あり溝用シール材およびこのシール材が装着された真空用ゲート弁
【課題】特に、半導体製造装置、液晶製造装置などに好適に使用されるあり溝用シール材で、あり溝内への装着性が良好で、かつ脱落抵抗力が高く、仮に大型化された真空用ゲート弁に使用された場合であっても、低荷重で十分なシール力を得ることができるあり溝用シール材を提供する。
【解決手段】シール面に形成されたあり溝４２に装着される閉環状のシール材２０であって、あり溝４２内に装着されるシール材本体２０ａの断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、あり溝４２の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部２４、残り２つの隅角部を第２の隅角部２６、第３の隅角部２８としたとき、第２の隅角部２６、第３の隅角部２８各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８の間を連結する基端部３２の底面に、凹所３４が形成されていることを特徴とする。
【解決手段】シール面に形成されたあり溝４２に装着される閉環状のシール材２０であって、あり溝４２内に装着されるシール材本体２０ａの断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、あり溝４２の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部２４、残り２つの隅角部を第２の隅角部２６、第３の隅角部２８としたとき、第２の隅角部２６、第３の隅角部２８各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８の間を連結する基端部３２の底面に、凹所３４が形成されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、あり溝用シール材およびこのシール材が装着された真空用ゲート弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置などで使用されている真空用ゲート弁として、例えば、ワンアクションタイプの真空用ゲート弁が知られている。図９は、ワンアクションタイプの真空用ゲート弁の分解斜視図を示したものである。
【０００３】
すなわち、この真空用ゲート弁１０は、弁板２がアクチュエータ４から加えられる力により単一方向の直線移動を行い、これにより略矩形状のゲート開口部６を封止する構造を有している。
【０００４】
このようなゲート弁１０では、一般に、弁板２の外周面に装着されるシール材として、断面が円形状であるＯリング８が使用されている。
このような真空用ゲート弁１０は、半導体あるいはＦＰＤ製造装置などにおいて、基板を内外に受け渡すために減圧と大気開放が繰り返される、ロードロックチャンバに使用される場合がある。
【０００５】
ここで、真空用ゲート弁の弁体が閉じた状態でロードロックチャンバが大気に開放されると、弁体は１気圧の差圧を受け、閉じられた状態のままロードロックチャンバと反対方向に移動する。そして、ロードロックチャンバが再び減圧されると、弁体はロードロックチャンバ側へ再び移動する。このように、ロードロックチャンバに取付けられた真空用ゲート弁では、装置の構成上、弁体が頻繁に水平方向に移動することになる。
【０００６】
例えば、図１０に示したように、弁体２の矢印方向への移動が繰り返して行なわれると、Ｏリング８にシール荷重とスラスト荷重の合力が繰り返して作用するため、Ｏリング８の一部にねじれが発生し、シール不良が発生し易い。また、断面円形のＯリング８は転動を起こし易い形状であるため、シール溝１４からの脱落が発生し易い。このように、ねじれや脱落によるシール不良を発生し易いＯリング８を使用したゲート弁１０では、Ｏリング８を交換するためのメンテナンス作業が頻繁に必要になる。このようなメンテナンス作業は、生産ラインを一時的に停止することになるため、生産性に大きな損失を来たし、コスト高を招来する。
【０００７】
一方、Ｏリング８を使用した場合、被処理体であるシリコンウェハなどの大型化に伴い真空用ゲート弁１０が大型化されると、それに伴って、加工精度、組立誤差を許容する必要があるため、Ｏリング８の断面形状も大きくしなければならない。したがって、真空用ゲート弁１０が大型化されると、Ｏリング８に対するつぶし代を得るための荷重も大きくなり、結果として、バルブケーシング１２の剛性を上げたり、押付力を増すためにアクチュエータ４の出力を上げたりするなどの対応が必要で、コストアップの大きな要因となっている。
【０００８】
そこで、近年では、本出願人などにより、断面円形のＯリング８に代えて、特殊な異形品のシール材が提供され、その異形品のシール材が、あり溝内に装着されるあり溝用シール材が提供されている。図１１は、本出願人によって出願されたシール材３０を示したものであり、このシール材３０では、脱落と転動を防止するために断面円形のＯリングではない異形品のシール材が採用されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−３１６７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、図１１に示したあり溝用シール材３０では、大型化した真空用ゲート弁に適用する場合に、比較的高い圧縮荷重が必要とされる。そのため、シール推力を得るために大型のシリンダなどが必要になり、結果的に真空用ゲート弁が大型化してしまう。
【００１０】
また、過度に圧縮されてしまうと、メタル同士のこすれによって、パーティクルが発生する虞もある。
さらに、シール材３０のように断面円形のＯリングに代わる異形品の場合には、あり溝１２内への装着性が困難になる場合が多い。
【００１１】
本発明は、このような従来の問題に鑑み、特に、半導体製造装置、液晶製造装置などに好適に使用されるあり溝用シール材で、あり溝内への装着性が良好で、かつ脱落抵抗力が高く、仮に大型化された真空用ゲート弁に使用された場合であっても、低荷重で十分なシール力を得ることができるあり溝用シール材を提供することを目的としている。
【００１２】
さらに、本発明は、半導体製造装置、液晶製造装置などに使用される大型化された真空用ゲート弁であっても、低荷重で十分なシール力を得ることができる真空用ゲート弁を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係るあり溝用シール材は、
シール面に形成されたあり溝に装着される閉環状のシール材であって、
