【課題】プラズマ処理装置において発生するソフトアークの発生を確実に検出することのできる、プラズマ処理システムのアーク検出装置を提供する。
【解決手段】本願発明のプラズマ処理システムのアーク検出装置は、高周波電力を発生する高周波電源装置１と、高周波電源装置１から供給される高周波電力によりプラズマを発生させて被加工物Ｂに所定の加工処理を行うプラズマ処理装置４とを備えるものであって、プラズマ処理装置４のプラズマ処理中に、プラズマ処理装置４からの反射電力の変化を示す情報を検出する検出し、この反射電力の変化に関する情報の変化パターンに基づいて、プラズマ処理装置４における被加工物の加工品質に悪影響を与える微小なアークの発生を検出するアーク検出部１７を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置で発生する被加工物の処理品質に悪影響を与える微小なアーク（ソフトアーク）を確実に検出する。
【解決手段】プラズマ処理装置に高周波電力を供給する周波数可変の高周波電源装置はソフトアークを検出するためのアーク検出部１７を備える。アーク検出部１７は、制御部１２から出力周波数を変化させてインピーダンス整合動作を行う信号が入力される毎に、タイマ制御部１７１とタイマ１７２により前回の整合動作から今回の整合動作までの時間間隔Ｔｍを計測する。更にカウンタ制御部１７３によりタイマ１７２で計測される時間間隔Ｔｍのうち、所定の時間間隔Ｔｒよりも短い時間間隔Ｔｍが連続する回数Ｃがカウントされ、その連続回数Ｃが基準回数Ｃｒを超えると、判定部１７４によりソフトアークが発生したと判定されてその判定結果をアーク処理部１９に出力する。アーク処理部１９ではソフトアーク発生報知などが行われ、これによりユーザはソフトアークの発生状況を把握することができる。 （もっと読む）

【課題】補助点弧を改善する真空プラズマプロセス装置の作動方法および真空プラズマプロセス装置の提供。
【解決手段】第１の動作状態では主プラズマが生成され、第２の動作状態では補助プラズマが生成される。この場合、第１の個数の高周波パワージェネレータ１９〜２２により主プラズマ電力が生成され、この第１の個数よりも少ない第２の個数の高周波パワージェネレータ、たとえば高周波パワージェネレータ１９〜２１を遮断し、高周波パワージェネレータ２２により補助プラズマ電力が生成される。 （もっと読む）

【課題】高周波電圧が印加されている下部電極に生じるマイナスのオフセット直流電圧値を安定的に維持することにより、安定したエッチングの特性が得られるプラズマ洗浄装置の提供。
【解決手段】高周波電源５から高周波電圧が下部電極３に印加されると、上部電極２と下部電極３との間に供給されているアルゴンガス等はプラズマ化され、プラズマ７中のプラスイオンが下部電極３上のプリント基板４に衝突し、プリント基板４の表面をエッチングして、汚染物質を取り除き洗浄する。また、高周波電圧が印加されている下部電極３に生じるマイナスのオフセット直流電圧は、常時測定回路８により測定され、制御装置９はこのオフセット直流電圧と予め設定された基準電圧との偏差に応じて高周波電圧を変化させるようにＰＩＤ制御又はオン／オフ制御により高周波電源５を制御する。 （もっと読む）

【課題】
プラズマの着火を高精度に検出して、処理全体の効率を向上することのできるプラズマ着火検出技術を提供する。
【解決手段】
真空処理容器１と、該真空処理容器内に処理ガスを導入するガス導入手段と、前記真空処理容器内に磁場を発生させる磁場発生手段４と、前記真空処理容器内に高周波電力を供給して該真空容器内にプラズマを生成する高周波電力供給手段２と、前記真空容器内に生成されたプラズマ６の発光を分光して発光スペクトルを取得する分光器８と、取得した発光スペクトルの内、予め定めた特定波長のスペクトルの発光強度をもとにプラズマの着火を検出する着火検出手段９を備えた。 （もっと読む）

【課題】装置状態に係わらず能動的にシール材の劣化を検出することができるとともに、劣化したシール材の特定を容易化することができるシール材管理方法及びシール材管理システムを提供する。
【解決手段】シール材にマーカー層を形成し、かつ、製造装置にマーカー層のシール材からの露出を検出する手段を有する構成を備える。 （もっと読む）

工作物を加工するためのプラズマ加工パラメータを測定するセンサ装置（１００）を提供する。センサ装置（１００）は、ベース（１１５）と、ベース（１１５）上又はベース（１１５）内に支持される情報プロセッサ（１３０）と、バス（１１５）上又はバス（１１５）内に支持される少なくとも１つのセンサ（１２０）とを含む。少なくとも１つのセンサ（１２０）はプラズマの電気特性を測定するように構成した少なくとも１つの感知素子（１２０Ａ）と、少なくとも１つの感知素子（１２０Ａ）に連結した少なくとも１つの変換器（１２０Ｂ）とを含む。変換器（１２０Ｂ）は感知素子（１２０Ａ）から信号を受信し、該信号を情報プロセッサ（１３０）に入力するための第２信号に変換するように構成する。
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【課題】プラズマ処理における異常放電を抑止する。
【解決手段】直流電源部１０は、静電吸着用電圧を発生し、下部電極２２に供給する。下部電極２２は、半導体基板等を静電吸着力で保持する静電チャックの構成部分であって、載置台を兼ね、その上に誘電体である絶縁被膜２３を設け、さらにその上に半導体基板等の被処理体２４を載せる。上部電極２１と下部電極２２との間に高圧の直流電圧を印加して、静電吸着力によって被処理体２４を載置台である下部電極２２に保持する。高周波電源部１１は、高周波電力信号を発生し、下部電極２２に供給して上部電極２１と下部電極２２との間にプラズマ２５を形成する。被処理体２４は、プラズマ２５によってプラズマ処理がなされる。制御部１４ａは、窓電位検出部２７が出力する窓プローブ電位が所定の閾値を超えたならば静電吸着用電圧の絶対値を小さくするように直流電源部１０を制御する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に金属汚染されにくい基準電極を設置し、精密にプラズマ特性を計測すること。
【解決手段】プラズマ計測装置は、導電性の材質からなり、内壁が絶縁処理されたチャンバ１００と、チャンバ１００内のプラズマ中に挿入されるプローブ１０１と、プローブ１０１に電圧を供給する直流電源１０４と、プローブ１０１により検出されたプラズマから流入するプローブ電流を測定する電流計１０３と、プローブ電流を測定する際の基準電位を得るために、チャンバ１００内に設置された基準電極１０５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】反応生成物等の付着物が検出窓の表面に付着し難く、かつプラズマにより検出窓表面がエッチングされにくく、長期間に亘ってプラズマ状態を高精度で検出することが可能なブラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】真空容器１０１内に被処理体を載置する部材を備え、真空容器１０１内に処理用のガスを導入する手段を持ち、真空容器１０１内にプラズマを発生させるための第１電極１０６ａを具備したプラズマ処理装置であって、真空容器１０１内で発生するプラズマの光信号を検出するための手段として真空容器１０１の少なくとも１つの側面に測定しようとする波長域に対して、透過性を持った材料で構成される検出窓を具備し、前記検出窓の真空容器１０１側にプラズマ中のイオンを積極的に引き込むための第２電極１０６ｂを具備し、前記検出窓の内側を伝播し真空容器１０１の外側の面から出るプラズマの発光を検出するための手段を有すること。 （もっと読む）