カルボン酸アミドのアルケニル化法
本発明は、式ＩＩのカルボン酸アミドを、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムおよび鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物から選択される触媒の存在下に、式ＩＩＩのアルキンと反応させる、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボン酸アミドと末端アルキンとの反応によりＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドを製造する方法に関する。
【０００２】
カルボン酸アミドをアルキンへ付加して、相応するＮ−アルケニル−カルボン酸アミドを製造することはすでに久しく公知である。適切な触媒として、強塩基性化合物、特にカリウム塩、たとえば反応に関与するカルボン酸アミドのカリウム塩を使用する（Ｗ．Ｒｅｐｐｅ、Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ． ６０１、８１（１９５６年））。アルカリ金属、たとえばカリウム（Ｗ．Ｒｅｐｐｅ、Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ． ６０１、８１（１９５６年））または立体障害アルカリ金属アルコラート（ＷＯ８９／０９２１０）を使用することも可能である。さらに、Ｔ．Ｋｏｎｄｏ等は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９５年、４１３において、１−ヘキシンをたとえばアセトアニリドを用いて１８０℃で加圧下にレニウムカルボニル触媒により反応させることを記載していた。
【０００３】
従来技術による方法では、相応するＮ−アルケニル−カルボン酸アミドの収率になお改善の余地があるか、かつ／または技術的に極めて高価であることが共通している。
【０００４】
従って本発明の根底には、より高い収率で進行するＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの簡単な製造方法を提供するという課題が存在している。
【０００５】
さらに該方法は、熱に不安定なカルボン酸アミドおよびＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドが分解しない温度で実施することができる方法であるべきである。
【０００６】
該方法は、塩基に不安定な原料の反応もしくは塩基に不安定な生成物の合成を可能にすべきである。
【０００７】
最後に該方法は、触媒のためのコストを制限するために、少ない触媒量で実施可能であるべきである。
【０００８】
意外なことに前記課題は、触媒として、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体を使用する場合に解決されることが判明した。
【０００９】
従って本発明の対象は、式Ｉ
【化１】
［式中、
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒを表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、あるいは、
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化２】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化３】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＲ7を表し、その際、Ｒ7は、水素またはＣ1〜Ｃ8−アルキルを表し、
Ｒは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはフェニルを表し、その際、最後の挙げた２つの基のフェニル基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されている］のＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法であって、式ＩＩのカルボン酸アミド
【化４】
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、上記の意味を有し、ならびに基−（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2が含有されており、ならびに基−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に１つもしくは複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−ＣＯＯＨが含まれている］と、式ＩＩＩのアルキン
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｈ （ＩＩＩ）
［式中、Ｒは、上記の意味を有する］とを、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物から選択されている触媒の存在下に反応させることを含む、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法である。
【００１０】
アルキル基は、前記の炭素数を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基であってよい。このようなアルキル基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ドデシル等、有利にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチルおよびｉ−ブチルである。
【００１１】
Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル基の例は、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、ブテン−１−イル、ブテン−２−イル、イソブテニルなど、有利にはエテニル、２−プロペニルまたはブテン−２−イルである。
【００１２】
Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル基の例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルであり、有利にはシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
【００１３】
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、有利にはフッ素、塩素または臭素を意味する。
【００１４】
アリールは、特にフェニルまたはナフチル、有利にはフェニルを意味する。
【００１５】
ヘタリールは、特にフリル、チエニル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、１，２，３−オキシジアゾリル、１，２，４−オキシジアゾリル、１，２，５−オキシジアゾリル、１，３，４−オキシジアゾリル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、１，３，４−トリアジニル、１，２，４−トリアジニルまたはテトラジニル、有利にはピリジルを意味する。
【００１６】
アル−１，２−ジイルは、特にフェン−１，２−ジイルまたはナフト−２，３−ジイル、有利にはフェン−１，２−ジイルを表す。
【００１７】
ヘタール−１，２−ジイルは、特にピリジン−２，３−ジイルを意味する。
【００１８】
基Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノおよびジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ中のアルキル基は、そのつどメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチルおよびｔ−ブチルである。
【００１９】
触媒として、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物を使用する。カルボニル錯体とは、少なくとも１のカルボニル基をリガンドとして有しており、相応する金属の残りの配位位置が、その他のリガンドによって占有されていてもよい化合物であると理解すべきである。このようなリガンドの例を以下に記載する。ハロゲン化物および酸化物とは、相応する金属の１もしくは複数の配位箇所および／または価数が、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基により占有されている化合物でもあり、ならびにオキシハロゲン化物とも理解すべきである。このための１例は、ＣＨ3ＲｅＯ3である。
【００２０】
触媒は、全ての酸化状態で存在していてよく、カルボニル錯体の場合には、触媒は有利には０または１の酸化状態で存在している。
【００２１】
有利な触媒は、レニウム、マンガンまたはモリブデンの、特にレニウムのカルボニル錯体、酸化物またはハロゲン化物である。レニウムおよびマンガンの、特にレニウムのカルボニル錯体が特に適切であることが判明した。
【００２２】
特に効果的であるのは、上記の金属のカルボニル錯体である。カルボニル基の１または複数は、適切なリガンド、たとえばハロゲン、特に塩素または臭素、ホスフィンリガンド、たとえばトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなど、アミンリガンド、たとえばＮＨ3、エチレンジアミン等、アルコールリガンド、たとえばフェノール、メタノール、エタノールなど、エーテルリガンド、たとえばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等、炭化水素リガンド、たとえばシクロペンタジエニル（Ｃｐ）、ペンタメチルシクロペンタジエニル（ペンタメチル−Ｃｐ）、シクロオクタ−１，５−ジエン、またはアセトニトリルなど、またはＨ2Ｏによって交換されていてもよい。適切な触媒の例は、Ｍｎ2（ＣＯ）10、Ｗ（ＣＯ）6、Ｍｏ（ＣＯ）6、Ｃｒ（ＣＯ）6、Ｆｅ（ＣＯ）5およびＦｅ2（ＣＯ）9である。
【００２３】
レニウム触媒が特に好適であることが判明した。このための例は、レニウムカルボニル錯体、たとえばＲｅ2（ＣＯ）10、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｃｌ、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｂｒ、ＲｅＢｒ（ＣＯ）3（ＣＨ3ＣＮ）2、ＲｅＣｐ（ＣＯ）3、Ｒｅ（ペンタメチル−Ｃｐ）（ＣＯ）3、ＲｅＣｌ（ＣＯ）3（ＣＨ3ＣＮ）2、ＲｅＢｒ（ＣＯ）3（ＴＨＦ）2およびＲｅＣｌ（ＣＯ）3（ＴＨＦ）2、酸化レニウム、たとえばＲｅ2（ペンタ−メチル−Ｃｐ）2Ｏ4、Ｒｅ（ペンタ−メチル−Ｃｐ）2ＯＣｌ2、Ｒｅ2Ｏ7およびＲｅＣＨ3Ｏ3、レニウムハロゲン化物、たとえばＲｅＣｌ3またはＲｅＢｒ3またはＲｅＣｐ2およびＲｅである。
【００２４】
特に有利な触媒は、Ｒｅ2（ＣＯ）10である。
【００２５】
反応は、均一な、または不均一な液相で行うことができる。均一な液相が所望されている場合、反応媒体中で可溶性であるか、または反応の間に溶解する触媒を使用する。このような触媒は、特にここで問題となっている金属のカルボニル錯体またはＲｅＣｐ2である。不均一系触媒は通常、これらの金属のハロゲン化物または「純粋な」酸化物、たとえばＲｅ2Ｏ7、ならびレニウム金属である。不均一系触媒は直接に、たとえば粉末の形で、または担体上に施与して使用することができる。適切な担体はたとえば炭素、ゼオライト、酸化アルミニウム、酸化ケイ素である。
