【課題】平面でない被処理面に対して、全面を一括処理することで処理時間を短縮できるプラズマ処理方法および装置、また、簡易的な構造あるいは汎用性の高い構造とすることで装置コストを低減できるプラズマ処理方法及び装置を提供すること。
【解決手段】上部電極１と下部電極２の間に異形被処理物１１−ａを載置し、独立したガス系統でガスを供給できる処理ガス供給装置４−ａ乃至４−ｆ、ガス流路５およびガス噴出板６と、ガス噴出板６上のガス噴出面７と、ガス噴出面７の面内に設けた複数のガス噴出口８を経由して、異形被処理物１１−ａに対して処理ガスを供給する。また、両電極間に高周波電源９より電力を供給することで、異形被処理物１１−ａの被処理面にプラズマ１０を生成でき、被処理面全体を一括で均一に処理できる。 （もっと読む）

本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＨＦエネルギジェネレータまたはプラズマプロセスへのエネルギ送出をフレキシブルに調整可能で制御可能な、ＨＦエネルギージェネレータに対する駆動信号の形成方法、ＨＦエネルギジェネレータ駆動装置およびＨＦプラズマ励起装置を提供する。
【解決手段】プラズマプロセスにＨＦエネルギを供給する２つのＨＦエネルギジェネレータに対して、ＨＦジェネレータ駆動装置２により前記各ＨＦエネルギジェネレータを駆動する２つの駆動信号Ｃ，Ｄを形成する駆動信号の形成方法であって、各駆動信号Ｃ，Ｄを、１つずつの関数発生器１３，１４をディジタル関数発生器、特に有利には正弦波発生器を用いて形成する。 （もっと読む）

【課題】大気圧近傍の圧力雰囲気下において、ダメージフリーで被処理基材の洗浄、改質処理を行うプラズマ生成用電極を提供する。
【解決手段】被処理基材６に対して平行に配置される一対の平板電極１，２間に交番電界を印加して、放電プラズマを生成せしめるプラズマ生成用電極において、被処理基材６に近い側の電極を多数のガス吹出し部を設けた接地電極１とし、放電プラズマで生成した反応ガスを被処理基材へ照射する構造とし、かつ、接地電極１上部に一定の間隙を隔てて配置される高圧電極２の金属面が、被処理基材６とは直接対向しないようにする。 （もっと読む）

【課題】 リモートプラズマ発生管内におけるマイクロ波の電界分布を改善することができるリモートプラズマ発生ユニットを提供する。
【解決手段】 内部に活性化用ガスを流すリモートプラズマ発生管２６と、リモートプラズマ発生管の周囲に螺旋状に巻回されると共に両端部側が接地されて内部に冷却媒体を流すための金属製の冷却管２８とよりなり、外部より供給されるマイクロ波によりリモートプラズマ発生管内に流れる活性化用ガスをプラズマ化して活性化するリモートプラズマ発生ユニット７０において、リモートプラズマ発生管の端部には、冷却管の長さ方向における接地位置を調整するための接地位置調整手段７２が設けられている。この接地位置調整手段でもって冷却管の接地位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】 処理の安定性と再現性を向上させたプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】 反応容器１の中にある試料台５に高周波バイアス電源８から整合器７を介して高周波バイアス電圧を印加し、この状態で試料台５に半導体ウエハなどの試料６を載置し、プロセスガスのプラズマにより処理するようにしたプラズマ処理装置において、プラズマ処理を開始する際、高周波バイアス電源８からプラズマ処理時の電力値よりも小さな電力値の整合用高周波電力を供給して電力モニタ部９により検出した反射波の値が判定値以下となるように整合器７を調節し、この後、高周波バイアス電源８から試料台５に供給される高周波電力をプラズマ処理時の電力値にしてプラズマ処理を開始するようにしたもの。
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【課題】
プラズマ中の電気特性を測定する装置を提供する。
【解決手段】
プラズマに露呈されるように構成されたプラズマチャンバ面のセットを含むプラズマ処理チャンバの中で電気特性のセットを測定するように構成されたプローブ装置が開示されている。プローブ装置は、プラズマに露呈されるように構成された収集ディスク３０２を含み、それにより収集ディスク構造はプラズマチャンバ面のセットの少なくとも１つと同一平面上にある。プローブ装置は、収集ディスク構造から変換器のセットに電気特性のセットを送信するように構成された導電性パス３０６も含み、電気特性のセットは一般的にプラズマのイオン流出によって生成される。プローブ装置は、プラズマチャンバ面のセットから収集ディスク３０２と導電性パス３０６を実質的に電気的に分離するように構成された絶縁壁もさらに含む。 （もっと読む）

【課題】シート状圧電センサを使用することによって、検出対象物の異常状態を低コストで高感度かつ高精度に検出できるようにした異常状態検出方法およびその方法に使用するシート状圧電センサを提供する。
【解決手段】検出対象物に可撓性を有するシート状の圧電センサ１を密着させて固定する手順と、前記検出対象物からの音響振動を前記圧電センサによって検出する手順と、前記音響振動の検出信号により前記検出対象物の異常状態を判別する手順とを有する異常状態検出方法である。そして、前記圧電センサは、可撓性を有するシート状の基板３上に圧電層４として、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、窒化インジウム、酸化亜鉛およびニオブ酸リチウムから選択された一つの圧電性金属化合物を主成分とする薄膜を形成したものである。 （もっと読む）

半導体プラズマ発生器のための高周波による励起システムにおける電力潮流パラメータを測定および解析するためのシステムと方法。測定プローブ(8)が、送電線(4)から電圧信号(10)および電流信号(12)を受信し、測定するために、高周波送電線に接続されている。高速サンプリングプロセスにより、測定高周波電圧および電流信号がデジタル信号に変換される。次に、このデジタル信号を処理し、もとの高周波信号に対応する基本振動および高調波の振幅および位相情報を明らかにする。複数の測定プローブを送電路に挿入して、ツーポートパラメータを測定することができ、接続されたプローブからのデータにより、入力インピーダンス、出力インピーダンス、挿入損、内部散逸、電力潮流効率、散乱、および高周波信号に対するプラズマ非線形性の影響を決定することができる。 （もっと読む）

【課題】改善され、より一層産業上適用可能なカスケード源およびその制御方法に関する。
【解決手段】カソードハウジングと、互いに絶縁されるとともに各々の表面が積み重ねられた複数のカスケードプレートであって少なくとも１つのプラズマチャンネルが一体的に設けられたカスケードプレートと、プラズマチャンネルに連通する流出開口が設けられたアノードプレートと、を備えたカスケード源において、プラズマチャンネルごとにカソードが、プラズマチャンネルの延びる方向でカソードハウジングに対して嵌合可能な電極を有している。クランプ装置はコレット・チャック型のものであることが好ましい。また、このようなカスケード源の使用時の制御方法が挙げられる。
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