説明

サファイア製造装置

【課題】 種結晶がホルダから外れてしまうことを回避することが可能なサファイア単結晶製造装置を提供すること。
【解決手段】 酸化アルミニウムを溶融するるつぼ20と、酸化アルミニウムの種結晶32を保持するホルダ30と、ホルダ30をるつぼ20に溜められた酸化アルミニウムの溶融液21に対して回転させながら引き上げる回転引上げ手段70と、を備えたサファイア単結晶製造装置10であって、回転引上げ手段70による引上げ方向においてホルダ30と重なる位置にあり、かつ引上げ方向視においてホルダ30を囲む遮熱手段40を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、酸化アルミニウムを溶融させ、その溶融液からサファイア単結晶を製造するサファイア単結晶製造装置に関する。
【背景技術】
【0002】
サファイア単結晶は、酸化アルミニウムの単結晶であり、たとえばLEDのGaN系半導体製膜用の基板材料や、液晶プロジェクタ用のフィルムとして用いられる。これらの用途に用いられるサファイア単結晶のウエハを作成するためのサファイア単結晶を製造するには、チョクラルスキー法(以下、CZ法)が主に用いられる。
【0003】
図4は、CZ法を用いた従来のサファイア単結晶製造装置の一例を示している(たとえば特許文献1参照)。同図に示されたサファイア単結晶製造装置90は、酸化アルミニウムの溶融液92を作成するためのるつぼ91を有する。るつぼ91に挿入された酸化アルミニウム原料は、ヒータ93によって加熱されることにより溶融液92となる。ホルダ94は、サファイアの種結晶32を保持しており、ロッド95の下端に取り付けられている。ロッド95は、回転引上げ手段97によって駆動される。回転引上げ手段97は、回転駆動機構98と昇降駆動機構99とからなる。昇降駆動機構99によってホルダ94を降下させ、種結晶96を溶解液92に漬ける。そののちに、回転駆動機構98によってロッドを回転させつつ、昇降駆動機構99によってホルダ94を徐々に引き上げる。これにより、種結晶96と一体となったサファイア単結晶が製造される。
【0004】
しかしながら、種結晶96を溶解液92に漬ける際や、種結晶96を引き上げる間には、ホルダ94がヒータ93やるつぼ91、および溶解液92からの熱にさらされる。ホルダ94が過度に高温となると、種結晶96がホルダ94から外れてしまうことが懸念される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2010−189242号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、種結晶がホルダから外れてしまうことを回避することが可能なサファイア単結晶製造装置を提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明によって提供されるサファイア単結晶製造装置は、酸化アルミニウムを溶融するるつぼと、酸化アルミニウムの種結晶を保持するホルダと、上記ホルダを上記るつぼに溜められた酸化アルミニウムの溶融液に対して回転させながら引き上げる回転引上げ手段と、を備えたサファイア単結晶製造装置であって、上記回転引上げ手段による引上げ方向において上記ホルダと重なる位置にあり、かつ上記引上げ方向視においてホルダを囲む遮熱手段を備えることを特徴としている。
【0008】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記遮熱手段は、上記ホルダに対して固定された第1遮熱部を有する。
【0009】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第1遮熱部は、円筒形状である。
【0010】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第1遮熱部は、下方ほどその直径が小である。
【0011】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第1遮熱部の下端は、上記ホルダの下端と上記ホルダに保持された上記種結晶の下端との間に位置する。
【0012】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記遮熱手段は、上記引上げ方向視において上記第1遮熱部を囲む第2遮熱部を有する。
【0013】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第2遮熱部は、円筒形状である。
【0014】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第2遮熱部の下端は、上記第1遮熱部の下端よりも下方に位置しうる。
【0015】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記第2遮熱部は、上記第1遮熱部に対して上記引上げ方向に相対動可能である。
【0016】
