ピリジン化合物の製造方法
【課題】 低コストで環境に配慮した製造適性の高いジヒドロピリジン化合物の酸化法によるピリジン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【化２】
（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
【解決手段】 少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【化２】
（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真用添加剤、増感色素、医薬品、有機ＥＬ材料、液晶材料、非線型光学材料等、またはそれらの合成中間体として有用なピリジン化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジヒドロピリジン化合物の酸化によるピリジン化合物の合成法としては、酸素による酸化法（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５７（７），１９９４−１９９９（１９８４）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２３（４），４２９−４３２（１９８２）；Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２１（３），４０１−４０６（１９９１）等に記載の方法）、硫黄による酸化法（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，３８（１），４５−４８（１９９０）；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５３（１８），４２２３−４２２７，（１９８８）；特開平６−１７２３４７号等に記載の方法）、ｏ−クロラニルによる酸化法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８（２４），４５９７−４６０５，（１９８３）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，２２（２），３３９−３４４（１９８４）等に記載の方法）、ＤＤＱによる酸化法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４８（２７），５６４７−５６５６（１９９２）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，４５（３），４３４−４３８（１９９７）等に記載の方法）等が知られているが、反応に長時間や高温を要したり、残渣の除去や廃液の処理といった手間が掛かるなどの欠点があり、コスト、環境の両面から工業的に適した方法とはいえなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低コストで環境に配慮した製造適性の高いジヒドロピリジン化合物の酸化法によるピリジン化合物の製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は次の手段によって達成された。
（１）少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
【０００６】（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【０００７】
【化４】
【０００８】（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
（２）上記塩基が無機塩基、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシドであることを特徴とする、（１）項記載のピリジン化合物の製造方法。
（３）一般式（Ｉ）および一般式（II）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5が水素原子である、（１）または（２）項に記載のピリジン化合物の製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の製造方法について詳しく説明する。本発明において用いられる一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物、および本発明の方法において製造される一般式（II）で表されるピリジン化合物について説明する。一般式（Ｉ）および一般式（II）において、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（例えばメチル、エチル）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル）、アルケニル基（例えばビニル）、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、シリル基（例えばジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリル）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホリル）、ヘテロ環基（Ｎ、ＯおよびＳのうちの少なくとも一つの原子を含む３〜１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、該環は単環であっても良いし、更に他の環と縮合することによる縮合環であっても良い。ヘテロ環基として好ましくは、５〜６員のヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子を含む５員のヘテロ環基である。）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。また隣り合った置換基が互いに結合して環を形成しても良い。
【００１０】Ｒ1〜Ｒ5として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シリル基、ホスホリル基、ヘテロ環基である。Ｒ1〜Ｒ5としてより好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールスルホニル基、シリル基、ホスホリル基、ヘテロ環基である。
【００１１】Ｒ1〜Ｒ5として更に好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロ環基である。特に好ましくは、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5がいずれも水素原子であり、かつＲ3がアリール基である化合物である。