【００２６】
一般に触媒は、そのつど式ＩＩの化合物の当量に対して、０．０００００５〜１モル％の量で、有利には０．０００００５〜０．５モル％、好ましくは０．００００１〜０．１モル％、および特に０．００００５〜０．０５モル％、０．０００１〜０．０５モル％、０．０００５〜０．０１モル％、または０．００１〜０．０１モル％の量で使用する。「当量」という表現は、式ＩＩＩの化合物と反応することができる、式ＩＩの−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2基および−ＣＯＯＨ基に対する。
【００２７】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独でも、または相互の組み合わせとしても以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドである：
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシ、および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
特に
Ｒ1が、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニルまたは−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ8−アルキルを表し、該基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ8−アルキルを表すか、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００２８】
特に適切であるのは、脂肪族モノカルボン酸アミド、たとえば脂肪族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または脂肪族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）または脂環式モノカルボン酸アミド、たとえば脂環式モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）である。
【００２９】
脂肪族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、ギ酸アミド、酢酸アミド、プロピオン酸アミド、酪酸アミド、吉草酸アミド、ヘキサン酸アミド、ヘプタン酸アミド、オクタン酸アミド、ノナン酸アミド、デカン酸アミド、２−メチルプロピオン酸アミド、２−メチル酪酸アミド、３−メチル酪酸アミド、２−メチルペンタン酸アミド、２−エチルヘキサン酸アミド、２−プロピルヘプタン酸アミド、ピバリン酸アミド、ネオノナン酸アミド、ネオデカン酸アミド、ネオトリデカン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミドまたはフェニル酢酸アミドである。
【００３０】
脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、Ｎ−メチルギ酸アミド、Ｎ−メチル酢酸アミド、Ｎ−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル吉草酸アミド、Ｎ−メチルヘキサン酸アミド、Ｎ−メチルヘプタン酸アミド、Ｎ−メチルオクタン酸アミド、Ｎ−メチルノナン酸アミド、Ｎ−メチルデカン酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−メチル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−メチル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−メチルピバリン酸アミド、Ｎ−メチルネオノナン酸アミド、Ｎ−メチルネオデカン酸アミド、Ｎ−メチルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−メチルステアリン酸アミド、Ｎ−メチルオレイン酸アミド、Ｎ−メチルラウリン酸アミド、Ｎ−メチルパルミチン酸アミド、Ｎ−メチルアクリル酸アミド、Ｎ−メチルメタクリル酸アミド、Ｎ−メチルクロトン酸アミド、Ｎ−メチルケイ皮酸アミド、Ｎ−メチルフェニル酢酸アミド、Ｎ−エチルギ酸アミド、Ｎ−エチル酢酸アミド、Ｎ−エチルプロピオン酸アミド、Ｎ−エチル酪酸アミド、Ｎ−エチル吉草酸アミド、Ｎ−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−エチルヘプタン酸アミド、Ｎ−エチルオクタン酸アミド、Ｎ−エチルノナン酸アミド、Ｎ−エチルデカン酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−エチル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−エチル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−エチル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−エチルピバリン酸アミド、Ｎ−エチルネオノナン酸アミド、Ｎ−エチルネオデカン酸アミド、Ｎ−エチルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−エチルステアリン酸アミド、Ｎ−エチルオレイン酸アミド、Ｎ−エチルラウリン酸アミド、Ｎ−エチルパルミチン酸アミド、Ｎ−エチルアクリル酸アミド、Ｎ−エチルメタクリル酸アミド、Ｎ−エチルクロトン酸アミド、Ｎ−エチルケイ皮酸アミドまたはＮ−エチルフェニル酢酸アミドである。
【００３１】
脂肪族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、Ｎ−フェニルギ酸アミド、Ｎ−フェニル酢酸アミド、Ｎ−フェニルプロピオン酸アミド、Ｎ−フェニル酪酸アミド、Ｎ−フェニル吉草酸アミド、Ｎ−フェニルヘキサン酸アミド、Ｎ−フェニルヘプタン酸アミド、Ｎ−フェニルオクタン酸アミド、Ｎ−フェニルノナン酸アミド、Ｎ−フェニルデカン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−フェニル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−フェニル−ピバリン酸アミド、Ｎ−フェニルネオノナン酸アミド、Ｎ−フェニルネオデカン酸アミド、Ｎ−フェニルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−フェニルステアリン酸アミド、Ｎ−フェニルオレイン酸アミド、Ｎ−フェニルラウリン酸アミド、Ｎ−フェニルパルミチン酸アミド、Ｎ−フェニルアクリル酸アミド、Ｎ−フェニルメタクリル酸アミド、Ｎ−フェニルクロトン酸アミド、Ｎ−フェニルケイ皮酸アミド、Ｎ−フェニルフェニル酢酸アミドである。
【００３２】
脂環式モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、シクロヘキサンカルボン酸アミドおよびシクロヘプタンカルボン酸アミドであり、有利にはシクロヘキサンカルボン酸アミドである。
【００３３】
特に適切であるのは、脂肪族ポリカルボン酸アミドでもあり、特に脂肪族ジカルボン酸アミド、たとえば脂肪族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または脂肪族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００３４】
脂肪族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、オキサミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨ2）、マロン酸ジアミド、コハク酸ジアミド、グルタル酸ジアミド、アジピン酸ジアミド、セバシン酸ジアミド、マレイン酸ジアミドまたはフマル酸ジアミドである。
【００３５】
脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、ビス−（Ｎ−メチル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−メチル）−マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−マレイン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−フマル酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−エチル）マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−マレイン酸アミドまたはビス−（Ｎ−エチル）−フマル酸アミドである。
【００３６】
脂肪族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、ビス−（Ｎ−フェニル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−フェニル）マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−マレイン酸アミドまたはビス−（Ｎ−フェニル）−フマル酸アミドである。
【００３７】
特に適切であるのは、芳香族モノカルボン酸アミド、たとえば芳香族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または芳香族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００３８】
芳香族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、安息香酸アミド、２−クロロ−安息香酸アミド、３−クロロ−安息香酸アミド、４−クロロ−安息香酸アミド、２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、２−メチル−安息香酸アミド、３−メチル−安息香酸アミド、４−メチル−安息香酸アミド、２，３−ジメチル−安息香酸アミド、２，４−ジメチル−安息香酸アミド、２，６−ジメチル−安息香酸アミド、３，４−ジメチル−安息香酸アミド、２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、２−メトキシ−安息香酸アミド、３−メトキシ−安息香酸アミド、４−メトキシ−安息香酸アミド、２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドまたは３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００３９】
芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、Ｎ−メチル安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−クロロ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−メイル２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミド、Ｎ−エチル安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４−ジクロロ安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドまたはＮ−エチル−３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００４０】