前記あり溝内に装着されるシール材本体の断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、前記あり溝の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部、残り２つの隅角部を第２、第３の隅角部としたとき、第２、第３の隅角部各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、前記第２の隅角部と前記第３の隅角部の間を連結する基端部の底面の少なくとも一部に、凹所が形成されていることを特徴としている。
【００１４】
係る構成による本発明によれば、シール面を構成する頂部が容易に変形するので、低荷重で所定のシール力を得ることができるとともに、逆に想定された圧宿荷重を超える場合には、基端部の底面に形成された凹所を中心に両側が潰れるように変形し、さらに凹所内の空気が排出されるので、ここに生じる吸盤作用により、このシール材の転動を防止することができる。また、吸盤作用により所定の反発力を維持することができる。
【００１５】
これにより、メタルタッチを防止でき、パーティクルの発生を防止することができる。
また、基端部の底面に凹所を設けることにより、シール材のあり溝への装着性が容易になり、さらに、シール材の転動を効果的に防止することができる。
【００１６】
ここで、本発明では、前記あり溝用シール材の全幅をＷ、および前記あり溝用シール材の高さをＨ、前記第１の隅角部の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることが好ましい。
【００１７】
このような構成であれば、シール面を構成する第１の隅角部を速やかに変形させることができ、シール座面と第１の隅角部とが当接して形成されるシール面の面積が小さくなるため、シール座面を形成する弁体とあり溝用シール材とが固着しにくい。
【００１８】
また、本発明では、前記シール面を構成する第１の隅角部は、小径の円弧で形成され、前記第２の隅角部は、これより大径の円弧で形成され、前記第３の隙角部は、少なくとも２辺からなる直線部で構成されていても良い。
【００１９】
このような構成であれば、あり溝に装着する際のシール材の弾性変形は、第３の隅角部周辺のわずかな部分だけでよく、角部があり溝の開口縁を通過した後に、そのまま軽く押し込めば、シール材を所定の位置に装着することができる。
【００２０】
本発明に係る真空用ゲート弁は、上記いずれかに記載されたあり溝用シール材が、弁体に装着されていることを特徴としている。
このような構成の真空用ゲート弁によれば、シール材の転動が防止され、あり溝への装着性も良好で、メタルタッチ、パーティクルの発生を防止することができ、加えてシール不良によるメンテナンスを少なくすることができる。したがって、ロードロックチャンバなどに効果的に使用することができる。また、ウェハなどの生産性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係るあり溝用シール材によれば、シール面を構成する第１の隅角部が小さな荷重で極めて容易に変形するので、低荷重でシール力を得ることができる。また、基端部の底面に形成された凹所を中心に、両側が潰れるように変形し、凹所内の空気が排出されるので、ここに生じる吸盤作用により、シール材の転動を防止することができる。これにより、メタルタッチによるパーティクルの発生を防止することができる。
【００２２】
さらに、あり溝への装着に関しては、第１の隅角部２４と第２の隅角部２６の間に構成された凹み部を、あり溝４２の開口縁に係止させ、その状態からシール材を回動させれば良いので、極めて容易に、かつ適正な姿勢でシール材を装着することができる。
【００２３】
このようなあり溝用シール材が採用された真空用ゲート弁は、減圧と大気開放が繰り返して行なわれるロードロック室のロードロックチャンバに有効に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明する。
図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ），（Ｄ）は、それぞれ本発明の一実施例に係るあり溝用シール材２０を示した平面図、側面図、底面図およびＡ−Ａ線方向の断面図である。図２は、本発明の一実施例に係るあり溝用シール材２０の装着状態を、図３はそのシール構造を備えた真空用ゲート弁３０の概略を示したものである。また、図４は、シール材２０の自然状態での断面形状を示したものである。
【００２５】
本実施例のあり溝用シール材２０は、図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示したように、閉環状のシール材であり、下面側が下膨れの形状となっている。断面形状は、図１（Ｄ）に示したように、断面略三角形状の栗形状を呈している。また、このあり溝用シール材２０は、図２に示したように、閉環状のあり溝４２が形成された一方の部材（例えば、弁板に相当）４０と、他方の部材（例えば、バルブケーシングに相当）５０との封止箇所に装着される。
【００２６】
一方の部材４０の表面に形成されたあり溝４２は、開口幅Ｂを有し、開口端縁から底面にかけてテーパ−状に拡がる台形状をなし、一対の傾斜面と平坦な底面を有している。また、あり溝４２の開口縁には、小さな面取りが設けられ、底面側の隅部には大きなアールが設けられている。
【００２７】
一方、シール材２０のシール材本体２０ａは、あり溝４２から外方に突出される頂点側の第１の隅角部２４と、底面側の第２の隅角部２６と第３の隅角部２８とを有している。
第１の隅角部２４は、あり溝４２の底面に対して垂直な中心線Ｓ−Ｓ上に配置されている。また、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８との間を連結する基端部３２の底面に、凹所３４が形成されている。
【００２８】
本実施例のシール材２０は、このような形状を基本構造としているが、さらに具体的な形状について詳述する。
すなわち、シール材２０のシール材本体２０ａは、図２および図４に示したように、あり溝４２の底面側に配置される基端部３２と、他方の部材５０の表面に当接する第１の隅角部２４と、前記第１の隅角部２４の一方の裾部に連続し外側に張り出す第２の隅角部２６と、前記第１の隅角部２４の他方の裾部に連続し外側に張り出す第３の隅角部２８とを備えており、この第３の隅角部２８は、第１の直線部３５と第２の直線部３６とから構成されている。
【００２９】
