【課題】複数の測定位置から得られる複数の光信号を検出することができ、また、より単純な構造を有するという利点を有している装置を使用して各測定位置の状態を分析することができるプラズマ処理装置および光検出方法を提供すること。
【解決手段】干渉光Ｌ１が、光ファイバ２２２を通過して分光コンポーネント２３０に伝送される。プラズマ光Ｌ２が、光ファイバ２２４を通過して分光コンポーネント２３０に伝送される。これらの光は、それぞれ個々に分光分離される。干渉光Ｌ１の分光分離によって得られる干渉光スペクトルＬ１ｇは、第１の光路２２６を通過して光電変換コンポーネント２４０の干渉光光受容領域に突き当たる。プラズマ光Ｌ２の分光分離によって得られるプラズマ光スペクトルＬ２ｇは、第２の光路２２８を通過して光電変換コンポーネント２４０のプラズマ光光受容領域に突き当たる。 （もっと読む）

【課題】 処理室内のデポ膜の除去と壁面材料の腐食を抑えることできる、プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 処理室内１０１に処理ガスを導入してプラズマ１１０を発生させ、被処理物を真空処理するプラズマ処理装置において、プラズマ発生手段１０６〜１０８と、処理室内壁１０２を構成する材料を含む反応物の存在を検出するモニタ手段１１２と、処理室内壁１０２を構成する材料を含む反応物の存在が所定量以上となったことを報知するアラーム手段を具備し、任意のエッチング処理毎にプラズマクリーニングを行い、その後Ｏ_２ガスあるいはＦガスを用いて壁面安定化処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】プラズマソース側のインピーダンスを調整することができ、装置間あるいはクリーニングサイクル間のインピーダンス誤差を解消することができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】内側電極38および外側電極36に分割された上部電極34および下部電極16との間に処理ガスのプラズマを生成してウエハＷにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、内側電極38へ高周波電流が流れ込むように形成された共振回路101と、内側電極38への給電ラインに設けられた可変コンデンサ78と、下部電極16のバイアスＶ_ＰＰを検出する検出器89と、プラズマを形成した状態で、可変コンデンサ78のキャパシタンスを変更させながら、検出器89からの信号を検出して共振回路101の共振点を探し出し、共振点における可変コンデンサ78のキャパシタンスを基準となる値に調整する制御部102とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、放電初期の放電状態が不安定なプラズマから被処理体へ照射される正、又は負の電荷をもったイオンや電子等の荷電粒子を低減することが可能なプラズマ処理装置を提供することにある。
【解決手段】 高周波電力を放出するアンテナによってプラズマを生成するプラズマ生成室と、プラズマ生成室から拡散したプラズマと被処理体とを反応させる被処理体反応室とを有するプラズマ処理装置において、プラズマ生成室で発生するプラズマ中の荷電粒子の被処理体への流入を制御する手段と、前記プラズマ生成室で発生するプラズマの生成状態を解析する機能を持つ検出手段と、前記検出手段の解析結果を前記荷電粒子の被処理体への流入を制御する手段にフィードバックする機能を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理システム及び方法
【解決手段】プラズマ処理システムと共に診断システムを作動させるプラズマ処理システム及び方法が提供される。該診断システムは、該プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバと連通しており、かつプラズマプロセス状態を検知する診断センサを含む。該診断システムは、該診断センサの汚染を実質的に低減するように構成されている。該方法は、該診断センサの汚染を実質的に低減することと、該プラズマプロセスおよび／または該処理チャンバ内の基板の状態を検知することとを含む。
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【課題】プラズマ処理システムとともに光学系を使用するための装置及び方法
【解決手段】プラズマ処理システムと連結して光学系を操作するためのプラズマ処理システム及び方法が提供される。該プラズマ処理システムは、該プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバと連通する光学系を含む。該光学系はウィンドウを含み、該ウィンドウを通してプラズマプロセス状態を、及び該ウィンドウの透過状態を検出するように構成、かつ配設されている。該方法は、該プラズマ処理領域から光学放射を検出することと、該光学系により提供されるウィンドウの汚れを監視することを含む。
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【課題】
【解決手段】最適化されたプロセシングパフォーマンスを達成するように現在のプラズマプロセスを変更するために、パフォーマンス測定値がモデルの測定値に比較されるような、プラズマプロセスの最適化されたプロセス設定を改善しもしくは見つけるために応答曲面とニューラルネットワークとが用いられるプラズマプロセスの多変数データの解析のための方法とシステム。 （もっと読む）

【課題】プラズマの電子温度や電子密度を正確に測定することができるプラズマ測定装置などを提供する。
【解決手段】プラズマ測定装置１は、プラズマＰ内に配置される２つの導体１０，１１と、導体１０，１１と接続可能に構成され、導体１０，１１間に電圧を印加するコンデンサ２１と、コンデンサ２１と接続可能に構成され、コンデンサ２１に電圧を印加して電荷を蓄えさせる電源２２と、コンデンサ２１を、導体１０，１１又は電源２２のどちらか一方に選択的に接続する第１切換機構２３と、コンデンサ２１によって導体１０，１１間に印加される電圧の正負を逆転させる第２切換機構２４と、コンデンサ２１によって導体１０，１１間に印加される電圧を検出する電圧検出機構１３と、プラズマＰを介して導体１０，１１間に流れる電流を検出する電流検出機構１４とを備える。 （もっと読む）

流体を処理するための装置はコロナ放電装置（６０２）および電源（６０１）を含む。コロナ放電装置（６０２）は、所定の範囲内の電極間の合計のキャパシタンスを提供するように互いに近くに位置付けられる少なくとも１つのコロナ放電電極（６０３）および少なくとも１つのコレクタ電極（６０５）を含む。電源（６０１）は電力信号をコロナ放電電極およびコレクタの電極（６０３，６０５）に供給するように接続されるため、コロナ電流がコロナ放電電極とコレクタの電極（６０３，６０５）との間に流れる。生成される電力信号の電圧の交流成分の振幅は電力信号の電圧の直流成分の振幅の１０分の１を超えない。電圧の交流成分はそのような振幅および周波数であるため、電圧の最も高い高調波の交流成分の振幅を電圧の直流成分の振幅で除した比率は、コロナ電流の交流成分の最も高い高調波の振幅をコロナ電流の直流成分の振幅で除した比率を大きく下回り、すなわち、（Ｖａｃ／Ｖｄｃ）＜（Ｉａｃ／Ｉｄｃ）である。
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【課題】 ドライクリーニングプロセスのプラズマ処理システムからチャンバ残渣を除去するシステム及び方法を提供することである。
【解決手段】 ドライクリーニングプロセスのプラズマ処理システムからチャンバ残渣を除去するためのシステム及び方法は、提供される。ドライクリーニングプロセスは、カーボンおよび酸素を含んでいるプロセスガスをプラズマ処理システムの処理チャンバに導入することと、プロセスガスからプラズマを生成することと、揮発性の反応生成物を形成するためにチャンバ残渣をドライクリーニングプロセスのプラズマにさらすことと、処理チャンバから反応生成物を排気することとを含む。 （もっと読む）