芳香族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、Ｎ−フェニル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４，６−トリクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００４１】
特に適切であるのはまた、芳香族ポリカルボン酸アミド、たとえば芳香族ジカルボン酸アミド、トリカルボン酸アミド、テトラカルボン酸アミド、ペンタカルボン酸アミドまたはヘキサカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、有利には芳香族ジカルボン酸自体（Ｒ2＝水素）、芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）、芳香族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００４２】
芳香族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、フタル酸ジアミド、イソフタル酸ジアミドまたはテレフタル酸ジアミドである。
【００４３】
芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、ビス−（Ｎ−メチル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−メチル）−イソフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−メチル）−テレフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−エチル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−エチル）−イソフタル酸ジアミドまたはビス−（Ｎ−エチル）−テレフタル酸ジアミドである。
【００４４】
芳香族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、ビス−（Ｎ−フェニル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−イソフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−テレフタル酸ジアミドである。
【００４５】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独で、または相互に組み合わされて、以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１または２の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、フェニルにより置換されていてもよく、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ2は、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２個の基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２個の基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に、
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、フェニルにより置換されていてもよく、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す。
【００４６】
特に適切であるのは、脂肪族カルボン酸イミド、たとえばＮ，Ｎ−ビスホルミル−アミン、Ｎ，Ｎ−ビスアセチル−アミンまたはＮ，Ｎ−ビスプロピニル−アミンである。
【００４７】
特に適切であるのは、芳香族カルボン酸アミド、たとえばＮ，Ｎ−ビスベンゾイル−アミンである。
【００４８】
特に適切であるのは、混合された脂肪族−芳香族カルボン酸アミド、たとえばＮ−ベンゾイル−Ｎ−ホルミルアミン、Ｎ−アセチル−Ｎ−ベンゾイルアミンまたはＮ−ベンゾイル−Ｎ−プロピオニル−アミンである。
【００４９】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独で、および相互に組み合わされて以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
有利にはｎ＝２、３、４または５である−（ＣＨ2）n−鎖、またはｐ＝０およびｑ＝２である−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化５】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には、式ＩＩの化合物は、式ＩＩａ12-1、ＩＩａ12-2、ＩＩｂ12-1、ＩＩｂ12-2またはＩＩｃ12-1の化合物
【化６】
を表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００５０】
特に適切であるのは、環式カルボン酸アミド、たとえば２−ピロリドン、ペンタン−５−ラクタム、２−（１Ｈ）−ピリドン、カプロラクタム（＝アゼパン−２−オン）、特に２−ピロリドンおよびカプロラクタム、有利には２−ピロリドンである。
【００５１】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ6およびＸが、単独で、ならびに相互に組み合わされて以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
有利にはｎ＝２、３、４または５の−（ＣＨ2）n−鎖、またはｐ＝０、ｑ＝１の−Ｃ（ＣＨ2）p−Ｃ（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利にはフェン−１，２−ジイルまたはナフト−１，８−ジイルを表し、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化７】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には、化合物ＩＩａ16-1
【化８】
の化合物を表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００５２】
特に適切であるのは、環式ビスカルボン酸アミド、たとえばフマル酸イミド、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、フタル酸イミド、特にフタルイミドである。
【００５３】
式ＩＩＩの適切な出発化合物は、たとえばアセチレン、プロピン、１−ブチン、１−ペンチン、１−ヘキシンおよびフェニルアセチレンであり、その際、アセチレンが特に有利に使用される。
【００５４】
式ＩＩの化合物対式ＩＩＩの化合物の量比は、広い範囲で選択可能である。しかし一般に、式ＩＩＩの化合物の過剰を使用し、特に式ＩＩの化合物に対して０．１〜２０モル％の過剰を使用する。式Ｉの化合物が、２以上の基−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒおよび／または１以上の基−ＣＯＯＣＨ＝ＣＨＲを有している場合、この過剰は相応して、Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ−もしくは−ＣＯＯＣＨ＝ＣＨＲ−基あたりで、つまり式ＩＩの化合物の当量あたりで計算される。
【００５５】
反応は、一般に適切な不活性溶剤中で実施される。式ＩＩの化合物が、適用される温度で液状である場合、溶剤を省略することもできる。適切な不活性溶剤は、脂肪族および芳香族の炭化水素、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレンなど、エーテル、たとえばテトラヒドロフランまたはジオキサン、塩素化炭化水素、たとえば塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンまたはクロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンまたはポリエチレングリコールまたはこれらの混合物である。
【００５６】
反応温度は広い範囲で自由に選択可能である。反応温度は一般に、出発化合物または生成物が分解することなく、迅速な反応が行われるように選択される。一般に反応は２５０℃より低い温度で実施される。通常、この温度は７０〜２３０℃の範囲、特に１１０〜２１０℃、有利には１３０〜１９０℃、１５０〜１８０℃、特に有利には１６０〜１７０℃の範囲である。
【００５７】
使用される式ＩＩＩのアルキンに依存して、および場合により使用される溶剤に依存して、反応は加圧下で、または標準圧力で実施することができる。加圧下で作業する場合、反応は通常、１〜５０バール（絶対）の圧力で実施され、その際、有利には１〜３０バール（絶対）、有利には２〜２０バールおよび特に５〜２５バール、または１０〜２０バールに調整される。有利には反応をアセチレンを用いて加圧下に実施する。圧力はたとえば適用される式ＩＩＩの化合物により、および／または不活性ガス、たとえば窒素により調整することができる。反応を不活性ガスの存在下で実施する場合、圧力は高めることもでき、特に１００バールまで、有利には５０バールまで高めることができる。反応時間は通常、０．０１〜７２時間の範囲、特に０．１〜４８時間の範囲である。
【００５８】
場合により反応を促進する添加剤、たとえば酢酸亜鉛、リチウム塩、たとえばＬｉＣｌ、ルイス酸、たとえばＢＦ3等、ルイス塩基、たとえばトリエチルアミン、ピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−オンなど、触媒によりＣＯにおいて反応し、このことによって自由な配位箇所を作ることができる物質、たとえばトリメチルアミノ−Ｎ−オキシドも添加することができる。
【００５９】
反応は、不連続的に、連続的に、または半バッチ式の方法で実施することができる。後処理は慣用の方法で、有利には式Ｉの所望のカルボン酸アミドを留去することにより行うことができる。触媒は塔底に残留し、かつ場合により再使用することができる。有利には反応および／または後処理、特に精留は、重合防止剤の存在下に実施することができる。重合防止剤として、たとえばヒドロキノン、ヒドロキノン−モノメチル−エーテル、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ニトロソ化合物、たとえばイソアクリロニトレート、Ｎ−ニトロソ−シクロヘキシルヒドロキシルアミンのニトロソジフェニルアミノ、メチレンブルー、フェノチアジン、タンニン酸またはジフェニルアミンを使用することができる。重合防止剤は、そのつど全バッチに対して、１〜１００００ｐｐｍの量で、特に１００〜１０００ｐｐｍの量で使用する。
【００６０】
特別な実施態様は、式中で、Ｒ1およびＲ2が、−（ＣＨ2）3−鎖を形成し、かつＸが、酸素を表す式ＩＩの化合物と、アセチレンとの反応に関する。有利にはこの反応を、７０〜２２０℃、特に１２０〜１９０℃、または１５０〜１７０℃の範囲の温度で実施する。触媒は特に、式ＩＩのカルボン酸アミドに対して、０．００００１〜０．１モル％、とりわけ０．０００１〜０．０１モル％の量で使用する。
【００６１】
さらなる特別な実施態様は、フタル酸イミド（式中で、Ｒ1およびＲ6が一緒になって、フェン−１，２−ジイルを表し、かつＸが酸素を表す式ＩＩの化合物）と、アセチレンとの反応である。有利にはこの反応を、７０〜２２０℃、特に１２０〜１９０℃、または１５０〜１７０℃の範囲の温度で実施する。触媒は、特に、フタルイミドに対して、０．００００１〜０．１モル％、特に０．０００１〜０．０１モル％の量で使用する。