これら第１の隅角部２４と第２の隅角部２６と第３の隅角部２８は、シール材本体２０ａの中心点Ｏから略１２０°置きの３分割線上に配置されている。
上記第３の隅角部２８は、中間部に少なくとも一箇所の角部２８ａが形成され、この角部２８ａを境に、第１の直線部３５と第２の直線部３６とに区画されている。
【００３０】
以下、本実施例によるシール材２０の各部の望ましい設計条件について説明する。
図４において、シール材２０の全幅をＷ、およびシール材２０の高さをＨ、第１の隅角部２４の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることが望ましい。
【００３１】
Ｒ／ＷおよびＲ／Ｈがこの範囲を越えると、低荷重シール材として寄与せず、また弁体が固着しやすくなる。逆に、この範囲より小さくなると、第１の隅角部２４が挫屈したり、十分なシール性が得られなくなる。
【００３２】
また、第１の隅角部２４の両側に構成される凹みの半径を、それぞれＲ２、Ｒ３としたとき、Ｒ２，Ｒ３は同じでなくても良いが、製品の全幅Ｗを基準に設定すれば、
Ｒ２／Ｗ＝０．３〜０．４
Ｒ３／Ｗ＝０．３〜０．４ であることが望ましい。
【００３３】
Ｗに対するＲ２，Ｒ３の割合がこれよりも小さくなると、低荷重で十分なシール性能を発揮することができず、逆にこれより大きくなると第１の隅角部２４が挫屈しやすくなり、シール性能を発揮することができない。
【００３４】
また、製品の全幅をＷ、あり溝の開口幅をＢとしたとき、
Ｗ／Ｂ＝１．１〜１．４であることが望ましい。
Ｗ／Ｂがこれより小さいと、シール材２０はあり溝４２から脱落する虞があるこれより大きいとシール材２０に対する装着性が悪くなる。
【００３５】
さらに、シール材の高さをＨ、シール溝の深さをＨ１としたとき、
（Ｈ−Ｈ１）／Ｈ＝０．１５〜０．３０
シール材の高さＨがこのような範囲に設定されていれば、閉環状のあり溝４２が形成された一方の部材（例えば、弁板に相当）４０と、他方の部材（例えば、バルブケーシングに相当）５０とが、当接することなく良好に封止することができ、メタルタッチによるパーティクルの発生を防止できる。
【００３６】
また、圧縮荷重が小さく低推力シール材にしようとすると、シール材のつぶし量が小さくなる傾向にある。本発明では、低推力であってもシールのつぶし代を従来のシール材と同等になるように設計されており、製品高さＨが上記のように設定されていれば、それに寄与することができる。
【００３７】
さらに、基端部３２の凹所３４の半径をＲ１とし、製品幅Ｗを基準にして設定すると、
Ｒ１／Ｗ＝０．２〜０．４であることが望ましい。
また、凹所３４の凹み深さをＤ、これをシール材の高さＨを基準にして設定すると、
Ｄ／Ｈ＝０．０３〜０．２であることが望ましい。
【００３８】
凹所の深さＤがこれより大きくなるとシール材の剛性が無くなるので好ましくない。
また、凹所３４の深さＤがこのような範囲にあれば、シール材をあり溝に装着する際、シール材が適度に変形するため容易に装着でき、さらに、締付けた場合の吸盤作用により、シール材の転動を効果的に防止することができる。
【００３９】
よって、上記のような範囲に各部材の寸法が設計されていることが望ましい。
本実施例によるシール材２０は、全体が弾性変形可能なゴム材料から形成されている。ゴム材料としては、例えば、硬度６０〜７０ＨＡ程度のフッ素ゴム、シリコンゴム、ＥＰＤＭ系ゴムなどが挙げられるが、特に、半導体製造装置や液晶製造装置の真空用ゲート弁などに使用される場合には、内部がプラズマ環境となる場合が多いことから、耐プラズマ性に優れたフッ素ゴムが好ましい。
【００４０】
以下に、このようなシール材２０のあり溝４２内への装着について、図５を参照しながら説明する。なお、図５中の矢印は、力の作用する方向を示したものである。
先ず、図５（Ａ）に示したように、あり溝４２内にシール材２０の第２の隅角部２６側をあり溝４２内に対向させ、第２の隅角部２６からあり溝４２内に挿入し、第１の隅角部２４と第２の隅角部２６の間に構成された凹み部を、あり溝４２の開口縁に位置決めする。さらに図５（Ｂ）に示したように、第３の隅角部２８側を矢印方向に回動すると、角部２８ａがあり溝４２の開口縁に当接される。このように、角部２８ａがあり溝４２の開口縁に当接された状態から、さらにシール部材２０を押し込めば、図５（Ｃ）に示したように、第２の直線部３６があり溝４２の開口縁を完全に通過して、あり溝４２の底面側に配置される。このとき、角部２８ａの近傍を若干圧縮するだけで、シール材２０を内方に収納することができる。この際、凹所３４を有することでシール材の変形を容易にし、したがって、大きな力が不要である。
【００４１】
この状態から凹所３４があり溝４２の底面に位置するまで押し込めば、図５（Ｄ）に示したように、シール材２０を完全にあり溝４２内に装着することができる。
図５（Ｄ）に示したような自然状態において、シール材２０は、図の右方に位置する角部２８ａがあり溝４２の内周面に当接される。さらに、反対側では、第２の隅角部２６が、あり溝４２の傾斜面に当接される。したがって、図５（Ｄ）の状態では、シール材２０は、あり溝４２の幅方向に移動することができず、しかも、あり溝４２の開口縁が狭まっていることから、外方に脱落することもない。
【００４２】
以下に、一方の部材４０に装着されたシール材２０を締め付ける場合の挙動について、図２および図６（Ａ），（Ｂ）を参照しながら説明する。
今、図２に示したように、シール材２０が一方の部材４０内に装着され、この部材４０に他方の部材５０が接近して、図６（Ａ）に示したように、第１の隅角部２４の先端部に当接したとする。この状態で押し込まれれば、図６（Ｂ）に示したように、凹所３４を潰すようにして第２の隅角部２６と第１の直線部３５の上の角部Ｒがあり溝４２の内周面に
当接した状態で押し込まれる。
【００４３】
図６（Ｂ）のシール状態では、押圧力により第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が外側に膨出するように変形するので、シール材本体２０ａの転動が確実に防止されている。
このように、本実施例では、シール部材２０が装着された一方の部材４０は、他方の部材５０との締め付けにより、先に第１の隅角部２４が変形され、第１の隅角部２４が十分に変形されつつ、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が外側に膨出するように変形するので、低荷重でシール力を得ることができる。また、このように締め付けられた状態であっても、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が二股に分かれて両側に変形するので、転動や姿勢の崩れを防止することができる。