本発明の好ましい実施の形態においては、上記ホルダに対して上記引上げ方向周りに上記第2遮熱部を相対回転させたときに、上記第2遮熱部が上記第1遮熱部に対して上記引上げ方向において相対動させるように上記第2遮熱部を上記ホルダに対して連結する連結ねじ部と、上記回転引上げ手段によって上記ホルダを回転させた状態で、上記第2遮熱部の回転を阻止する回転阻止部と、を備える。
【0017】
このような構成によれば、上記るつぼおよび上記溶融液などからの輻射熱を、上記遮熱手段によって遮ることが可能であり、上記ホルダが受ける輻射熱を大幅に減少することができる。これにより、上記ホルダに保持された上記種結晶の温度が過度に高くなることを防止可能であり、上記種結晶が上記ホルダから外れてしまうことを回避することができる。
【0018】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本発明に係るサファイア単結晶製造装置を示す全体構成図である。
【図2】図1のサファイア単結晶製造装置において第2遮熱部の回転を阻止する状態を示す全体構成図である。
【図3】図2のIII−III線に沿う要部平面図である。
【図4】従来のサファイア単結晶製造装置の一例を示す全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
【0021】
図1は、本発明に係るサファイア単結晶製造装置の一例を示している。本実施形態のサファイア単結晶製造装置10は、るつぼ20、ヒータ21、ホルダ30、ロッド31、遮熱手段40、連結ねじ部50、回転阻止部60、回転引上げ手段70、重量検出部73、およびるつぼ昇降駆動機構74を備えている。サファイア単結晶製造装置10は、CZ法によってサファイア単結晶を製造するために用いられる。
【0022】
るつぼ20は、サファイア単結晶の材料となる酸化アルミニウムを溶融することにより、酸化アルミニウムの溶融液21を作成するためのものである。るつぼ20は、酸化アルミニウムの融点(約2,000℃)に耐えうる金属からなり、たとえばモリブデンが用いられる。ヒータ21は、酸化アルミニウムを溶融するための熱源であり、たとえばるつぼ20を取り囲むように設けられている。
【0023】
ホルダ30は、種結晶32を保持するためのものであり、ロッド31の下端に取り付けられている。ホルダ30は、酸化アルミニウムの融点に耐えうる金属からなり、たとえばモリブデン、タングステンなどが用いられる。ロッド31は、ホルダ30を支持しており、回転引上げ手段70によって、回転および昇降される。製造するサファイア単結晶の結晶方向は、種結晶32の下端面の結晶方向によって決定される。
【0024】
遮熱手段40は、全体として、ホルダ30が昇降する上下方向において少なくともその一部がホルダ30と重なる位置とされ、かつ上下方向視においてホルダ30を囲むように構成されている。本実施形態においては、遮熱手段40は、内筒41および外筒42を有している。
【0025】
内筒41は、本発明でいう第1遮熱部の一例に相当し、ホルダ30に対して固定されている。本実施形態の内筒41は、ホルダ30を囲む円筒形状とされている。さらに、ホルダ30は、下端から上端に向かうほど断面直径が大となるテーパ形状とされている。上下方向において、内筒41は、ホルダ30のすべてを覆っており、内筒41の下端からは種結晶32が突出している。内筒41は、酸化アルミニウムの融点に耐えうる金属からなり、たとえばモリブデン、タングステンなどが用いられる。
【0026】
外筒42は、本発明でいう第2遮熱部の一例に相当し、連結ねじ部50を介してホルダ30および内筒41に対して相対回転可能に取り付けられている。本実施形態の外筒42は、ホルダ30および内筒41を囲む円筒形状とされている。上下方向において、外筒42の下端は、内筒41の下端よりも下方に位置しており、外筒42の下端から種結晶32が突出している。また、外筒42の上端は、ホルダ30の上端よりも上方に位置しており、本実施形態においては、連結ねじ部50のほとんどを囲むサイズとされている。外筒42は、酸化アルミニウムの融点に耐えうる金属からなり、たとえばモリブデン、タングステンなどが用いられる。また、本実施形態においては、外筒42の方が内筒41よりも肉厚とされている。外筒42には、径方向に突出するボルト43が取り付けられている。
【0027】
内筒41の最大直径よりも外筒42の直径が大であることにより、内筒41と外筒42との間は、確認視線80が通過可能に構成されている。確認視線80は、サファイア単結晶を製造する際に、サファイア単結晶製造装置10外から溶融液21の湯面を確認するカメラ装置もしくは使用者の視線である。
【0028】
連結ねじ部50は、ホルダ30に対して外筒42を相対回転させたときに、ホルダ30に対して外筒42を相対的に昇降させるためのものであり、雄ねじ部51および雌ねじ部52からなる。雄ねじ部51は、ホルダ30の上方に取り付けられており、ロッド31に対して固定されている。雌ねじ部52は、円環状であり、雄ねじ部51に対して螺合している。雌ねじ部52には、外筒42が取り付けられている。
【0029】