【００６２】
以下の例は、本願発明を限定することなく詳細に説明する。ＧＣ分析（ＧＣ：クロマトグラフィー）は、キャピラリーカラムを用いて、カルボワックス（ポリエチレングリコール）フィルム、たとえばＪ ＆ Ｗ ＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃのＤＢ Ｗａｘを使用して行った。
【００６３】
実施例
例１
ホルムアミド２．６５ｇ（５９ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびジオキサン２０．７ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析によりビニルホルムアミドを検出することができた。
【００６４】
例２（重合防止剤を使用しない）
２−ピロリドン１０．０ｇ（１１８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニル−２−ピロリドンの収率は、９５％であった。
【００６５】
例３（重合防止剤を使用する）
２−ピロリドン１０．０ｇ（１１８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール５３ｍｇ（０．２４ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニル−２−ピロリドンの収率は、９８％であった。
【００６６】
例４
カプロラクタム６．６ｇ（５８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析によりＮ−ビニルカプロラクタムを検出することができた。
【００６７】
例５
フタルイミド２９．４ｇ（２００ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ６５２ｍｇ（１．００ミリモル）およびジオキサン５９．０ｇからなる混合物を、１６０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニルフタルイミドの収率は、９４％であった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボン酸アミドと末端アルキンとの反応によりＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドを製造する方法に関する。
【０００２】
カルボン酸アミドをアルキンへ付加して、相応するＮ−アルケニル−カルボン酸アミドを製造することはすでに久しく公知である。適切な触媒として、強塩基性化合物、特にカリウム塩、たとえば反応に関与するカルボン酸アミドのカリウム塩を使用する（Ｗ．Ｒｅｐｐｅ、Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ． ６０１、８１（１９５６年））。アルカリ金属、たとえばカリウム（Ｗ．Ｒｅｐｐｅ、Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ． ６０１、８１（１９５６年））または立体障害アルカリ金属アルコラート（ＷＯ８９／０９２１０）を使用することも可能である。さらに、Ｔ．Ｋｏｎｄｏ等は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９５年、４１３において、１−ヘキシンをたとえばアセトアニリドを用いて１８０℃で加圧下にレニウムカルボニル触媒により反応させることを記載していた。
【０００３】
従来技術による方法では、相応するＮ−アルケニル−カルボン酸アミドの収率になお改善の余地があるか、かつ／または技術的に極めて高価であることが共通している。
【０００４】
従って本発明の根底には、より高い収率で進行するＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの簡単な製造方法を提供するという課題が存在している。
【０００５】
さらに該方法は、熱に不安定なカルボン酸アミドおよびＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドが分解しない温度で実施することができる方法であるべきである。
【０００６】
該方法は、塩基に不安定な原料の反応もしくは塩基に不安定な生成物の合成を可能にすべきである。
【０００７】
最後に該方法は、触媒のためのコストを制限するために、少ない触媒量で実施可能であるべきである。
【０００８】
意外なことに前記課題は、触媒として、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体を使用する場合に解決されることが判明した。
【０００９】
従って本発明の対象は、式Ｉ
【化１】
［式中、
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒを表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、あるいは、
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化２】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化３】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＲ7を表し、その際、Ｒ7は、水素またはＣ1〜Ｃ8−アルキルを表し、
Ｒは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはフェニルを表し、その際、最後の挙げた２つの基のフェニル基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されている］のＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法であって、式ＩＩのカルボン酸アミド
【化４】
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、上記の意味を有し、ならびに基−（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2が含有されており、ならびに基−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に１つもしくは複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−ＣＯＯＨが含まれている］と、式ＩＩＩのアルキン
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｈ （ＩＩＩ）
［式中、Ｒは、上記の意味を有する］とを、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物から選択されている触媒の存在下に反応させることを含む、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法である。
【００１０】
アルキル基は、前記の炭素数を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基であってよい。このようなアルキル基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ドデシル等、有利にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチルおよびｉ−ブチルである。
【００１１】
Ｃ2〜Ｃ20−アルケニル基の例は、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、ブテン−１−イル、ブテン−２−イル、イソブテニルなど、有利にはエテニル、２−プロペニルまたはブテン−２−イルである。
【００１２】
Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル基の例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルであり、有利にはシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
【００１３】
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、有利にはフッ素、塩素または臭素を意味する。
【００１４】
アリールは、特にフェニルまたはナフチル、有利にはフェニルを意味する。
【００１５】
ヘタリールは、特にフリル、チエニル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、１，２，３−オキシジアゾリル、１，２，４−オキシジアゾリル、１，２，５−オキシジアゾリル、１，３，４−オキシジアゾリル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、１，３，４−トリアジニル、１，２，４−トリアジニルまたはテトラジニル、有利にはピリジルを意味する。
【００１６】
アル−１，２−ジイルは、特にフェン−１，２−ジイルまたはナフト−２，３−ジイル、有利にはフェン−１，２−ジイルを表す。
【００１７】
ヘタール−１，２−ジイルは、特にピリジン−２，３−ジイルを意味する。
【００１８】
基Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノおよびジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ中のアルキル基は、そのつどメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチルおよびｔ−ブチルである。
【００１９】
触媒として、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物を使用する。カルボニル錯体とは、少なくとも１のカルボニル基をリガンドとして有しており、相応する金属の残りの配位位置が、その他のリガンドによって占有されていてもよい化合物であると理解すべきである。このようなリガンドの例を以下に記載する。ハロゲン化物および酸化物とは、相応する金属の１もしくは複数の配位箇所および／または価数が、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基により占有されている化合物でもあり、ならびにオキシハロゲン化物とも理解すべきである。このための１例は、ＣＨ3ＲｅＯ3である。
【００２０】
触媒は、全ての酸化状態で存在していてよく、カルボニル錯体の場合には、触媒は有利には０または１の酸化状態で存在している。
【００２１】
有利な触媒は、レニウム、マンガンまたはモリブデンの、特にレニウムのカルボニル錯体、酸化物またはハロゲン化物である。レニウムおよびマンガンの、特にレニウムのカルボニル錯体が特に適切であることが判明した。
【００２２】
特に効果的であるのは、上記の金属のカルボニル錯体である。カルボニル基の１または複数は、適切なリガンド、たとえばハロゲン、特に塩素または臭素、ホスフィンリガンド、たとえばトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなど、アミンリガンド、たとえばＮＨ3、エチレンジアミン等、アルコールリガンド、たとえばフェノール、メタノール、エタノールなど、エーテルリガンド、たとえばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等、炭化水素リガンド、たとえばシクロペンタジエニル（Ｃｐ）、ペンタメチルシクロペンタジエニル（ペンタメチル−Ｃｐ）、シクロオクタ−１，５−ジエン、またはアセトニトリルなど、またはＨ2Ｏによって交換されていてもよい。適切な触媒の例は、Ｍｎ2（ＣＯ）10、Ｗ（ＣＯ）6、Ｍｏ（ＣＯ）6、Ｃｒ（ＣＯ）6、Ｆｅ（ＣＯ）5およびＦｅ2（ＣＯ）9である。