【００４４】
さらに、図６（Ｂ）の状態からさらに、想定外の強い圧縮荷重を受けたとしても、第１の隅角部２４が、上方に向けて反力を発生するので、それ以上の圧縮変形が抑制され、一方の部材４０と他方の部材５０とによるメタルタッチを防止することができる。したがって、パーティクルの発生を可及的に防止することができる。
【００４５】
さらに、本実施例では、基端部３２に凹所３４が形成されているので、図６（Ｂ）に示したように、締め付けられた状態では、この凹所３４が吸盤作用を発揮するため、このシール材２０があり溝４２内に、より一層密着される。このように、このシール材２０があり溝４２側に密着されれば、あり溝４２からの脱落防止性を向上させることができる。
【００４６】
図７は、従来例であるＯリング８と、本実施例によるシール材２０との装着性、圧縮性、および脱落防止性を対比して示した断面図である。この図から明らかなように、本実施例のシール材は、つぶし代ｔを変形させるための荷重がＯリング８に比べて小さくて良い。したがって、圧縮時に低荷重でシール性を得ることができる。また、装着性が良好であるとともに、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８との係止により、あり溝４２からの抜けを効果的に防止できる。このように、シール時の荷重が低荷重で良く、さらに装着状態からの脱落防止性が極めて良好であることは明らかである。
【００４７】
図８は、つぶし代と圧縮荷重との関係を、実施例と従来例とを対比して示したグラフである。
一般に、シール部分では、上記したように、一定以上の応力がシール材８，２０に作用して所定のつぶし代ｔを変形させてシール機能を発揮するが、図８のグラフから明らかなように、従来例であるＯリングの場合には、つぶし代ｔが大きくなるに比例して、これに必要な圧縮荷重も大きくなっているが、本実施例の場合には、つぶし代ｔが大きくなっても、締付荷重はそれほど変わらないことが確認された。
【００４８】
したがって、本実施例によれば、仮に、ウェハなどの被処理体が大型化するに伴って真空用ゲートバルブが大型化されたとしても、それに装着されるシール材は、Ｏリングの場合のように、圧縮荷重をそれ程大きくする必要はないことが確認された。
【００４９】
以上、本発明に係るあり溝用シール材の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、特に、半導体製造装置、液晶製造装置において使用されるワンアクションタイプの真空用ゲート弁を例にして説明したが、使用箇所は、これに限定されるものではない。あり溝４２が形成されたシール溝であれば、どのような部材にも有効に適用することができる。
【００５０】
以上、本発明に係るあり溝用シール材の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、特に、半導体製造装置、液晶製造装置において使用されるワンアクションタイプの真空用ゲート弁を例にして説明したが、使用箇所は、これに限定されるものではなく、いわゆるツーアクションタイプの真空用ゲート弁にも適用可能である。また、特に、半導体あるいはＦＰＤ製造装置において、減圧と大気開放とが繰り返されるロードロックチャンバの真空用ゲート弁として好ましく使用することができる。
【００５１】
さらに、あり溝４２が形成されたシール溝であれば、どのような部材にも有効に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は本発明の一実施例に係るあり溝用シール材を示したもので、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図、図１（Ｃ）は底面図、図１（Ｄ）は図１（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施例に係るあり溝用シール材の使用例を示した断面図である。
【図３】図３は、図１に示したあり溝用シール材の使用例として、真空用ゲートバルブの弁板に装着された例を示す断面図である。
【図４】図４は図１に示したあり溝用シール材の断面構造を詳細に示す断面図である。
【図５】図５は、本実施例によるシール材のあり溝内への装着の手順を示した概略図である。
【図６】図６は、本実施例によるシール材の締め付け時の変形の状態を示した概略断面図である。
【図７】図７は、本願発明品と従来例であるＯリングとを対比して、装着状態と圧縮時と脱落状態とを模式的に示した図である。
【図８】図８は本願発明品と従来例であるＯリングとを対比して、装着状態と圧縮時と脱落時とを模式的に示した図である。
【図９】図９は、従来のあり溝にシール部材が装着された例として示した真空用ゲート弁の斜視図である。
【図１０】図１０はＯリングが弁体に装着された場合にシール材に作用する力を示す従来例の断面図である。
【図１１】図１１は特開２００４−３１６７２４号に開示されているあり溝用シール材の断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
２０ シール材
２０ａ シール材本体
２４ 第１の隅角部
２６ 第２の隅角部
２８ 第３の隅角部
２８ａ 角部
３０ 真空用ゲート弁
３２ 基端部
３４ 凹所
３５ 第１の直線部
３６ 第２の直線部
３８ 凹所
４０ 一方の部材
４２ あり溝
５０ 他方の部材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、あり溝用シール材およびこのシール材が装着された真空用ゲート弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置などで使用されている真空用ゲート弁として、例えば、ワンアクションタイプの真空用ゲート弁が知られている。図９は、ワンアクションタイプの真空用ゲート弁の分解斜視図を示したものである。
【０００３】
すなわち、この真空用ゲート弁１０は、弁板２がアクチュエータ４から加えられる力により単一方向の直線移動を行い、これにより略矩形状のゲート開口部６を封止する構造を有している。
【０００４】
このようなゲート弁１０では、一般に、弁板２の外周面に装着されるシール材として、断面が円形状であるＯリング８が使用されている。
このような真空用ゲート弁１０は、半導体あるいはＦＰＤ製造装置などにおいて、基板を内外に受け渡すために減圧と大気開放が繰り返される、ロードロックチャンバに使用される場合がある。
