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国際特許分類[H05G2/00]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | X線技術 (1,039) | X線の発生に特に適合した装置または処理で,X線管を含まないもの,例.プラズマの発生を含むもの (476)

国際特許分類[H05G2/00]に分類される特許

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【課題】チャンバ内に滞留及び蓄積したデブリがチャンバを汚染して集光ミラー等の重要光学コンポーネントの性能を低下させることを防止し、長期間安定に極端紫外光を発生することが可能な極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、チャンバと連通し、排気装置と接続されてチャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集する捕集装置と、捕集されたデブリをチャンバ外に回収する回収装置とを具備する。 (もっと読む)


【課題】本発明のEUV光源装置は、EUV光以外の他の光を取り除き、EUV光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】EUV集光ミラー130の表面131には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝133が形成される。プラズマ201から放射された光202は、EUV集光ミラー130に入射し、反射または回折する。EUV反射光203(EUV回折光を含む)は、中間集光点IFに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、IFから外れた位置に進む。IFには、開口部151を有するSPF用アパーチャ150が設けられている。従って、EUV光のみが開口部151を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ150により遮光される。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザ装置3と共に用いられる光学システムは、少なくとも1つの焦点を有し、前記レーザ装置3から出力されるレーザ光を集光する集光光学系と、前記集光光学系と該集光光学系の少なくとも1つの焦点との間に配置されるビームスプリッタ100と、前記ビームスプリッタ100によって分岐されたレーザ光の光路上に配置される光センサ110と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】電子ビームとレーザ光との衝突を簡単に実現させる。
【解決手段】発生させた電子ビームE及びレーザ光Rの経路を制御して電子ビームEとレーザ光Rとを衝突させる。電子ビームEの経路を制御して仮想的に設定された楕円10の第1焦点11に電子ビームEを入射させると共に当該第1焦点11への入射角度を変化させる電子ビーム制御部7と、楕円10の第2焦点12から当該楕円10の一部へと向かうレーザ光Rの進行方向を変化させるレーザ光制御部8と、楕円10の一部に沿った反射面19を有し、第2焦点12から当該反射面19に入射したレーザ光Rを反射させて電子ビームEの反対側から第1焦点11に入射させる楕円面ミラー9とを有している。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】ドロップレットターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】ターゲット供給装置は、少なくとも液体ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部に相当するリザーバ41と、前記液体ターゲット物質が通過するための貫通孔であるノズル43が形成され、その貫通孔(ノズル43)が前記ターゲット貯蔵部(リザーバ41)の内部と連通し、且つ、少なくとも前記貫通孔(ノズル43)の前記ターゲット貯蔵部と(リザーバ41)は反対側且つその貫通孔周囲の領域のターゲット放出部表面が、前記液体ターゲット物質に対する接触角が90度よりも大きい物質からなるターゲット放出部と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内に配置された光学要素の性能劣化を防止する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口を有するチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも1つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素と、前記少なくとも1つの光学要素の温度を制御する少なくとも1つの温度調節機構と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも1つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも1つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも1つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】小型で、レーザ光の増幅を効率良く行うことができ、増幅されたレーザ光の集光性に優るドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、発振によりレーザ光を生成するレーザ発振器と、レーザ発振器によって生成されるレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも1つのスラブ型レーザ増幅器とを具備し、少なくとも1つのスラブ型レーザ増幅器が、第1のウィンドウ及び第2のウィンドウを有し、炭酸ガス(CO)を含む気体で充たされたチャンバと、チャンバ内に配置され、高周波電圧が印加されることにより形成される放電領域において気体を励起してレーザ光を増幅する一対の電極と、チャンバ内に配置され、第1のウィンドウから入射するレーザ光を多重反射することにより放電領域内を伝播させて第2のウィンドウから出射させる複数のミラーを有する光学系とを含む。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置3と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置3から出力されるレーザ光31を内部に導入するための少なくとも1の入射口が設けられたチャンバ2と、前記レーザ装置3から出力される前記レーザ光31のビーム断面を拡大する拡大光学系50と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光31を集光する集光光学系22と、を備えてもよい。 (もっと読む)


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