【００２３】
レニウム触媒が特に好適であることが判明した。このための例は、レニウムカルボニル錯体、たとえばＲｅ2（ＣＯ）10、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｃｌ、Ｒｅ（ＣＯ）5Ｂｒ、ＲｅＢｒ（ＣＯ）3（ＣＨ3ＣＮ）2、ＲｅＣｐ（ＣＯ）3、Ｒｅ（ペンタメチル−Ｃｐ）（ＣＯ）3、ＲｅＣｌ（ＣＯ）3（ＣＨ3ＣＮ）2、ＲｅＢｒ（ＣＯ）3（ＴＨＦ）2およびＲｅＣｌ（ＣＯ）3（ＴＨＦ）2、酸化レニウム、たとえばＲｅ2（ペンタ−メチル−Ｃｐ）2Ｏ4、Ｒｅ（ペンタ−メチル−Ｃｐ）2ＯＣｌ2、Ｒｅ2Ｏ7およびＲｅＣＨ3Ｏ3、レニウムハロゲン化物、たとえばＲｅＣｌ3またはＲｅＢｒ3またはＲｅＣｐ2およびＲｅである。
【００２４】
特に有利な触媒は、Ｒｅ2（ＣＯ）10である。
【００２５】
反応は、均一な、または不均一な液相で行うことができる。均一な液相が所望されている場合、反応媒体中で可溶性であるか、または反応の間に溶解する触媒を使用する。このような触媒は、特にここで問題となっている金属のカルボニル錯体またはＲｅＣｐ2である。不均一系触媒は通常、これらの金属のハロゲン化物または「純粋な」酸化物、たとえばＲｅ2Ｏ7、ならびレニウム金属である。不均一系触媒は直接に、たとえば粉末の形で、または担体上に施与して使用することができる。適切な担体はたとえば炭素、ゼオライト、酸化アルミニウム、酸化ケイ素である。
【００２６】
一般に触媒は、そのつど式ＩＩの化合物の当量に対して、０．０００００５〜１モル％の量で、有利には０．０００００５〜０．５モル％、好ましくは０．００００１〜０．１モル％、および特に０．００００５〜０．０５モル％、０．０００１〜０．０５モル％、０．０００５〜０．０１モル％、または０．００１〜０．０１モル％の量で使用する。「当量」という表現は、式ＩＩＩの化合物と反応することができる、式ＩＩの−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2基および−ＣＯＯＨ基に対する。
【００２７】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独でも、または相互の組み合わせとしても以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドである：
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシ、および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
特に
Ｒ1が、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニルまたは−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ8−アルキルを表し、該基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ8−アルキルを表すか、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００２８】
特に適切であるのは、脂肪族モノカルボン酸アミド、たとえば脂肪族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または脂肪族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）または脂環式モノカルボン酸アミド、たとえば脂環式モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）である。
【００２９】
脂肪族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、ギ酸アミド、酢酸アミド、プロピオン酸アミド、酪酸アミド、吉草酸アミド、ヘキサン酸アミド、ヘプタン酸アミド、オクタン酸アミド、ノナン酸アミド、デカン酸アミド、２−メチルプロピオン酸アミド、２−メチル酪酸アミド、３−メチル酪酸アミド、２−メチルペンタン酸アミド、２−エチルヘキサン酸アミド、２−プロピルヘプタン酸アミド、ピバリン酸アミド、ネオノナン酸アミド、ネオデカン酸アミド、ネオトリデカン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミドまたはフェニル酢酸アミドである。
【００３０】
脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、Ｎ−メチルギ酸アミド、Ｎ−メチル酢酸アミド、Ｎ−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル吉草酸アミド、Ｎ−メチルヘキサン酸アミド、Ｎ−メチルヘプタン酸アミド、Ｎ−メチルオクタン酸アミド、Ｎ−メチルノナン酸アミド、Ｎ−メチルデカン酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−メチル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−メチル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−メチルピバリン酸アミド、Ｎ−メチルネオノナン酸アミド、Ｎ−メチルネオデカン酸アミド、Ｎ−メチルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−メチルステアリン酸アミド、Ｎ−メチルオレイン酸アミド、Ｎ−メチルラウリン酸アミド、Ｎ−メチルパルミチン酸アミド、Ｎ−メチルアクリル酸アミド、Ｎ−メチルメタクリル酸アミド、Ｎ−メチルクロトン酸アミド、Ｎ−メチルケイ皮酸アミド、Ｎ−メチルフェニル酢酸アミド、Ｎ−エチルギ酸アミド、Ｎ−エチル酢酸アミド、Ｎ−エチルプロピオン酸アミド、Ｎ−エチル酪酸アミド、Ｎ−エチル吉草酸アミド、Ｎ−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−エチルヘプタン酸アミド、Ｎ−エチルオクタン酸アミド、Ｎ−エチルノナン酸アミド、Ｎ−エチルデカン酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−エチル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−エチル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−エチル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−エチルピバリン酸アミド、Ｎ−エチルネオノナン酸アミド、Ｎ−エチルネオデカン酸アミド、Ｎ−エチルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−エチルステアリン酸アミド、Ｎ−エチルオレイン酸アミド、Ｎ−エチルラウリン酸アミド、Ｎ−エチルパルミチン酸アミド、Ｎ−エチルアクリル酸アミド、Ｎ−エチルメタクリル酸アミド、Ｎ−エチルクロトン酸アミド、Ｎ−エチルケイ皮酸アミドまたはＮ−エチルフェニル酢酸アミドである。
【００３１】
脂肪族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、Ｎ−フェニルギ酸アミド、Ｎ−フェニル酢酸アミド、Ｎ−フェニルプロピオン酸アミド、Ｎ−フェニル酪酸アミド、Ｎ−フェニル吉草酸アミド、Ｎ−フェニルヘキサン酸アミド、Ｎ−フェニルヘプタン酸アミド、Ｎ−フェニルオクタン酸アミド、Ｎ−フェニルノナン酸アミド、Ｎ−フェニルデカン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチルプロピオン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチル酪酸アミド、Ｎ−フェニル−３−メチル酪酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチルペンタン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−エチルヘキサン酸アミド、Ｎ−フェニル−２−プロピルヘプタン酸アミド、Ｎ−フェニル−ピバリン酸アミド、Ｎ−フェニルネオノナン酸アミド、Ｎ−フェニルネオデカン酸アミド、Ｎ−フェニルネオトリデカン酸アミド、Ｎ−フェニルステアリン酸アミド、Ｎ−フェニルオレイン酸アミド、Ｎ−フェニルラウリン酸アミド、Ｎ−フェニルパルミチン酸アミド、Ｎ−フェニルアクリル酸アミド、Ｎ−フェニルメタクリル酸アミド、Ｎ−フェニルクロトン酸アミド、Ｎ−フェニルケイ皮酸アミド、Ｎ−フェニルフェニル酢酸アミドである。
【００３２】
脂環式モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、シクロヘキサンカルボン酸アミドおよびシクロヘプタンカルボン酸アミドであり、有利にはシクロヘキサンカルボン酸アミドである。
【００３３】
特に適切であるのは、脂肪族ポリカルボン酸アミドでもあり、特に脂肪族ジカルボン酸アミド、たとえば脂肪族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または脂肪族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００３４】
脂肪族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、オキサミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨ2）、マロン酸ジアミド、コハク酸ジアミド、グルタル酸ジアミド、アジピン酸ジアミド、セバシン酸ジアミド、マレイン酸ジアミドまたはフマル酸ジアミドである。
【００３５】
脂肪族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、ビス−（Ｎ−メチル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−メチル）−マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−マレイン酸アミド、ビス−（Ｎ−メチル）−フマル酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−エチル）マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−エチル）−マレイン酸アミドまたはビス−（Ｎ−エチル）−フマル酸アミドである。
【００３６】
脂肪族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、ビス−（Ｎ−フェニル）−シュウ酸アミド（Ｒ1＝−ＣＯＮＨＣＨ3）、ビス−（Ｎ−フェニル）マロン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−コハク酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−グルタル酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−アジピン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）セバシン酸アミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−マレイン酸アミドまたはビス−（Ｎ−フェニル）−フマル酸アミドである。
【００３７】
