【課題】電子密度測定のための方法及びシステム
【解決手段】本発明は、プラズマ処理のための診断システムを提供し、該診断システムは、マルチモーダル共振器と、電源と、検出器と、コントローラとを備える。該コントローラは、該電源及び該検出器に結合され、該コントローラは、ガンダイオード電圧モニタ、ガンダイオード電流モニタ、バラクタダイオード電圧モニタ、検出器電圧モニタ、バラクタ電圧制御、バラクタ電圧スイープ制御、共振器ロックオン制御、グラフィカルユーザ制御及び電子密度モニタを含む、該診断システムに関連する機能のいくつかのモニタリング及び制御を実行するマンマシンインタフェースを実行できるように構成されている。該診断システムは、さらに、該コントローラに結合され、かつリモートマンマシンインタフェースを実行できるように構成されたリモートコントローラを備えることができる。
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【課題】 プラズマ処理装置において、処理中に生じる飛散物が透過窓に付着して堆積し、徐々に曇りが生じてしまうことを防止し、常時正確な光学測定を透過窓を介して行うことを可能とする。
【解決手段】 高周波電流が供給される励起補助電極を設け、その作用部を誘電体窓に近接して配置する。作用部の形状と配置位置を適切に設定することにより、スパッタ効果が生じ、透過窓に飛散物が堆積することがなく、曇りが生じることを防止することができ、プラズマ処理を行いながら、正確な光学測定を連続して行うことができ、被処理物の状態を常時知ることができる。励起補助電極は、励起コイルに直列に接続するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノウォールを製造する新規な方法およびその方法の実施に適した装置を提供する。【解決手段】 少なくとも炭素を構成元素とする原料ガス３２を反応室１０に導入する。その反応室１０には、第一電極２２および第二電極２４を含む平行平板型容量結合プラズマ（ＣＣＰ）発生機構２０が設けられている。これによりＲＦ波等の電磁波を照射して、原料ガス３２がプラズマ化したプラズマ雰囲気３４を形成する。一方、反応室１０の外部に設けられたラジカル発生室４１において、少なくとも水素を含むラジカル源ガス３６をＲＦ波等により分解して水素ラジカル３８を生成する。その水素ラジカル３８をプラズマ雰囲気３４中に注入して、第二電極２４上に配置した基板５の表面にカーボンナノウォールを形成する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置におけるプラズマの状態を、高精度に測定する。
【解決手段】 プラズマを用いた処理を行うプラズマ処理装置であって、処理室内に発生するプラズマの状態あるいは排気配管に付着した反応性生成物の付着量を、周波数測定装置を用いて検出する。ここで、周波数測定装置は、金属電極を有し、測定対象装置の側面に取り付けできる測定子と、金属電極に接続し、高周波信号を発振し、この高周波信号に対する測定対象装置の高周波特性を測定する測定器とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ面内におけるエッチング処理の均一性を向上する。
【解決手段】 プラズマ生成用の高周波電力が供給される下部電極３に対向する上部電極４に対し，電気特性調整部２０を設ける。電気特性調整部２０は，下部電極３に供給される高周波電力の周波数に対する，プラズマＰ側から見た上部電極４側の回路におけるインピーダンスを当該回路が共振しないように調整できる。エッチング処理時に，前記インピーダンスを共振点から外れるように調整することによって，エッチング処理の面内均一性が向上する。 （もっと読む）

下地を被覆するためのシステムは、下地を加熱するヒータを含む。このヒータは、二次元配列された複数の熱源を含み、これらの熱源は、下地が熱源配列の面前にあるときにこの下地に熱を供給する。ヒータは更に制御装置を含み、この制御装置は、下地の表面の局部区域を、下地のための所定の温度プロファイルに従って加熱するために、各熱源の動作を制御する。
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【課題】プラズマ処理システム内のアーク抑制方法およびシステム
【解決手段】プラズマ処理のためのアーク抑制システムは、このプラズマ処理システムに結合された少なくとも１つのセンサと、少なくとも１つのセンサに結合されたコントローラを備える。コントローラが、少なくとも１つのセンサから発生された少なくとも１つの信号を使用して基板と接触するプラズマの状態を決定すると共に、アーク発生事象を抑制するためにプラズマ処理システムを制御するための、少なくとも１つのアルゴリズムを提供する。センサ間の電圧差が目標差を超えたときに、プラズマ処理システムがアーク発生の影響を受け易くなることが決定される。この状態にある間、オペレータは通知を受け、また処理を続行するか、処理を修正するか、または処理を中止するか決定がなされる。
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本発明によって、プラズマを点火させることを提供する装置と方法とが提供される。該装置と方法とでは、アークの場合は、シャントスイッチが電力をプラズマからそらせるために使われ、該プラズマは、過剰電圧保護回路に組み込まれている。アークが消失すれば、プラズマを再点火させるための点火電圧をブースとするため、蓄えられたインダクタエネルギーが使用されるよう、該過剰電圧保護回路は、アークが消失したときに、シャントスイッチをブーストスイッチとして動作するように制御する。アークが消失し、インダクタ電流が減少し、プラズマが点火するとき、スイッチＳ１はオフにされ、インダクタエネルギーはプラズマに行き、電源は通常動作モードで動作する。 （もっと読む）

【課題】
プラズマ処理装置の処理特性の変動を検出し、変動を抑制することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
内部側壁を絶縁処理した反応容器１と、反応容器内に配置した試料台５、アンテナ１０を備え、該アンテナにプラズマ発生用電源から高周波電力を供給して反応容器内に導入した処理ガスをプラズマ化して試料台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、プラズマ発生用電源とアンテナを含む負荷回路との間にインピーダンス整合をとるための整合器１１を備え、該整合器は、負荷回路側のインピーダンス特性を測定するセンサと、センサの測定値に応じて整合器の入力端より負荷側をみた整合到達点及び該整合到達点に至る整合動作軌跡を変更する。 （もっと読む）

アークの開始時において、電力供給からの電流をプラズマから迂回させるｄｃプラズマ処理を動作し、それによって、エネルギーが電力供給装置からプラズマへと流れることを妨げ、次いで、電力供給装置がプラズマへのエネルギーの流れを再び有効にする場合に、再びエネルギーを流れさせる、新たな装置および方法が本発明によって提供される。アークの開始において、プラズマから電流を迂回させるために、電力供給装置の出力部に接続される、迂回手段であって、迂回手段は、アークが出力部上にて検出され、第１の所定の時間の間、電流を迂回させる場合に、作動され、迂回手段は、電流がゼロに到達する前に第１の所定の時間の終了時に解放され、ここで電流はプラズマに向けなおされ、迂回手段は、アークが消滅されない場合において、第２の所定の時間の終了時に再稼動される、手段とを備える。
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