回転阻止部60は、外筒42のホルダ30に対する相対回転を阻止するためのものであり、アーム61および円柱部62からなる。アーム61は、たとえばるつぼ20を収容するチャンバ(図示略)、あるいはこのチャンバ内に設けられた断熱材(図示略)に対して固定されており水平方向に延びている。円柱部62は、アーム61の先端に取り付けられており、上方に向かって突出している。円柱部62がボルト43と当接することにより、外筒42の回転が阻止される。本実施形態においては、回転阻止部60の上下方向位置は、サファイア単結晶を製造するための定常工程において、ボルト43が到達しない位置とされている。
【0030】
回転引上げ手段70は、ロッド31を介してホルダ30を回転させつつ昇降させるためのものであり、回転駆動機構71および昇降駆動機構72からなる。回転駆動機構71は、ロッド31を所望の方向に所望の速度で回転させる機能を有し、駆動源としてたとえばモータを備える。昇降駆動機構72は、ロッド31を所望の速度で昇降させる機能を有し、駆動源としてたとえばモータを備える。
【0031】
重量検出部73は、種結晶31の下端から成長したサファイア単結晶の重量を検出するためのものである。重量検出部73は、たとえばロッド31およびこれに支持されているものの重量をリアルタイムで測定しうる、たとえばロードセルを備える。
【0032】
るつぼ昇降駆動機構74は、るつぼ20を昇降させる機能を有し、駆動源としてたとえばモータを備える。
【0033】
サファイア単結晶製造装置10によるサファイア単結晶の製造は、ヒータ22の熱によってるつぼ20内に溶融液21を作成したのちに、図1に示すように、種結晶31の下端が溶融液21に浸かるまで、昇降駆動機構72によってホルダ30を下降させる。そして、回転駆動機構71によってサファイア単結晶の成長に適した回転速度でホルダ30を回転させつつ、昇降駆動機構72によってサファイア単結晶の成長に適した速度でホルダ30を上昇させる。これにより、種結晶32につながったサファイア単結晶が得られる。
【0034】
図2は、外筒42のホルダ30に対する位置を調整する状態の一例を示している。この調整は、たとえば種結晶32が溶解などによって短くなった場合に、外筒42の下端を種結晶32の下端に対して十分上方に位置させるために行う。
【0035】
この調整を行う場合、まず、るつぼ昇降駆動機構74によってるつぼ20を十分に下降させる。次いで、ボルト43の上下方向位置が回転阻止部60の円柱部62の上下方向位置と重なるように、昇降駆動機構72によってホルダ30を下降させる。ボルト43と円柱部62とが重なる位置において回転駆動機構71によってホルダ30を回転させると、図3に示すように、内筒41の回転が阻止された状態で、外筒42が回転する。これにより、雄ねじ部51と雌ねじ部52とが相対回転することとなり、雄ねじ部51および雌ねじ部52のねじ寸法に応じて外筒42が内筒41(ホルダ30)に対して昇降する。これにより、外筒42の下端を内筒41の下端よりも十分に下方に位置させることができる。
【0036】
次に、サファイア単結晶製造装置10の作用について説明する。
【0037】
本実施形態によれば、るつぼ20、溶融液21およびヒータ22などからの輻射熱を、遮熱手段40によって遮ることが可能であり、ホルダ32が受ける輻射熱を大幅に減少することができる。これにより、ホルダ30に保持された種結晶32の温度が過度に高くなることを防止可能であり、種結晶32がホルダ30から外れてしまうことを回避することができる。
【0038】
内筒41は、ホルダ30に対して固定されており、ホルダ30を常に囲んでいる。また、内筒41の下端はホルダ30の下端よりも下方に位置しており、輻射熱がホルダ30に及ぶことを効果的に抑制することが可能である。
【0039】
内筒41をテーパ形状とすることにより、内筒41の外面に沿った確認視線80は、溶融液21の湯面、特に種結晶32下端の近傍の湯面を指しうる。これにより、サファイア単結晶を製造する際に、種結晶32下端の状態や、サファイア単結晶の成長状態を適切に確認することができる。
【0040】
内筒41を外筒42によって囲む構成とすることにより、遮熱手段40は、二重構造となっている。これにより、るつぼ20、溶融液21およびヒータ22などからホルダ30までには、輻射熱に対して二重の壁が存在する格好となる。これは、ホルダ30が受ける輻射熱を低減するのに好適である。
【0041】
外筒42を内筒41よりも断面直径が大である円筒形状とすることにより、確認視線80を外筒42が遮ってしまうことを防止することができる。外筒42の下端が内筒41の下端と種結晶32の下端との間に位置していることにより、種結晶32のうち内筒41(ホルダ30)側の根本部分が受ける輻射熱を抑制することができる。
【0042】
連結ねじ部50を利用して外筒42を内筒41(ホルダ30)に対して昇降自在とすることにより、たとえば種結晶32が溶融によって短くなった場合に、外筒42をホルダ41に対して上昇させることにより、種結晶32の下端を外筒42の下端寄りも下方に位置させることができる。
【0043】