特に適切であるのは、芳香族モノカルボン酸アミド、たとえば芳香族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）または芳香族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００３８】
芳香族モノカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、安息香酸アミド、２−クロロ−安息香酸アミド、３−クロロ−安息香酸アミド、４−クロロ−安息香酸アミド、２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、２−メチル−安息香酸アミド、３−メチル−安息香酸アミド、４−メチル−安息香酸アミド、２，３−ジメチル−安息香酸アミド、２，４−ジメチル−安息香酸アミド、２，６−ジメチル−安息香酸アミド、３，４−ジメチル−安息香酸アミド、２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、２−メトキシ−安息香酸アミド、３−メトキシ−安息香酸アミド、４−メトキシ−安息香酸アミド、２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドまたは３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００３９】
芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−モノカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、Ｎ−メチル安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−クロロ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−メイル２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミド、Ｎ−エチル安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４−ジクロロ安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリクロロ安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−エチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドまたはＮ−エチル−３，４，５−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００４０】
芳香族モノカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、Ｎ−フェニル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−クロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，３−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，６−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４，６−トリクロロ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−メチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，３−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，６−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジメチル−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４，６−トリメチル安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−３−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−４−メトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，３−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−２，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，６−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−フェニル−３，４−ジメトキシ−安息香酸アミド、Ｎ−メチル−２，４，６−トリメトキシ安息香酸アミドである。
【００４１】
特に適切であるのはまた、芳香族ポリカルボン酸アミド、たとえば芳香族ジカルボン酸アミド、トリカルボン酸アミド、テトラカルボン酸アミド、ペンタカルボン酸アミドまたはヘキサカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）、有利には芳香族ジカルボン酸自体（Ｒ2＝水素）、芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）、芳香族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）である。
【００４２】
芳香族ジカルボン酸アミド自体（Ｒ2＝水素）の例は、フタル酸ジアミド、イソフタル酸ジアミドまたはテレフタル酸ジアミドである。
【００４３】
芳香族Ｎ−（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）−ジカルボン酸アミド（Ｒ2＝Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）の例は、ビス−（Ｎ−メチル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−メチル）−イソフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−メチル）−テレフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−エチル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−エチル）−イソフタル酸ジアミドまたはビス−（Ｎ−エチル）−テレフタル酸ジアミドである。
【００４４】
芳香族ジカルボン酸アニリド（Ｒ2＝フェニル）の例は、ビス−（Ｎ−フェニル）−フタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−イソフタル酸ジアミド、ビス−（Ｎ−フェニル）−テレフタル酸ジアミドである。
【００４５】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独で、または相互に組み合わされて、以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１または２の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係にフェニル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、フェニルにより置換されていてもよく、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ2は、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２個の基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
有利には、
水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２個の基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
特に、
Ｃ1〜Ｃ20−アルキルまたはＣ2〜Ｃ20−アルケニルを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、フェニルにより置換されていてもよく、または
フェニルを表し、これは、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す。
【００４６】
特に適切であるのは、脂肪族カルボン酸イミド、たとえばＮ，Ｎ−ビスホルミル−アミン、Ｎ，Ｎ−ビスアセチル−アミンまたはＮ，Ｎ−ビスプロピニル−アミンである。
【００４７】
特に適切であるのは、芳香族カルボン酸アミド、たとえばＮ，Ｎ−ビスベンゾイル−アミンである。
【００４８】
特に適切であるのは、混合された脂肪族−芳香族カルボン酸アミド、たとえばＮ−ベンゾイル−Ｎ−ホルミルアミン、Ｎ−アセチル−Ｎ−ベンゾイルアミンまたはＮ−ベンゾイル−Ｎ−プロピオニル−アミンである。
【００４９】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ2およびＸが、単独で、および相互に組み合わされて以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
有利にはｎ＝２、３、４または５である−（ＣＨ2）n−鎖、またはｐ＝０およびｑ＝２である−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化５】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には、式ＩＩの化合物は、式ＩＩａ12-1、ＩＩａ12-2、ＩＩｂ12-1、ＩＩｂ12-2またはＩＩｃ12-1の化合物
【化６】
を表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００５０】
特に適切であるのは、環式カルボン酸アミド、たとえば２−ピロリドン、ペンタン−５−ラクタム、２−（１Ｈ）−ピリドン、カプロラクタム（＝アゼパン−２−オン）、特に２−ピロリドンおよびカプロラクタム、有利には２−ピロリドンである。
【００５１】
適切な出発化合物は、式中で、基Ｒ1、Ｒ6およびＸが、単独で、ならびに相互に組み合わされて以下の意味を有する式ＩＩのカルボン酸アミドでもある：
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
有利にはｎ＝２、３、４または５の−（ＣＨ2）n−鎖、またはｐ＝０、ｑ＝１の−Ｃ（ＣＨ2）p−Ｃ（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利にはフェン−１，２−ジイルまたはナフト−１，８−ジイルを表し、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化７】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
有利には、化合物ＩＩａ16-1
【化８】
の化合物を表し、
Ｘは、Ｏを表す。
【００５２】
特に適切であるのは、環式ビスカルボン酸アミド、たとえばフマル酸イミド、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、フタル酸イミド、特にフタルイミドである。
【００５３】
式ＩＩＩの適切な出発化合物は、たとえばアセチレン、プロピン、１−ブチン、１−ペンチン、１−ヘキシンおよびフェニルアセチレンであり、その際、アセチレンが特に有利に使用される。
【００５４】
