【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ光を出力するレーザ装置とともに用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を導入する導入口を備えるチャンバと、前記チャンバ内の所定領域にターゲット物質を供給するターゲット生成器と、前記レーザ光を前記所定領域に集光する集光光学系と、ガイド光を出力するガイド光出力装置と、前記ガイド光の光路の中心軸を前記レーザ光の光路の中心軸と一致させるとともに、前記ガイド光を前記ガイド光出力装置から前記所定領域を経由して前記集光光学系に入射させる光学系と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】線形加速器から出射させる電子ビームのエネルギを異ならせても、発生させるＸ線の線量の変動を抑制する、ことを目的とする。
【解決手段】Ｘ線発生装置１０は、電子ビームを発生させる電子銃１２、電子銃１２によって発生された電子ビームをマイクロ波によって加速させる線形加速器１４、線形加速器１４によって加速された電子ビームが照射されることによって、Ｘ線を発生するＸ線ターゲット１６、線形加速器１４に導入させるマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置、マイクロ波の電力が変化するようにマイクロ波発生装置を制御するパルスモジュレータを備える。線形加速器１４は、複数のバンチャ空洞４０を有しているため、マイクロ波の電力を低下させることで加速位相からずれた電子が生じても、該電子を次の時間周期の加速位相にて加速させることができるので、マイクロ波の電力を低下させても出射される電子ビームの強度の低下が抑制される。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザ装置から出力される少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定した極端紫外光を得る。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、第１レーザ光と第２レーザ光との光軸を実質的に一致させるビーム調節器と、前記第１および第２レーザ光を導入するウィンドウを含むチャンバと、前記チャンバ内の所定位置付近にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、前記所定位置付近に前記第１レーザ光を集光し前記ターゲット物質に前記第１レーザ光を照射するレーザ光集光光学系と、前記第２レーザ光と、前記ターゲット物質から生成されたプラズマから放射された放射光とを検出する光検出ユニットと、前記レーザ光集光光学系が前記第１レーザ光を集光する位置を補正する集光位置補正機構と、前記ターゲット供給装置が前記ターゲット物質を供給する位置を補正するターゲット供給位置補正機構と、前記第２レーザ光と前記放射光との検出結果に基づいて、集光位置補正機構およびターゲット供給位置補正機構を制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】望ましくない放出物（例えば、粒子、赤外線、および可視光線）を最低限に抑えたプラズマ光源を実現する。
【解決手段】光源１００は、プラズマ放電領域１１２を有し、イオン性媒体を含む室１０４、プラズマ放電領域１１２の一部を囲む磁気コア１０８、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア１０８に供給し、プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム１３６を備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン１４４を有する。 （もっと読む）

【課題】 より均一であるＥＵＶ放射を提供すること。
【解決手段】 燃料の小滴を相互作用点に送出するように構成された燃料小滴ジェネレータと、プラズマを生成するために燃料蒸発および励起放射を相互作用点に送出するように構成された光学系と、プラズマによって放たれるＥＵＶ放射を集光するように構成されたコレクタとを含むＥＵＶ放射を生成するように構成された放射源。光学系は、使用中において燃料蒸発および励起放射が相互作用点における燃料小滴の１つより多い側面に入射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光放射後に発生するデブリが光学要素に付着して性能劣化することを抑制する。
【解決手段】極端紫外光生成装置１は、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１１と、チャンバに設けられ、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質Ｄを供給するためのターゲット供給部１４ｂと、チャンバに接続される排気ポンプ１２と、チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素Ｍ１〜Ｍ３と、チャンバに設けられ、チャンバ内でターゲット物質がレーザ光に照射される際に放出されて、少なくとも１つの光学要素に付着したターゲット物質のデブリを、エッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部１６ａ〜１６ｃと、少なくとも１つの光学要素の温度を制御するための、少なくとも１つの温度調節機構Ｃ２，Ｃ４，Ｃ５と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ光生成システムと、前記レーザ光生成システムから出力される少なくとも１つのレーザ光の光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザ光生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室１０８と、液化室１０８において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル１０２と、液化室１０８内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１０９、冷却装置１１０、ヒータ１１１、温度センサ１１２、及び、温度制御部１１３と、ノズル１０２内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１１４、冷却装置１１５、ヒータ１１６、温度センサ１１７、及び、温度制御部１１８とを含む。 （もっと読む）