【０００５】
ここで、真空用ゲート弁の弁体が閉じた状態でロードロックチャンバが大気に開放されると、弁体は１気圧の差圧を受け、閉じられた状態のままロードロックチャンバと反対方向に移動する。そして、ロードロックチャンバが再び減圧されると、弁体はロードロックチャンバ側へ再び移動する。このように、ロードロックチャンバに取付けられた真空用ゲート弁では、装置の構成上、弁体が頻繁に水平方向に移動することになる。
【０００６】
例えば、図１０に示したように、弁体２の矢印方向への移動が繰り返して行なわれると、Ｏリング８にシール荷重とスラスト荷重の合力が繰り返して作用するため、Ｏリング８の一部にねじれが発生し、シール不良が発生し易い。また、断面円形のＯリング８は転動を起こし易い形状であるため、シール溝１４からの脱落が発生し易い。このように、ねじれや脱落によるシール不良を発生し易いＯリング８を使用したゲート弁１０では、Ｏリング８を交換するためのメンテナンス作業が頻繁に必要になる。このようなメンテナンス作業は、生産ラインを一時的に停止することになるため、生産性に大きな損失を来たし、コスト高を招来する。
【０００７】
一方、Ｏリング８を使用した場合、被処理体であるシリコンウェハなどの大型化に伴い真空用ゲート弁１０が大型化されると、それに伴って、加工精度、組立誤差を許容する必要があるため、Ｏリング８の断面形状も大きくしなければならない。したがって、真空用ゲート弁１０が大型化されると、Ｏリング８に対するつぶし代を得るための荷重も大きくなり、結果として、バルブケーシング１２の剛性を上げたり、押付力を増すためにアクチュエータ４の出力を上げたりするなどの対応が必要で、コストアップの大きな要因となっている。
【０００８】
そこで、近年では、本出願人などにより、断面円形のＯリング８に代えて、特殊な異形品のシール材が提供され、その異形品のシール材が、あり溝内に装着されるあり溝用シール材が提供されている。図１１は、本出願人によって出願されたシール材３０を示したものであり、このシール材３０では、脱落と転動を防止するために断面円形のＯリングではない異形品のシール材が採用されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００４−３１６７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、図１１に示したあり溝用シール材３０では、大型化した真空用ゲート弁に適用する場合に、比較的高い圧縮荷重が必要とされる。そのため、シール推力を得るために大型のシリンダなどが必要になり、結果的に真空用ゲート弁が大型化してしまう。
【００１０】
また、過度に圧縮されてしまうと、メタル同士のこすれによって、パーティクルが発生する虞もある。
さらに、シール材３０のように断面円形のＯリングに代わる異形品の場合には、あり溝１２内への装着性が困難になる場合が多い。
【００１１】
本発明は、このような従来の問題に鑑み、特に、半導体製造装置、液晶製造装置などに好適に使用されるあり溝用シール材で、あり溝内への装着性が良好で、かつ脱落抵抗力が高く、仮に大型化された真空用ゲート弁に使用された場合であっても、低荷重で十分なシール力を得ることができるあり溝用シール材を提供することを目的としている。
【００１２】
さらに、本発明は、半導体製造装置、液晶製造装置などに使用される大型化された真空用ゲート弁であっても、低荷重で十分なシール力を得ることができる真空用ゲート弁を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係るあり溝用シール材は、
シール面に形成されたあり溝に装着される閉環状のシール材であって、
前記あり溝内に装着されるシール材本体の断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、前記あり溝の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部、残り２つの隅角部を第２、第３の隅角部としたとき、第２、第３の隅角部各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、前記第２の隅角部と前記第３の隅角部の間を連結する基端部の底面の少なくとも一部に、凹所が形成されていることを特徴としている。
【００１４】
係る構成による本発明によれば、シール面を構成する頂部が容易に変形するので、低荷重で所定のシール力を得ることができるとともに、逆に想定された圧宿荷重を超える場合には、基端部の底面に形成された凹所を中心に両側が潰れるように変形し、さらに凹所内の空気が排出されるので、ここに生じる吸盤作用により、このシール材の転動を防止することができる。また、吸盤作用により所定の反発力を維持することができる。
【００１５】
これにより、メタルタッチを防止でき、パーティクルの発生を防止することができる。
また、基端部の底面に凹所を設けることにより、シール材のあり溝への装着性が容易になり、さらに、シール材の転動を効果的に防止することができる。
【００１６】
ここで、本発明では、前記あり溝用シール材の全幅をＷ、および前記あり溝用シール材の高さをＨ、前記第１の隅角部の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることが好ましい。
【００１７】
このような構成であれば、シール面を構成する第１の隅角部を速やかに変形させることができ、シール座面と第１の隅角部とが当接して形成されるシール面の面積が小さくなるため、シール座面を形成する弁体とあり溝用シール材とが固着しにくい。
【００１８】
また、本発明では、前記シール面を構成する第１の隅角部は、小径の円弧で形成され、前記第２の隅角部は、これより大径の円弧で形成され、前記第３の隙角部は、少なくとも２辺からなる直線部で構成されていても良い。
【００１９】
このような構成であれば、あり溝に装着する際のシール材の弾性変形は、第３の隅角部周辺のわずかな部分だけでよく、角部があり溝の開口縁を通過した後に、そのまま軽く押し込めば、シール材を所定の位置に装着することができる。
【００２０】
本発明に係る真空用ゲート弁は、上記いずれかに記載されたあり溝用シール材が、弁体に装着されていることを特徴としている。