式ＩＩの化合物対式ＩＩＩの化合物の量比は、広い範囲で選択可能である。しかし一般に、式ＩＩＩの化合物の過剰を使用し、特に式ＩＩの化合物に対して０．１〜２０モル％の過剰を使用する。式Ｉの化合物が、２以上の基−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒおよび／または１以上の基−ＣＯＯＣＨ＝ＣＨＲを有している場合、この過剰は相応して、Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ−もしくは−ＣＯＯＣＨ＝ＣＨＲ−基あたりで、つまり式ＩＩの化合物の当量あたりで計算される。
【００５５】
反応は、一般に適切な不活性溶剤中で実施される。式ＩＩの化合物が、適用される温度で液状である場合、溶剤を省略することもできる。適切な不活性溶剤は、脂肪族および芳香族の炭化水素、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレンなど、エーテル、たとえばテトラヒドロフランまたはジオキサン、塩素化炭化水素、たとえば塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンまたはクロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンまたはポリエチレングリコールまたはこれらの混合物である。
【００５６】
反応温度は広い範囲で自由に選択可能である。反応温度は一般に、出発化合物または生成物が分解することなく、迅速な反応が行われるように選択される。一般に反応は２５０℃より低い温度で実施される。通常、この温度は７０〜２３０℃の範囲、特に１１０〜２１０℃、有利には１３０〜１９０℃、１５０〜１８０℃、特に有利には１６０〜１７０℃の範囲である。
【００５７】
使用される式ＩＩＩのアルキンに依存して、および場合により使用される溶剤に依存して、反応は加圧下で、または標準圧力で実施することができる。加圧下で作業する場合、反応は通常、１〜５０バール（絶対）の圧力で実施され、その際、有利には１〜３０バール（絶対）、有利には２〜２０バールおよび特に５〜２５バール、または１０〜２０バールに調整される。有利には反応をアセチレンを用いて加圧下に実施する。圧力はたとえば適用される式ＩＩＩの化合物により、および／または不活性ガス、たとえば窒素により調整することができる。反応を不活性ガスの存在下で実施する場合、圧力は高めることもでき、特に１００バールまで、有利には５０バールまで高めることができる。反応時間は通常、０．０１〜７２時間の範囲、特に０．１〜４８時間の範囲である。
【００５８】
場合により反応を促進する添加剤、たとえば酢酸亜鉛、リチウム塩、たとえばＬｉＣｌ、ルイス酸、たとえばＢＦ3等、ルイス塩基、たとえばトリエチルアミン、ピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−オンなど、触媒によりＣＯにおいて反応し、このことによって自由な配位箇所を作ることができる物質、たとえばトリメチルアミノ−Ｎ−オキシドも添加することができる。
【００５９】
反応は、不連続的に、連続的に、または半バッチ式の方法で実施することができる。後処理は慣用の方法で、有利には式Ｉの所望のカルボン酸アミドを留去することにより行うことができる。触媒は塔底に残留し、かつ場合により再使用することができる。有利には反応および／または後処理、特に精留は、重合防止剤の存在下に実施することができる。重合防止剤として、たとえばヒドロキノン、ヒドロキノン−モノメチル−エーテル、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ニトロソ化合物、たとえばイソアクリロニトレート、Ｎ−ニトロソ−シクロヘキシルヒドロキシルアミンのニトロソジフェニルアミノ、メチレンブルー、フェノチアジン、タンニン酸またはジフェニルアミンを使用することができる。重合防止剤は、そのつど全バッチに対して、１〜１００００ｐｐｍの量で、特に１００〜１０００ｐｐｍの量で使用する。
【００６０】
特別な実施態様は、式中で、Ｒ1およびＲ2が、−（ＣＨ2）3−鎖を形成し、かつＸが、酸素を表す式ＩＩの化合物と、アセチレンとの反応に関する。有利にはこの反応を、７０〜２２０℃、特に１２０〜１９０℃、または１５０〜１７０℃の範囲の温度で実施する。触媒は特に、式ＩＩのカルボン酸アミドに対して、０．００００１〜０．１モル％、とりわけ０．０００１〜０．０１モル％の量で使用する。
【００６１】
さらなる特別な実施態様は、フタル酸イミド（式中で、Ｒ1およびＲ6が一緒になって、フェン−１，２−ジイルを表し、かつＸが酸素を表す式ＩＩの化合物）と、アセチレンとの反応である。有利にはこの反応を、７０〜２２０℃、特に１２０〜１９０℃、または１５０〜１７０℃の範囲の温度で実施する。触媒は、特に、フタルイミドに対して、０．００００１〜０．１モル％、特に０．０００１〜０．０１モル％の量で使用する。
【００６２】
以下の例は、本願発明を限定することなく詳細に説明する。ＧＣ分析（ＧＣ：クロマトグラフィー）は、キャピラリーカラムを用いて、カルボワックス（ポリエチレングリコール）フィルム、たとえばＪ ＆ Ｗ ＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃのＤＢ Ｗａｘを使用して行った。
【００６３】
実施例
例１
ホルムアミド２．６５ｇ（５９ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびジオキサン２０．７ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析によりビニルホルムアミドを検出することができた。
【００６４】
例２（重合防止剤を使用しない）
２−ピロリドン１０．０ｇ（１１８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニル−２−ピロリドンの収率は、９５％であった。
【００６５】
例３（重合防止剤を使用する）
２−ピロリドン１０．０ｇ（１１８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール５３ｍｇ（０．２４ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニル−２−ピロリドンの収率は、９８％であった。
【００６６】
例４
カプロラクタム６．６ｇ（５８ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ０．５ｇ（０．７７ミリモル）およびトルエン１７．４ｇからなる混合物を、１７０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析によりＮ−ビニルカプロラクタムを検出することができた。
【００６７】
例５
フタルイミド２９．４ｇ（２００ミリモル）、Ｒｅ2（ＣＯ）10 ６５２ｍｇ（１．００ミリモル）およびジオキサン５９．０ｇからなる混合物を、１６０℃で、２バールの窒素圧および１８バールのアセチレン圧において、０．２時間ビニル化した。ＧＣ分析により測定されたＮ−ビニルフタルイミドの収率は、９４％であった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
［式中、
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒを表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、あるいは、
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化２】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化３】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＲ7を表し、その際、Ｒ7は、水素またはＣ1〜Ｃ8−アルキルを表し、
Ｒは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはフェニルを表し、その際、最後に挙げた２個の基のフェニル基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されている］のＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法であって、式ＩＩのカルボン酸アミド
【化４】
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、上記の意味を有し、ならびに基−（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2が含有されており、ならびに基−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に１つもしくは複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−ＣＯＯＨが含まれている］と、式ＩＩＩのアルキン
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｈ （ＩＩＩ）
［式中、Ｒは、上記の意味を有する］とを、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物、ならびにレニウムＣｐ2およびレニウム金属から選択されている触媒の存在下に反応させることを含む、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法。
【請求項２】
触媒が、レニウムおよびマンガンのカルボニル錯体から選択されている、請求項１記載の方法。
【請求項３】
触媒として、Ｒｅ2（ＣＯ）10を使用する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
触媒を、式ＩＩの化合物の当量に対して０．０００００５〜１モル％の範囲の量で使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
式ＩＩＩの化合物が、アセチレン、プロピン、１−ブチン、１−ペンチン、１−ヘキシンおよびフェニルアセチレンから選択されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
式ＩＩＩの化合物として、アセチレンを使用する、請求項５記載の方法。
【請求項７】
式中で、
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
式中で、
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
式中で、
Ｒ1およびＲ2が一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化５】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
式ＩＩの化合物として、２−ピロリドンを反応させる、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
式中で、
Ｒ1およびＲ6が一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化６】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
式ＩＩの化合物として、フタルイミドを使用する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
反応を２５０℃までの温度で実施する、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
反応を、１４０〜２３０℃の範囲の温度で実施する、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
