【課題】 プラズマ処理装置よる連続生産とメンテナンスとを繰返す装置の稼動において、異常放電発生の推移と不良基板発生の相関を一度把握し、その後の繰返し装置稼動において異常放電発生推移を監視し、不良基板の発生を抑制する品質管理を一括で行えるようにしたプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理方法は、電源装置に設けた異常放電検出手段を用いてプラズマに伴う２μｓ以上の持続時間の異常放電を検出し、検出した異常放電の単位時間当たりの発生回数或いは累積発生回数を計数し、計数した異常放電の単位時間当たりの発生回数或いは累積発生回数を予め設定した値と比較し、比較結果に基きプロセス条件を制御することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 簡単な装置構成で高精度にプラズマ電子温度を測定し得る方法ならびに該方法を実施するのに好適なプラズマ電子温度測定装置を提供すること。
【解決手段】 本発明により提供されるプラズマ電子温度測定方法は、所定のチャンバー１４内において生じたプラズマＰに対して、該プラズマ中に存在する準安定状態の分子又は原子の吸収波長に対応した波長のレーザ光Ｌを照射し、該プラズマに入射したレーザ光の強度(I_０)と該プラズマを透過したレーザ光の強度(I_t)とから該プラズマのレーザ光透過率を決定し、該レーザ光透過率に基づいて前記プラズマ中の準安定状態分子又は準安定状態原子の密度を決定し、該決定された準安定状態分子密度又は準安定状態原子密度に基づいて前記チャンバー内のプラズマ電子温度を決定する。 （もっと読む）

コントローラからの駆動信号によって駆動されると、電力源は、信号（ＲＦ又はマイクロ波）を発生する。センサは、電力源によって発生される信号の電圧と電流とを測定し、測定された電圧と電流とを表すセンサ信号を発生する。サンプラは、電力源を駆動する駆動信号と同期して、センサ信号をアンダーサンプリングするように構成されている。サンプリング周波数は、センサ信号の基本周波数のスカラ倍である。ＲＦ周波数では、同期的なアンダーサンプリング又は同期的なオーバーサンプリングが実行される。マイクロ波周波数では、同期的なアンダーサンプリングが実行される。
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【課題】 品質が安定したプラズマ処理を行うことができる、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 ａ）電極対間１４に処理ガス８を供給する、第１のステップと、ｂ）電極１２，１３に電圧を印加して放電を発生させ、電極対間１４を通過する処理ガス８をプラズマ化させる、第２のステップと、ｃ）電極対間１４を通過してプラズマ化された処理ガス８のうち、電極対間１４に残留している気体６を置換した後の処理ガス８のみを被処理物２に接触させる、第３のステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】自律型のプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】物体の表面にプラズマを照射するプラズマ照射装置と、プラズマ照射装置のプラズマ照射姿勢を制御する姿勢制御装置３０と、物体表面上のプラズマの照射位置を制御する位置制御装置１０、１１、５１と、プラズマ照射装置により照射されるラジカル密度を測定するラジカル測定装置４１と、ラジカル測定装置により測定されたラジカル密度に応じて、プラズマ照射装置によるプラズマ発生量を制御する第１制御装置５２とを有するプラズマ処理装置である。 （もっと読む）

無線周波数電力供給システムは、ＲＦ電力生成器、アーク検知回路、およびアーク検知回路に応答する制御ロジックを備える。動的境界は、電力生成器から負荷まで伝達された電力を表すパラメータ、または該電力に関連付けられたパラメータの測定された値に関して計算される。パラメータの計算された動的境界を超える、次に計測されたパラメータの値は、アークの検知を示す。アークを検知したとき、アークが消滅するまで、発生器からの電力供給は一時中断されるか調整され、または他の措置がとられる。アーク検知境界の動的計算を採用することによって、本発明は、システムが定常電力供給状態に到達したかどうかに関わらず、ＲＦ電力供給システムにおけるアークの扱いを可能にする。 （もっと読む）

【課題】 半導体基板の加工パラメータを安定にかつ変化量を最小に管理できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 反応室１にガス導入ライン３によりプロセスガスを導入しつつ、高周波電源１３により高周波電力を印加してプラズマを誘起し、反応室１内に設置した半導体基板Ｗを成膜もしくはエッチングするプラズマ処理装置に、反応室１に印加する高周波電力をインピーダンス整合器１４でインピーダンス整合する際の電気容量の値をモニターする手段と、検出された電気容量の値を用いて反応室内のプロセスガスの分圧変動を判定する手段とを設ける。これは、反応室１内部へのガス吸着や反応生成物からの放出ガスによるガス分圧変動が要因となって起こるプラズマ特性の一つである電気的容量値の変化を、インピーダンス整合器１４の整合容量値の変化、通常は特定ステップでの整合容量値の変化で検知するものであり、簡易にモニタリング可能である。 （もっと読む）

【課題】負荷において発生するアークの発生を検出するとき、その検出精度を向上させることができる高周波電源装置を提供する。
【解決手段】高周波電源装置１は、負荷Ｌに対して高周波電力を供給する発振部１４及び増幅部１５と、負荷Ｌに入射される高周波電力と負荷Ｌから反射される高周波電力を検出するパワー検出部１６と、パワー検出部１６で検出された負荷Ｌへの入射電力と負荷Ｌからの反射電力とに基づいて反射係数を算出する反射係数算出部１７と、反射係数算出部１７によって算出された反射係数の値が所定時間内に予め定める判定基準幅Ｗ以上変化したか否かを判別し、その判別結果に基づいて、負荷Ｌにおけるアークの発生を検出するアーク検出部１８と、反射係数算出部１７によって算出された反射係数の値が判定時間Ｔ内に判定基準幅Ｗ以上変化したか否かが判別されるとき、当該反射係数の値に応じて判定基準幅Ｗを可変する基準幅設定部１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】数ｋｅＶ程度のエネルギーを持つイオンを計測することができ、印加電圧を小さく抑え、かつ小型化が可能なイオン電流量計測器を提供する。
【解決手段】電極板２とコレクター３との空間に電極板側に粒子軌道偏向部を形成し、コレクター３側にイオンイオン捕集部を形成する静電遮蔽グリッド５を設け、電極板２にプラス電圧が、そして静電遮蔽手段４にマイナス電圧を印加する手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】動作効率が高く、しかも装置自体も小型化されて低コストで、バランス調整も不要にできるマイクロ波発生装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波帯域の基本周波数を有する方形波状のスイッチ信号を発生するスイッチ信号発生部６８と、スイッチ信号に基づいてスイッチング電力増幅を行って増幅信号を出力するスイッチング電力増幅部７０と、スイッチング電力増幅部に増幅用の駆動電圧を可変的に供給することができる可変電圧供給部７１と、増幅信号からスイッチ信号の基本周波数と同じ周波数の正弦波信号を取り出してマイクロ波として出力するためのマイクロ波選択部７２と、マイクロ波を検出する出力信号検出部７４と、出力信号検出部の検出結果に基づいて可変電圧供給部を制御する駆動電圧制御部７６とを備える。 （もっと読む）