供給して前記槽キャリアごと処理を行うことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置において、
複数枚の基板を収納可能なＦＯＵＰが載置されるロードポートと、
前記ロードポートのＦＯＵＰを取り込むとともに、複数個のＦＯＵＰを載置可能なストッカー部と、
前記ストッカー部のＦＯＵＰと前記槽キャリアとの間で複数枚の基板を受け渡し、複数枚の基板の姿勢を、前記槽キャリアごと水平姿勢と垂直姿勢とで変換する姿勢変換部と、
前記複数個の処理部に沿って移動可能に構成され、前記槽キャリアを前記処理部に搬送する搬送部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記側面蓋部材を密着させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記側面蓋部材を前記槽キャリアの側面開口部から離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記処理部側壁を密着させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２０１３−５１２６７（Ｐ２０１３−５１２６７Ａ）
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８７４６９（Ｐ２０１１−１８７４６９）
【出願日】平成２３年８月３０日（２０１１．８．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月３０日（２０１１．８．３０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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