連結ねじ部50と回転阻止部60とを用いて外筒42の高さ調整を行うことにより、たとえば外筒42の高さを調整するための専用の駆動機構を備える必要がない。2,000℃程度に達する溶融液21を扱う場に駆動機構を設けると、その熱対策を施すといった手間が生じる。連結ねじ部50および回転阻止部60は、材料の選定などを適切に行いさえすれば、特段の熱対策は不要である。
【0044】
回転阻止部60は、通常の製造工程においては、ボルト43が到達しえない上下位置に設けられているため、たとえばサファイア単結晶を成長させる引上げ工程において、意図せず外筒42の回転が阻止されてしまうことを防止することができる。なお、本実施形態とは異なり、回転阻止部60を通常の製造工程では、ボルト43が到達しえない程度に上方側に設けてもよい。
【0045】
本発明に係るサファイア単結晶製造装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係るサファイア単結晶製造装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
【0046】
本発明でいう遮熱手段40は、上述した二重構造とすることが好ましいが、一重構造であっても遮熱効果を発揮しうる。また、遮熱部を三重以上の構造としてもよい。内筒41と外筒42との間に確認視線80を確保する方策としては、内筒41の中心に対して外筒42の中心をずらした構成としてもよい。この場合、内筒41を断面直径が一定である円筒形状としてもよい。
【符号の説明】
【0047】
10 サファイア単結晶製造装置
20 るつぼ
21 溶融液
22 ヒータ
30 ホルダ
31 ロッド
32 種結晶
40 遮熱手段
41 内筒部(第1遮熱部)
42 外筒部(第2遮熱部)
43 ボルト
50 連結ねじ部
51 雄ねじ部
52 雌ねじ部
60 回転阻止部
61 アーム
62 円柱部
70 回転引上げ手段
71 回転駆動機構
72 昇降駆動機構
73 重量検出部
74 るつぼ昇降駆動機構

【特許請求の範囲】
【請求項1】
酸化アルミニウムを溶融するるつぼと、
酸化アルミニウムの種結晶を保持するホルダと、
上記ホルダを上記るつぼに溜められた酸化アルミニウムの溶融液に対して回転させながら引き上げる回転引上げ手段と、
を備えたサファイア単結晶製造装置であって、
上記回転引上げ手段による引上げ方向において上記ホルダと重なる位置にあり、かつ上記引上げ方向視においてホルダを囲む遮熱手段を備えることを特徴とする、サファイア単結晶製造装置。
【請求項2】
上記遮熱手段は、上記ホルダに対して固定された第1遮熱部を有する、請求項1に記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項3】
上記第1遮熱部は、円筒形状である、請求項2に記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項4】
上記第1遮熱部は、下方ほどその直径が小である、請求項3に記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項5】
上記第1遮熱部の下端は、上記ホルダの下端と上記ホルダに保持された上記種結晶の下端との間に位置する、請求項2ないし4のいずれかに記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項6】
上記遮熱手段は、上記引上げ方向視において上記第1遮熱部を囲む第2遮熱部を有する、請求項2ないし5のいずれかに記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項7】
上記第2遮熱部は、円筒形状である、請求項6に記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項8】
上記第2遮熱部の下端は、上記第1遮熱部の下端よりも下方に位置しうる、請求項6または7に記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項9】
上記第2遮熱部は、上記第1遮熱部に対して上記引上げ方向に相対動可能である、請求項6ないし8のいずれかに記載のサファイア単結晶製造装置。
【請求項10】
上記ホルダに対して上記引上げ方向周りに上記第2遮熱部を相対回転させたときに、上記第2遮熱部が上記第1遮熱部に対して上記引上げ方向において相対動させるように上記第2遮熱部を上記ホルダに対して連結する連結ねじ部と、
上記回転引上げ手段によって上記ホルダを回転させた状態で、上記第2遮熱部の回転を阻止する回転阻止部と、を備える、請求項9に記載のサファイア単結晶製造装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2012−101995(P2012−101995A)
【公開日】平成24年5月31日(2012.5.31)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−254369(P2010−254369)
【出願日】平成22年11月15日(2010.11.15)
【出願人】(000153672)株式会社住友金属ファインテック (35)
【Fターム(参考)】