このような構成の真空用ゲート弁によれば、シール材の転動が防止され、あり溝への装着性も良好で、メタルタッチ、パーティクルの発生を防止することができ、加えてシール不良によるメンテナンスを少なくすることができる。したがって、ロードロックチャンバなどに効果的に使用することができる。また、ウェハなどの生産性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係るあり溝用シール材によれば、シール面を構成する第１の隅角部が小さな荷重で極めて容易に変形するので、低荷重でシール力を得ることができる。また、基端部の底面に形成された凹所を中心に、両側が潰れるように変形し、凹所内の空気が排出されるので、ここに生じる吸盤作用により、シール材の転動を防止することができる。これにより、メタルタッチによるパーティクルの発生を防止することができる。
【００２２】
さらに、あり溝への装着に関しては、第１の隅角部２４と第２の隅角部２６の間に構成された凹み部を、あり溝４２の開口縁に係止させ、その状態からシール材を回動させれば良いので、極めて容易に、かつ適正な姿勢でシール材を装着することができる。
【００２３】
このようなあり溝用シール材が採用された真空用ゲート弁は、減圧と大気開放が繰り返して行なわれるロードロック室のロードロックチャンバに有効に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明する。
図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ），（Ｄ）は、それぞれ本発明の一実施例に係るあり溝用シール材２０を示した平面図、側面図、底面図およびＡ−Ａ線方向の断面図である。図２は、本発明の一実施例に係るあり溝用シール材２０の装着状態を、図３はそのシール構造を備えた真空用ゲート弁３０の概略を示したものである。また、図４は、シール材２０の自然状態での断面形状を示したものである。
【００２５】
本実施例のあり溝用シール材２０は、図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示したように、閉環状のシール材であり、下面側が下膨れの形状となっている。断面形状は、図１（Ｄ）に示したように、断面略三角形状の栗形状を呈している。また、このあり溝用シール材２０は、図２に示したように、閉環状のあり溝４２が形成された一方の部材（例えば、弁板に相当）４０と、他方の部材（例えば、バルブケーシングに相当）５０との封止箇所に装着される。
【００２６】
一方の部材４０の表面に形成されたあり溝４２は、開口幅Ｂを有し、開口端縁から底面にかけてテーパ−状に拡がる台形状をなし、一対の傾斜面と平坦な底面を有している。また、あり溝４２の開口縁には、小さな面取りが設けられ、底面側の隅部には大きなアールが設けられている。
【００２７】
一方、シール材２０のシール材本体２０ａは、あり溝４２から外方に突出される頂点側の第１の隅角部２４と、底面側の第２の隅角部２６と第３の隅角部２８とを有している。
第１の隅角部２４は、あり溝４２の底面に対して垂直な中心線Ｓ−Ｓ上に配置されている。また、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８との間を連結する基端部３２の底面に、凹所３４が形成されている。
【００２８】
本実施例のシール材２０は、このような形状を基本構造としているが、さらに具体的な形状について詳述する。
すなわち、シール材２０のシール材本体２０ａは、図２および図４に示したように、あり溝４２の底面側に配置される基端部３２と、他方の部材５０の表面に当接する第１の隅角部２４と、前記第１の隅角部２４の一方の裾部に連続し外側に張り出す第２の隅角部２６と、前記第１の隅角部２４の他方の裾部に連続し外側に張り出す第３の隅角部２８とを備えており、この第３の隅角部２８は、第１の直線部３５と第２の直線部３６とから構成されている。
【００２９】
これら第１の隅角部２４と第２の隅角部２６と第３の隅角部２８は、シール材本体２０ａの中心点Ｏから略１２０°置きの３分割線上に配置されている。
上記第３の隅角部２８は、中間部に少なくとも一箇所の角部２８ａが形成され、この角部２８ａを境に、第１の直線部３５と第２の直線部３６とに区画されている。
【００３０】
以下、本実施例によるシール材２０の各部の望ましい設計条件について説明する。
図４において、シール材２０の全幅をＷ、およびシール材２０の高さをＨ、第１の隅角部２４の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることが望ましい。
【００３１】
Ｒ／ＷおよびＲ／Ｈがこの範囲を越えると、低荷重シール材として寄与せず、また弁体が固着しやすくなる。逆に、この範囲より小さくなると、第１の隅角部２４が挫屈したり、十分なシール性が得られなくなる。
【００３２】
また、第１の隅角部２４の両側に構成される凹みの半径を、それぞれＲ２、Ｒ３としたとき、Ｒ２，Ｒ３は同じでなくても良いが、製品の全幅Ｗを基準に設定すれば、
Ｒ２／Ｗ＝０．３〜０．４
Ｒ３／Ｗ＝０．３〜０．４ であることが望ましい。
【００３３】
Ｗに対するＲ２，Ｒ３の割合がこれよりも小さくなると、低荷重で十分なシール性能を発揮することができず、逆にこれより大きくなると第１の隅角部２４が挫屈しやすくなり、シール性能を発揮することができない。
【００３４】
また、製品の全幅をＷ、あり溝の開口幅をＢとしたとき、
Ｗ／Ｂ＝１．１〜１．４であることが望ましい。
Ｗ／Ｂがこれより小さいと、シール材２０はあり溝４２から脱落する虞があるこれより大きいとシール材２０に対する装着性が悪くなる。
【００３５】
さらに、シール材の高さをＨ、シール溝の深さをＨ１としたとき、
（Ｈ−Ｈ１）／Ｈ＝０．１５〜０．３０
シール材の高さＨがこのような範囲に設定されていれば、閉環状のあり溝４２が形成された一方の部材（例えば、弁板に相当）４０と、他方の部材（例えば、バルブケーシングに相当）５０とが、当接することなく良好に封止することができ、メタルタッチによるパーティクルの発生を防止できる。
【００３６】
また、圧縮荷重が小さく低推力シール材にしようとすると、シール材のつぶし量が小さくなる傾向にある。本発明では、低推力であってもシールのつぶし代を従来のシール材と同等になるように設計されており、製品高さＨが上記のように設定されていれば、それに寄与することができる。
【００３７】
さらに、基端部３２の凹所３４の半径をＲ１とし、製品幅Ｗを基準にして設定すると、
Ｒ１／Ｗ＝０．２〜０．４であることが望ましい。
また、凹所３４の凹み深さをＤ、これをシール材の高さＨを基準にして設定すると、
Ｄ／Ｈ＝０．０３〜０．２であることが望ましい。
【００３８】
凹所の深さＤがこれより大きくなるとシール材の剛性が無くなるので好ましくない。
