【課題】プラズマの着火ミスや着火遅延による弊害を防止する。
【解決手段】複数枚のウエハ１を一括処理する処理室３２を形成したプロセスチューブ３１と、処理室３２にジクロロシランガス７３を供給するガス供給管３８と、処理室３２にアンモニアガス７１を供給するガス供給管５０と、処理室３２を排気する排気管３５と、処理室３２にプラズマを励起させる一対の電極５７、５７と、両電極に高周波電力を印加する高周波電源５８とを備えたＡＬＤ装置において、プラズマの発光を検出する光センサ６３を処理室３２の外部に配置し、光センサ６３は高周波電源５８を制御するコントローラ６０を接続する。コントローラ６０は光センサ６３からの信号でプラズマの着火ミスや着火遅延を早期に検出して、プラズマ状態が最も不安定な着火状態が繰り返されるのを回避し、安定な成膜を確保できる状況を確保する。
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【課題】プラズマ処理中の被処理物の状態をリアルタイムで観察可能とするプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】ドライエッチング装置１１は、内部空間１５の底壁側に被処理物１が配置される真空容器１２、真空容器１１の外側の上方に配置され、かつ平面視で隙間が形成されるように配置された導体を備えるプラズマ発生用のコイル３６、内部空間１５の上方を閉鎖し、かつ平面視でコイル３６の導体間の隙間と対応する位置に透明部３０を備える頂壁１６、及びコイル３６の上方に配置され、コイル３６の導体間の隙間と頂壁１６の透明部３０とを介して被処理物の少なくとも一部を視野に収めることができるカメラ４５を備える。 （もっと読む）

本発明は、真空ライン１８に連結されたチャンバ１０内で行われる凍結乾燥処理中の脱水運転を監視するための装置に関する。この装置は、チャンバ１０内に含まれる気体を分析するための手段を備え、この手段は、プラズマを発生するように構成された発生器と結合された気体と接触しているプラズマ源３を含む、気体をイオン化するためのシステム１、及び、プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析する装置２２に連結されたプラズマ発生区域の近くに配置された放射線センサ２０を含む、イオン化された気体を分析するためのシステムを含む。このプラズマ源は誘導結合によって生成されることが好ましく、放射スペクトルを分析する装置は発光分析装置である。
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本発明は、電流分布リアルタイム硬Ｘ線診断により取得される線積分測定値を利用する０次ベッセル関数Ｊ_Ｏによるトモグラフィ逆変換技術を使用して、円環状容器に収容されるイオン化ガスリングから放出される超熱電子の局所的放射率分布を求める方法に関する。
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被処理体（Ｗ）を収容する容器（１）と、この容器（１）内のラジカルを含む雰囲気（Ｐ）に向けて紫外光（ＵＶ）を出力する紫外光発生手段（４１）と、雰囲気（Ｐ）中を通過してきた紫外光（ＵＶ）を受光する紫外光受光手段（４２）と、この紫外光受光手段（４２）の出力信号に基づき雰囲気（Ｐ）中におけるラジカルの密度を求め、プロセスのパラメータを制御する解析制御手段（４３，４４）とを備えている。これにより、ラジカルの密度を一定に保持し、プロセスの再現性を向上させることができる。
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【課題】 腐食性の高いハロゲン・プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマ室に連結する外部装置の連結部に設けられたＯリングの腐食を防止すると共に、その連結部の大気に対する気密性を高めたＯリング構造を提供すること。
【解決手段】 ハロゲン・プラズマに対し耐腐食性の高いフッ素樹脂系資材で形成したリング径の小さい内側Ｏリング３３と、気密性の高いゴム系資材で形成したリング径の大きい外側Ｏリング３４とを設け、プラズマ室１１の上部凹所３１にマイクロ波窓として配設したアルミナ板３２と前記上部凹所３１の底部との間に、前記内側Ｏリング３３と外側Ｏリング３４とを備えたＯリング構造となっている。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置において、処理ごとに最適な真空容器内環境を提供する。
【解決手段】 真空容器１と、第１の高周波電源４と、第２の高周波電源２１と、第３の高周波電源２５と、第１の高周波電源からの第１の高周波電圧および第３の高周波電源からの第３の高周波電圧が混合されて供給される真空容器内に設けた第１の電極２と、上面に試料１２が載置され第２の高周波電源からの第２の高周波電圧が供給される真空容器内に設けた第２の電極１４と、第２の高周波電圧と第３の高周波電圧の位相差を制御する位相制御装置２６とを備えるプラズマ処理装置であって、第２の高周波電圧と第３の高周波電圧は同一の周波数であり、第１の電極の第３の高周波電圧の位相を検出する第１の位相検出手段３２と、第２の電極の第２の高周波電圧の位相を検出する第２の位相検出手段３１とを備え、第１の位相検出手段と第２の位相検出手段の出力に基づいて、第２の高周波電圧および第３の高周波電圧の位相差を制御する。 （もっと読む）

【課題】大気圧大面積プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】本発明による大気圧大面積プラズマ発生装置は、発振周波数が可変なＶＣＯ回路，マイクロ波の発振時間と発振の繰り返し時間可変のパルス回路を含むマイクロ波発振器１と、アイソレータと増幅器を含むマイクロ波変調器２と、前記マイクロ波変調器２の出力に接続されているユニット化した複数のマイクロ波電力増幅器と、前記各マイクロ波電力増幅器にそれぞれ接続され、それぞれにプラズマ発生用ガスが導入されている同軸共振ヘッドよりなるプラズマガスを発生する複数のマイクロ波プラズマ発生源４と、前記複数のマイクロ波プラズマ発生源４を特定の空間に向けて配列する支持構造と、前記プラズマ発生源４に関連して配置されているプラズマセンサと、制御装置５から構成されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマチャンバ内に発生するアーキング検出・抑制回路とアルゴリズムの提供。
【解決手段】ＰＬＣ１２とＤＳＰ１４から構成されるアーク検出抑制回路１０を備える。アンテナ４７からの電磁場信号４８、方向性結合器からの前進出力信号２５、反射出力信号２７等１つ以上のセンサ信号に対して閾値を設け、アークを検出し場合ＲＦ電源２０に対して、短期間に出力を低減することによってアークを抑制させ、次いで元の値に回復させる。アークが再び始まると、ＲＦ電源２０は、出力を低減し、次いで出力を回復するステップを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 プラズマエッチングを実行中に装置安定性を維持しかつプラズマエッチング加工の再現性を向上できるプラズマエッチング法及びプラズマエッチング装置を提供する。また、プラズマエッチング法を用いて光学素子を精度及び再現性よく製造できる光学素子用成形金型及び光学素子を提供する。
【解決手段】 このプラズマエッチング法は、プラズマエッチングにおいて測定された被加工基材の電位に基づいて高周波電力を制御することで、プラズマエッチング中の被加工基材の電位を所定範囲内に制御する。 （もっと読む）