【課題】露光精度を高めることができる投影光学系、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、鏡筒１６の内部に保持された複数のミラー１７を備える投影装置１４を備えている。投影装置１４の鏡筒１６の外周部には、液相と固相との間で相転移する物性を有し、液相と固相とが共存する金属材料１９と、鏡筒１６の外周部に設けられて、金属材料１９を保持する金属保持部材１８とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】短パルス化とマルチライン発振を同時に達成するＥＵＶ光源装置用ドライバーレーザを実現する。
【解決手段】このドライバーレーザは、（ｉ）連続発振を行うレーザ共振器の内部においてレーザ光を短パルス化して、短パルス化されたレーザ光をレーザ共振器の外部に出力する短パルス化手段と、レーザ共振器におけるレーザ光の発振スペクトルのエネルギーピーク値を示す発振スペクトル成分の強度を抑制する波長依存透過率を有する光学素子と、短パルス化手段を５０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの繰り返し周波数で活性化及び非活性化させる繰り返し手段とを有する短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器と、（ii）該短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器から出力される短パルス化されたレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つの増幅器とを具備する。 （もっと読む）

【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】陰極および陽極間に電圧を印加し、陰極と陽極との間において、所定の原子をプラズマ励起させることによりＥＵＶ光を生じさせ、このＥＵＶ光を、露光部に導き、露光部内において基板の上方に形成された感光膜を露光する工程を、冷却機構により、陰極１０３の先端部１０３ｂを構成する金属部の融点未満の温度に冷却しつつ行なう。例えば、陰極１０３は、支持部１０３ａと、先端部１０３ｂとを有し、冷却機構は、支持部内に冷却溶媒を循環させる機構である。また、支持部１０３ａは、銅よりなり、先端部１０３ｂを構成する金属部は、タングステンよりなり、冷却機構の支持部１０３ａ側の端部からタングステン端部までの距離（Ｄ１）を７ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー５１０の表面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝５１３が形成される。ＥＵＶ光源装置１から入射する光２０３，３０１は、ミラー５１０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０４（ＥＵＶ回折光を含む）と、他の波長の光３０１Ａ，３０１Ｂとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光３０１Ａ，３０１Ｂを除去することにより、純度の高いＥＵＶ光をマスク６００に照射することができる。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットの位置を検出する。
【解決手段】ドロップレット生成及び検出装置は、帯電ドロップレットを出力するドロップレット生成器と、帯電ドロップレットの軌道の近傍に配置された磁気回路であって、導電体のコイルを含む磁気回路と、コイルに流れる電流を検出して検出信号を出力する電流検出器と、を含む少なくとも一つのドロップレットセンサと、検出信号に基づいて帯電ドロップレットを検出する信号処理回路と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置から出力されるレーザ光をターゲット物質に照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する。この装置は、（ｉ）電気伝導性を有する構造部材を含み、レーザ光を導入する貫通孔が形成されたチャンバ２と、（ii）液体ターゲット物質の帯電ターゲットを生成し、チャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて帯電ターゲットを供給するターゲット生成器２６であって、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された電極と、電極を保持する電気絶縁部材と、少なくとも電気絶縁部材とプラズマ生成領域２５との間に配置され、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された遮蔽部材とを含み、遮蔽部材が電気伝導性を有してチャンバ２の構造部材に電気的に接続されているターゲット生成器２６とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点９に集光する集光装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の帯電ターゲットを供給するターゲット供給装置の絶縁破壊を抑制する。
【解決手段】このターゲット供給装置は、ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されたターゲット物質を出力するための貫通孔が形成されたターゲット出力部と、ターゲット出力部に対向して配置され、ターゲット物質が通過する貫通孔が形成された電極であって、ターゲット出力部に対向する面の一部に電気絶縁材料がコートされた電極と、ターゲット物質と電極との間に電圧を印加する電圧生成器とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップ（ａ）と、ドロップレットにプリパルスレーザ光を照射することによりドロップレットを拡散させて所望の拡散ターゲットを形成させるステップ（ｂ）と、拡散ターゲットの照射位置において、メインパルスレーザ光のレーザ光軸に垂直な断面の形状を、レーザ光軸の方向から見た拡散ターゲットの形状と実質的に一致させて、メインパルスレーザ光を、所望の拡散ターゲットに照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｃ）と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】ＥＵＶ集光ミラー１３０の表面１３１には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝１３３が形成される。プラズマ２０１から放射された光２０２は、ＥＵＶ集光ミラー１３０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０３（ＥＵＶ回折光を含む）は、中間集光点ＩＦに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、ＩＦから外れた位置に進む。ＩＦには、開口部１５１を有するＳＰＦ用アパーチャ１５０が設けられている。従って、ＥＵＶ光のみが開口部１５１を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ１５０により遮光される。 （もっと読む）