また、凹所３４の深さＤがこのような範囲にあれば、シール材をあり溝に装着する際、シール材が適度に変形するため容易に装着でき、さらに、締付けた場合の吸盤作用により、シール材の転動を効果的に防止することができる。
【００３９】
よって、上記のような範囲に各部材の寸法が設計されていることが望ましい。
本実施例によるシール材２０は、全体が弾性変形可能なゴム材料から形成されている。ゴム材料としては、例えば、硬度６０〜７０ＨＡ程度のフッ素ゴム、シリコンゴム、ＥＰＤＭ系ゴムなどが挙げられるが、特に、半導体製造装置や液晶製造装置の真空用ゲート弁などに使用される場合には、内部がプラズマ環境となる場合が多いことから、耐プラズマ性に優れたフッ素ゴムが好ましい。
【００４０】
以下に、このようなシール材２０のあり溝４２内への装着について、図５を参照しながら説明する。なお、図５中の矢印は、力の作用する方向を示したものである。
先ず、図５（Ａ）に示したように、あり溝４２内にシール材２０の第２の隅角部２６側をあり溝４２内に対向させ、第２の隅角部２６からあり溝４２内に挿入し、第１の隅角部２４と第２の隅角部２６の間に構成された凹み部を、あり溝４２の開口縁に位置決めする。さらに図５（Ｂ）に示したように、第３の隅角部２８側を矢印方向に回動すると、角部２８ａがあり溝４２の開口縁に当接される。このように、角部２８ａがあり溝４２の開口縁に当接された状態から、さらにシール部材２０を押し込めば、図５（Ｃ）に示したように、第２の直線部３６があり溝４２の開口縁を完全に通過して、あり溝４２の底面側に配置される。このとき、角部２８ａの近傍を若干圧縮するだけで、シール材２０を内方に収納することができる。この際、凹所３４を有することでシール材の変形を容易にし、したがって、大きな力が不要である。
【００４１】
この状態から凹所３４があり溝４２の底面に位置するまで押し込めば、図５（Ｄ）に示したように、シール材２０を完全にあり溝４２内に装着することができる。
図５（Ｄ）に示したような自然状態において、シール材２０は、図の右方に位置する角部２８ａがあり溝４２の内周面に当接される。さらに、反対側では、第２の隅角部２６が、あり溝４２の傾斜面に当接される。したがって、図５（Ｄ）の状態では、シール材２０は、あり溝４２の幅方向に移動することができず、しかも、あり溝４２の開口縁が狭まっていることから、外方に脱落することもない。
【００４２】
以下に、一方の部材４０に装着されたシール材２０を締め付ける場合の挙動について、図２および図６（Ａ），（Ｂ）を参照しながら説明する。
今、図２に示したように、シール材２０が一方の部材４０内に装着され、この部材４０に他方の部材５０が接近して、図６（Ａ）に示したように、第１の隅角部２４の先端部に当接したとする。この状態で押し込まれれば、図６（Ｂ）に示したように、凹所３４を潰すようにして第２の隅角部２６と第１の直線部３５の上の角部Ｒがあり溝４２の内周面に
当接した状態で押し込まれる。
【００４３】
図６（Ｂ）のシール状態では、押圧力により第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が外側に膨出するように変形するので、シール材本体２０ａの転動が確実に防止されている。
このように、本実施例では、シール部材２０が装着された一方の部材４０は、他方の部材５０との締め付けにより、先に第１の隅角部２４が変形され、第１の隅角部２４が十分に変形されつつ、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が外側に膨出するように変形するので、低荷重でシール力を得ることができる。また、このように締め付けられた状態であっても、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８が二股に分かれて両側に変形するので、転動や姿勢の崩れを防止することができる。
【００４４】
さらに、図６（Ｂ）の状態からさらに、想定外の強い圧縮荷重を受けたとしても、第１の隅角部２４が、上方に向けて反力を発生するので、それ以上の圧縮変形が抑制され、一方の部材４０と他方の部材５０とによるメタルタッチを防止することができる。したがって、パーティクルの発生を可及的に防止することができる。
【００４５】
さらに、本実施例では、基端部３２に凹所３４が形成されているので、図６（Ｂ）に示したように、締め付けられた状態では、この凹所３４が吸盤作用を発揮するため、このシール材２０があり溝４２内に、より一層密着される。このように、このシール材２０があり溝４２側に密着されれば、あり溝４２からの脱落防止性を向上させることができる。
【００４６】
図７は、従来例であるＯリング８と、本実施例によるシール材２０との装着性、圧縮性、および脱落防止性を対比して示した断面図である。この図から明らかなように、本実施例のシール材は、つぶし代ｔを変形させるための荷重がＯリング８に比べて小さくて良い。したがって、圧縮時に低荷重でシール性を得ることができる。また、装着性が良好であるとともに、第２の隅角部２６と第３の隅角部２８との係止により、あり溝４２からの抜けを効果的に防止できる。このように、シール時の荷重が低荷重で良く、さらに装着状態からの脱落防止性が極めて良好であることは明らかである。
【００４７】
図８は、つぶし代と圧縮荷重との関係を、実施例と従来例とを対比して示したグラフである。
一般に、シール部分では、上記したように、一定以上の応力がシール材８，２０に作用して所定のつぶし代ｔを変形させてシール機能を発揮するが、図８のグラフから明らかなように、従来例であるＯリングの場合には、つぶし代ｔが大きくなるに比例して、これに必要な圧縮荷重も大きくなっているが、本実施例の場合には、つぶし代ｔが大きくなっても、締付荷重はそれほど変わらないことが確認された。
【００４８】
したがって、本実施例によれば、仮に、ウェハなどの被処理体が大型化するに伴って真空用ゲートバルブが大型化されたとしても、それに装着されるシール材は、Ｏリングの場合のように、圧縮荷重をそれ程大きくする必要はないことが確認された。
【００４９】
以上、本発明に係るあり溝用シール材の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、特に、半導体製造装置、液晶製造装置において使用されるワンアクションタイプの真空用ゲート弁を例にして説明したが、使用箇所は、これに限定されるものではない。あり溝４２が形成されたシール溝であれば、どのような部材にも有効に適用することができる。
【００５０】