【００１２】一般式（Ｉ）において、Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。Ｌで表されるアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基はさらに置換基で置換されていても良く、置換基としては、Ｒ1〜Ｒ5として挙げた置換基が適用できる。Ｌにおいて、アルキル基およびアルコキシ基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１５のアルキル基およびアルコキシ基を表し、分岐や環構造形成（すなわち、分岐アルキル基、分岐アルキルオキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基）していても良い。Ｌにおいて、アリール基およびアリールオキシ基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１１のアリール基およびアリールオキシ基を表す。
【００１３】次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】
【化１５】
【００２５】次に本発明の一般式（II）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
【化１６】
【００２７】
【化１７】
【００２８】
【化１８】
【００２９】
【化１９】
【００３０】
【化２０】
【００３１】次に一般式（II）で表される化合物の製造方法について詳細に説明する。原料である一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物は種々の合成法が知られている。例えば、４級ピリジニウム塩に対する求核剤の付加反応（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４７，４３１５（１９８２）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，３６（３），５０７−５１８（１９９３）；同，４３（１１），２４２５−２４３４（１９９６）；同，４６，８３−８６（１９９６）；同，４８（１２），２６５３−２６６０（１９９８）；同，５１（４），７３７−７５０（１９９９）；Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，３４（１）１２９−１４２（１９９７）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，４０（２２），４２３１−４２３４（１９９９）；同，４０（２２），４２３１−４２３４（１９９９）；同，４０（３４），６２４１−６２４４（１９９９）；Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４２（５），７７９−７８３（１９９９）；特開平１０−１１４７４３号等に記載の方法）で有利に合成することができる。
【００３２】以下に、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物から、一般式（II）で表されるピリジン化合物を製造する方法を詳細に説明する。本発明の反応において使用する塩基に特に限定はなく、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、カルボン酸塩、アルコキシドなどの他に、有機塩基であるアミン類（例えばアンモニア、ジエチルアミン、トリエチルアミン）等を用いることができ、これらの塩基を２種類以上併用しても良い。塩基は、好ましくはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、ナトリウムメトキシド、アンモニアであり、更に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、アンモニアであり、特に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、ナトリウムメトキシドである。
【００３３】本発明の反応において使用する塩基の添加量は、ジヒドロピリジン化合物に対して好ましくは１〜１００倍モル、さらに好ましくは１〜２０倍モルである。本発明の反応において使用する過酸化水素水の濃度に特に限定はなく、市販のものを使用しても良いし、希釈して用いても良い。添加する過酸化水素水の濃度は通常１〜８０質量％であり、好ましくは３〜７０質量％であり、５〜５０質量％が特に好ましい。本発明の反応において使用する過酸化水素水の添加量は、過酸化水素のモルとしてジヒドロピリジン化合物に対して好ましくは１〜１００倍モル、さらに好ましくは１〜２０倍モルである。原料の添加順序は特に限定はなく、ジヒドロピリジン化合物、溶媒、塩基、過酸化水素水を同時に加えても良いし、例えば塩基を入れて加熱した後に過酸化水素水を添加しても良い。
【００３４】本発明の反応は無溶媒でも良いが、溶媒を使用することもできる。反応に用いる溶媒は、溶媒自体が一般式（Ｉ）や（II）の化合物と直接、置換反応や付加反応等の反応に関与しない限り限定されないが、水、あるいは有機溶媒を使用できる。有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等）、脂肪族炭化水素類（例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン等）、エーテル類（例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン等）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリル等を挙げることができる。溶媒として好ましくは、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルであり、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール、アセトン、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリルであり、水、メタノール、エタノール、２−プロパノールが特に好ましい。また、２種以上の溶媒を併用しても良い。
【００３５】本発明の反応の反応温度は、通常−１０℃〜１２０℃が好ましく、さらに好ましくは１０℃〜１００℃である。また反応時間は、反応原料、反応温度、反応濃度、反応スケール等によって異なるが、通常０．１〜３６時間の範囲であり、好ましくは０．５〜１２時間の範囲である。
【００３６】
【実施例】次に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】＜参考例１＞１−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）−４−フェニル−１，４−ジヒドロピリジン（化合物Ｉ−３）の合成。
ピリジン１８．７ｇ（０．２３６モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍｌを窒素雰囲気下攪拌しながら、ＣｕＩ１．９ｇ（０．０１モル）を添加した。室温で均一溶液になるまで攪拌した後、クロロギ酸２−エチルヘキシル４０．５ｇ（０．２１モル）とテトラヒドロフラン２０ｍｌの溶液を内温が２０℃を越えないように氷冷下滴下した。さらに２Ｍフェニルマグネシウムクロライド１００ｍｌ（０．２モル；ＴＨＦ溶液）を内温が０±３℃の範囲で、１時間かけて滴下した。０±３℃で２０分攪拌し、さらに２５℃で１時間攪拌した。テトラヒドロフラン約６０ｍｌを減圧留去した後、トルエン１８０ｍｌを加え、１０％硫酸６０ｇ（０．０６１モル）を滴下した。生じた沈殿をセライト濾過し、セライトを４０ｍｌのトルエンで洗浄した。濾液の水層を除去した後、１０％塩酸１８０ｍｌで２回、水１８０ｍｌで２回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、収量６３．１ｇ、純度８３．０％（ＨＰＬＣで確認した。）、収率８３．５％で（化合物Ｉ−３）を得た。
