【課題】
基材の処理中にプラズマ処理システム内に局所電源を供給する分散型電源装置を提供する
【解決手段】
分散型電源装置は、一組の直流（ＤＣ）電源ユニットを含む。また、分散型電源装置は複数の電源発生器を含み、複数の電源発生器は一組のＤＣ電源ユニットから電源を受け取るように構成される。複数の電源発生器の各電源発生器は一組の電気素子に結合されており、これによって、複数の電源発生器の各電源発生器が局所電源供給を制御できるようにする。 （もっと読む）

【課題】
プラズマ処理チャンバプローブを較正するための電気計測を実施する診断ツールを提供する。
【解決手段】
診断ツールはＲＦ発生器を含む。また、診断ツールは、第１のインピーダンス回路を含む。第１のインピーダンス回路は、ＲＦ発生器からのＲＦ電力が第１のインピーダンス回路に供給されるときＲＦ発生器から電圧測定用のＲＦ電圧出力を供給するように構成される電圧負荷ネットワークである。診断ツールは、さらに、第２のインピーダンス回路を含む。第２のインピーダンス回路は、ＲＦ発生器からのＲＦ電力が第２のインピーダンス回路に供給されるときＲＦ発生器から電流測定用のＲＦ電流出力を供給するように構成される電流負荷ネットワークである。診断ツールは、さらに、ＲＦ発生器からＲＦ電力を第１のインピーダンス回路および第２のインピーダンス回路の一方に供給するための切替え可能なＲＦ供給経路を提供するように構成された同軸スイッチネットワーク装置を含む。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバー内における異常放電の発生を予知し、処理対象物の損傷などを未然に防止する。
【解決手段】真空チャンバー１０と、真空チャンバー１０内にて連続的又は断続的に発生する低エネルギー放電を検出する第１の検出回路３０と、第１の検出回路３０が一定時間に亘り連続的又は断続的に発生する低エネルギー放電を検出したことに応答して、予知信号４０ａ，４０ｂを発生する第２の検出回路と、予知信号４０ａ，４０ｂに応じて真空チャンバー１０内に配置された電極１１，１４への交流電圧の印加パターンを変化させる交流電源２０とを備える。このように、異常放電自体を検出するのではなく、異常放電の予兆現象を検出していることから、異常放電の発生を未然に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】確実に放電の開始を補助し、かつ、放電が開始しないままインピーダンス整合動作に移行する事態を回避する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、高周波電源と、その電力が印加される負荷と、その印加電力による高周波放電によりプラズマが生成されるプロセスチャンバーと、高周波電源と負荷との間に可変コンデンサＣ１、Ｃ２を有する整合器２０とを備え、放電時に可変コンデンサＣ１、Ｃ２を制御して高周波電源と負荷との間のインピーダンス整合を行う。整合器２０は、放電の開始前に、負荷側のピークトゥーピーク電圧（Ｖｐｐ）が増大するように可変コンデンサＣ１、Ｃ２を制御する制御手段（コントローラ２７）を有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ挙動を細かく把握、解析でき、プラズマの安定化技術の向上につながるプラズマ構成元素分析装置を提供する。
【解決手段】プラズマの構成元素を分析するプラズマ構成元素分析装置１であって、プラズマ光を集光する集光レンズ２と、集光レンズ２からの光を２つの光路に分離するスプリッタ４と、一方の光路３ａに設けられ、プラズマ光の実像を撮影する第１の高速度カメラ５と、他方の光路３ｂに設けられ、入力スリットを介したスペクトルを、波長軸および空間軸に関する分光スペクトル画像として撮影する第２の高速度カメラ６と、両高速度カメラ５、６から出力される画像信号を同期化して記憶する制御部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 プラズマイオン注入システムの提供。
【解決手段】 高い伝導温度によって、不必要なイオン生成及び重合ラジカルの過解離を誘発する誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）に代えて、イオン注入工程に必要なイオン及び重合ラジカルの成分のみを生成させることができるなど、イオン注入工程に有利な特性を持つ容量結合プラズマ（ＣＣＰ）を生成するとともに真空チャンバーを洗浄することによって、注入されるプラズマイオンを制御しやすく、加工対象物の表面での重合体膜の沈着を減少させて不必要な蒸着、汚染発生などの問題点を最小化し、プラズマイオン注入のために使われる成分の濃度を増加させ、平板型の電極の使用によってプラズマ均一度を調節しやすくし、加工対象物に注入されたプラズマイオンの均一度を確保しやすくする。 （もっと読む）

【課題】バイアス電圧制御方式のプラズマ処理装置にて、プラズマ処理特性を安定させることができるとともに、故障診断を容易に実施することができるプラズマ処理装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】バイアス電圧測定部１７は、被処理体１６が載置される下部電極１３と、整合器１５との間で、バイアス高周波電力の直流成分を取得する。バイアス電源制御部１８は、当該直流成分が所定値となる状態にバイアス高周波電源１４の出力電力を制御する。また、電力値取得部３１は、バイアス高周波電力の電力値を取得する。演算部３２が備える波形生成部は、取得した電力値の時間に対する波形を生成する。判定部３３は、プラズマ処理中の所定期間内に取得された電力値の平均値と予め設定された基準値とを比較するとともに、生成された波形と予め設定された基準波形とを比較し、装置異常に起因するインピーダンス変動の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】信頼性を有して工程特性を評価できるプラズマチャンバのモニタリング装置及びその方法を提供する。
【解決手段】ウィンドウを有するプラズマチャンバ内に生成されるプラズマの光学的特性を所定の測定波長帯域で測定（Ｓ１０）し、前記測定された光学的特性から工程状態指数を抽出（Ｓ３０）した後、前記抽出された工程状態指数を分析（Ｓ５０）して、前記プラズマチャンバの状態を判断するステップを含む。ここで、前記プラズマの光学的特性は、前記ウィンドウを通過する光の透過率が波長に対して実質的に依存性を有しない波長帯域で測定される。このような方法によると、時間の経過によって増加する前記ウィンドウの汚染の程度に影響されず、信頼性を有してプラズマチャンバの工程状態を評価することができる。 （もっと読む）

本発明はプラズマ源（１）に関し、プラズマ源（１）は、ガス流を搬送する導管（３，４）とプラズマを内部発生させる電離箱（１０）とを備え、電離箱（１０）は、導管（３，４）と連結し、導管（３，４）内のガス流が電離箱（１０）からガス粒子を運び去ることにより、電離箱（１０）内の圧力を減圧する。ガスの電離性は、一般に圧力の上昇とともに低下するため、電離箱内の減圧は、プラズマ発生の効率向上に有利に作用する。従って、低温度を有するガスの中でプラズマを発生させるのが、容易かつ効率的である。 （もっと読む）

【課題】負荷で生じた反射波電力に含まれる各スプリアス周波数成分のレベルを個別に検出して、きめの細かい保護制御を行なうことができる高周波電源装置を提供する。
【解決手段】高周波電力増幅部１と負荷５との間に挿入した方向性結合器３から得た反射波電力検出信号を局部発振部１６から時系列的に発生させた種々の周波数の局部発振信号と混合することにより、反射波電力検出信号に含まれる各検出対象周波数成分を一定の差周波数を有する反射波差周波数信号に変換し、この反射波差周波数信号を検波部２０により検波することにより、種々の検出対象周波数成分のレベルに対応するレベルを有する電圧信号を時系列的に発生させ、これらの電圧信号から得た種々の検出対象周波数成分の情報を用いて、進行波電力と反射波電力との合計値が過大にならないように増幅部１の出力を制御する。 （もっと読む）