以上、本発明に係るあり溝用シール材の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、特に、半導体製造装置、液晶製造装置において使用されるワンアクションタイプの真空用ゲート弁を例にして説明したが、使用箇所は、これに限定されるものではなく、いわゆるツーアクションタイプの真空用ゲート弁にも適用可能である。また、特に、半導体あるいはＦＰＤ製造装置において、減圧と大気開放とが繰り返されるロードロックチャンバの真空用ゲート弁として好ましく使用することができる。
【００５１】
さらに、あり溝４２が形成されたシール溝であれば、どのような部材にも有効に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は本発明の一実施例に係るあり溝用シール材を示したもので、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図、図１（Ｃ）は底面図、図１（Ｄ）は図１（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施例に係るあり溝用シール材の使用例を示した断面図である。
【図３】図３は、図１に示したあり溝用シール材の使用例として、真空用ゲートバルブの弁板に装着された例を示す断面図である。
【図４】図４は図１に示したあり溝用シール材の断面構造を詳細に示す断面図である。
【図５】図５は、本実施例によるシール材のあり溝内への装着の手順を示した概略図である。
【図６】図６は、本実施例によるシール材の締め付け時の変形の状態を示した概略断面図である。
【図７】図７は、本願発明品と従来例であるＯリングとを対比して、装着状態と圧縮時と脱落状態とを模式的に示した図である。
【図８】図８は本願発明品と従来例であるＯリングとを対比して、装着状態と圧縮時と脱落時とを模式的に示した図である。
【図９】図９は、従来のあり溝にシール部材が装着された例として示した真空用ゲート弁の斜視図である。
【図１０】図１０はＯリングが弁体に装着された場合にシール材に作用する力を示す従来例の断面図である。
【図１１】図１１は特開２００４−３１６７２４号に開示されているあり溝用シール材の断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
２０ シール材
２０ａ シール材本体
２４ 第１の隅角部
２６ 第２の隅角部
２８ 第３の隅角部
２８ａ 角部
３０ 真空用ゲート弁
３２ 基端部
３４ 凹所
３５ 第１の直線部
３６ 第２の直線部
３８ 凹所
４０ 一方の部材
４２ あり溝
５０ 他方の部材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール面に形成されたあり溝に装着される閉環状のシール材であって、
前記あり溝内に装着されるシール材本体の断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、前記あり溝の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部、残り２つの隅角部を第２、第３の隅角部としたとき、第２、第３の隅角部各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、前記第２の隅角部と前記第３の隅角部の間を連結する基端部の底面の少なくとも一部に、凹所が形成されていることを特徴とするあり溝用シール材。
【請求項２】
前記あり溝用シール材の全幅をＷ、および前記あり溝用シール材の高さをＨ、前記第１の隅角部の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることを特徴とする請求項１に記載のあり溝用シール材。
【請求項３】
前記シール面を構成する第１の隅角部は、小径の円弧で形成され、前記第２の隅角部は、これより大径の円弧で形成され、前記第３の隙角部は、少なくとも２辺からなる直線部で構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のあり溝用シール材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載されたあり溝用シール材が、弁体に装着されていることを特徴とする真空用ゲート弁。
【請求項１】
シール面に形成されたあり溝に装着される閉環状のシール材であって、
前記あり溝内に装着されるシール材本体の断面形状が、略三角形の栗形状を呈しており、前記あり溝の底面に対向する位置に形成された１つの頂部を第１の隅角部、残り２つの隅角部を第２、第３の隅角部としたとき、第２、第３の隅角部各々の少なくとも一部が前記あり溝の側面に当接し、前記第２の隅角部と前記第３の隅角部の間を連結する基端部の底面の少なくとも一部に、凹所が形成されていることを特徴とするあり溝用シール材。
【請求項２】
前記あり溝用シール材の全幅をＷ、および前記あり溝用シール材の高さをＨ、前記第１の隅角部の半径をＲとしたとき、
Ｒ／Ｗ＝０．０５〜０．２ であり、かつ、Ｒ／Ｈ＝０．０５〜０．２ であることを特徴とする請求項１に記載のあり溝用シール材。
【請求項３】
前記シール面を構成する第１の隅角部は、小径の円弧で形成され、前記第２の隅角部は、これより大径の円弧で形成され、前記第３の隙角部は、少なくとも２辺からなる直線部で構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のあり溝用シール材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載されたあり溝用シール材が、弁体に装着されていることを特徴とする真空用ゲート弁。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００７−１５５０１６（Ｐ２００７−１５５０１６Ａ）
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３５１８５６（Ｐ２００５−３５１８５６）
【出願日】平成１７年１２月６日（２００５．１２．６）
【出願人】（０００２２９５６４）日本バルカー工業株式会社 (145)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月６日（２００５．１２．６）
【出願人】（０００２２９５６４）日本バルカー工業株式会社 (145)
【Ｆターム（参考）】
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