触媒を、式ＩＩの化合物の当量に対して、０．０００００１〜０．００２５モル％の範囲の量で使用する、請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
反応および／または反応により得られた反応混合物の後処理を、少なくとも１の重合防止剤の存在下に実施する、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
式ＩＩＩの化合物を、式ＩＩの化合物の当量に対して、０．１〜２０モル％の過剰で使用する、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
［式中、
Ｒ1は、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒを表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒから選択されており、あるいは、
Ｒ1およびＲ2は一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは、
一緒になって、基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化２】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは
Ｒ1およびＲ6は一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を表し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化３】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏ、ＳまたはＮＲ7を表し、その際、Ｒ7は、水素またはＣ1〜Ｃ8−アルキルを表し、
Ｒは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ3〜Ｃ7−シクロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはフェニルを表し、その際、最後に挙げた２個の基のフェニル基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されている］のＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法であって、式ＩＩのカルボン酸アミド
【化４】
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＸは、上記の意味を有し、ならびに基−（＝Ｘ）ＮＲ2−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2が含有されており、ならびに基−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒが、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミド中に１つもしくは複数含まれている場合には、さらに相応する位置に−ＣＯＯＨが含まれている］と、式ＩＩＩのアルキン
Ｈ−Ｃ≡Ｃ−Ｈ （ＩＩＩ）
［式中、Ｒは、上記の意味を有する］とを、レニウム、マンガン、タングステン、モリブデン、クロムまたは鉄のカルボニル錯体、ハロゲン化物または酸化物、ならびにレニウムＣｐ2およびレニウム金属から選択されている触媒の存在下に反応させることを含む、式ＩのＮ−（１−アルケニル）−カルボン酸アミドの製造方法。
【請求項２】
触媒が、レニウムおよびマンガンのカルボニル錯体から選択されている、請求項１記載の方法。
【請求項３】
触媒として、Ｒｅ2（ＣＯ）10を使用する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
触媒を、式ＩＩの化合物の当量に対して０．０００００５〜１モル％の範囲の量で使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
式ＩＩＩの化合物が、アセチレン、プロピン、１−ブチン、１−ペンチン、１−ヘキシンおよびフェニルアセチレンから選択されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
式ＩＩＩの化合物として、アセチレンを使用する、請求項５記載の方法。
【請求項７】
式中で、
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１または２個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲンまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
式中で、
Ｒ1が、水素または−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、
Ｒ2は、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ6を表し、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ4、Ｒ5は、水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルを表し、
Ｒ6は、水素を表すか、または
Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルまたはＣ3〜Ｃ7−シクロアルキルを表し、その際、最後に挙げた３つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており、または
アリールまたはヘテロアリールを表し、その際、最後に挙げた２つの基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は、相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、ジ−（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、−ＣＯＲ3、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣＯＯＲ3、−ＯＣＯＮＲ4Ｒ5、−ＮＲ4ＣＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＯＲ5、−ＮＲ4ＣＯＮＲ4Ｒ5および−Ｃ（＝Ｘ）ＮＨＲ2から選択されており
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
式中で、
Ｒ1およびＲ2が一緒になって、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって基（ａ12）、（ｂ12）または（Ｃ12）
【化５】
を表し、該基は、１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
式ＩＩの化合物として、２−ピロリドンを反応させる、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
式中で、
Ｒ1およびＲ6が一緒になって−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）m−Ｙ−（ＣＨ2）o−または−（ＣＨ2）p−（ＣＨ＝ＣＨ）q−鎖を形成し、その際、
ｎは、２、３、４、５または６を表し、
ｍは、１、２または３を表し、
ｏは、１、２または３を表し、
ｐは、０、１、２または３を表し、
ｑは、１または２を表し、
Ｙは、Ｏ、ＳまたはＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）を表し、
あるいは
一緒になって、Ａｒ−１，２−ジイル、ナフト−１，８−ジイルまたはヘタール−１，２−ジイルを表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
あるいは、
一緒になって基（ａ16）、（ｂ16）または（Ｃ16）
【化６】
を表し、これらは１、２または３個の基により置換されていてもよく、該基は相互に無関係に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ハロゲンおよびＣ1〜Ｃ4−アルコキシから選択されており、
Ｘは、Ｏを表す
式ＩＩの化合物を反応させる、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
式ＩＩの化合物として、フタルイミドを使用する、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
反応を２５０℃までの温度で実施する、請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
反応を、１４０〜２３０℃の範囲の温度で実施する、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
触媒を、式ＩＩの化合物の当量に対して、０．０００００１〜０．００２５モル％の範囲の量で使用する、請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
反応および／または反応により得られた反応混合物の後処理を、少なくとも１の重合防止剤の存在下に実施する、請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
式ＩＩＩの化合物を、式ＩＩの化合物の当量に対して、０．１〜２０モル％の過剰で使用する、請求項１から１６までのいずれか１項記載の方法。
【公表番号】特表２００９−５３９９１８（Ｐ２００９−５３９９１８Ａ）
【公表日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５１４７４７（Ｐ２００９−５１４７４７）
【出願日】平成１９年６月４日（２００７．６．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５５４４４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１４４２８１
【国際公開日】平成１９年１２月２１日（２００７．１２．２１）
【出願人】（５０８０２０１５５）ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア (2,842)
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ ＳＥ
【住所又は居所原語表記】Ｄ−６７０５６ Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年１１月１９日（２００９．１１．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年６月４日（２００７．６．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５５４４４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１４４２８１
【国際公開日】平成１９年１２月２１日（２００７．１２．２１）
【出願人】（５０８０２０１５５）ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア (2,842)
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ ＳＥ
【住所又は居所原語表記】Ｄ−６７０５６ Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
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