【００３８】＜実施例１＞４−フェニルピリジン（化合物II−１）の合成と精製。
＜参考例１＞で得た（化合物Ｉ−３）５２．９ｇ（０．１４モル）水酸化ナトリウム１６．８ｇ（０．４２モル）をメタノール９０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間攪拌した後、３０℃まで放冷し、３１％過酸化水素水３９．５ｇ（０．３６モル）添加した。この時内温は約３５℃まで上昇した。５０℃で３時間反応させた後、トルエン１００ｍｌ、および亜硫酸ナトリウム５０ｇ（０．４０モル）を水１５０ｍｌに溶解した水溶液を添加した。攪拌した後水層を除去し、有機層を水１００ｍｌで２回洗浄した。１０％塩酸１００ｍｌで２回抽出し、集めた水層を２５％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７〜８に調整した。２０℃で１時間攪拌し、生成した粗結晶を減圧下濾取し、水洗、乾燥した。収量１５．２ｇ、ＨＰＬＣ面積純度９９．７％、収率７０．０％で（化合物II−１）の白色結晶を得た。目的物である（化合物II−１）の構造は1H−ＮＭＲで確認した。
1H−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：溶媒ＣＤＣｌ3 内部標準：ＴＭＳ）
δ ｐｐｍ ７．５（ｍ，５Ｈ）
７．６５（ｄ，２Ｈ）
８．６５（ｄ，２Ｈ）
【００３９】＜比較例１＞＜参考例１＞で得た（化合物Ｉ−３）２ｇ（６．３８ミリモル）をメタノール４ｍｌに溶解し、３１％過酸化水素水１．８ｇ（１６．４ミリモル）添加した。５０℃で３時間反応させた後、酢酸エチル１０ｍｌ、および飽和亜硫酸ナトリウム水溶液１０ｍｌを加え攪拌した後水層を除去した。ＨＰＬＣの内部標準として、ビフェニル１００ｍｇ（０．６４８ミリモル）を有機層に添加し、攪拌、溶解した後ＨＰＬＣで定量したところ、４−フェニルピリジンの収率は４％であった。
【００４０】
【発明の効果】本発明により、写真用添加剤、増感色素、医薬品、有機ＥＬ材料、液晶材料、非線型光学材料等、またはそれらの合成中間体として有用なピリジン化合物を、低コストで環境に配慮した工業的に有利な方法で製造することが可能になった。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真用添加剤、増感色素、医薬品、有機ＥＬ材料、液晶材料、非線型光学材料等、またはそれらの合成中間体として有用なピリジン化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジヒドロピリジン化合物の酸化によるピリジン化合物の合成法としては、酸素による酸化法（Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５７（７），１９９４−１９９９（１９８４）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２３（４），４２９−４３２（１９８２）；Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２１（３），４０１−４０６（１９９１）等に記載の方法）、硫黄による酸化法（Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，３８（１），４５−４８（１９９０）；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５３（１８），４２２３−４２２７，（１９８８）；特開平６−１７２３４７号等に記載の方法）、ｏ−クロラニルによる酸化法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８（２４），４５９７−４６０５，（１９８３）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，２２（２），３３９−３４４（１９８４）等に記載の方法）、ＤＤＱによる酸化法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４８（２７），５６４７−５６５６（１９９２）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，４５（３），４３４−４３８（１９９７）等に記載の方法）等が知られているが、反応に長時間や高温を要したり、残渣の除去や廃液の処理といった手間が掛かるなどの欠点があり、コスト、環境の両面から工業的に適した方法とはいえなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低コストで環境に配慮した製造適性の高いジヒドロピリジン化合物の酸化法によるピリジン化合物の製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は次の手段によって達成された。
（１）少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
【０００６】（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【０００７】
【化４】
【０００８】（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
（２）上記塩基が無機塩基、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシドであることを特徴とする、（１）項記載のピリジン化合物の製造方法。
（３）一般式（Ｉ）および一般式（II）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5が水素原子である、（１）または（２）項に記載のピリジン化合物の製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の製造方法について詳しく説明する。本発明において用いられる一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物、および本発明の方法において製造される一般式（II）で表されるピリジン化合物について説明する。一般式（Ｉ）および一般式（II）において、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（例えばメチル、エチル）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル）、アルケニル基（例えばビニル）、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、シリル基（例えばジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリル）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホリル）、ヘテロ環基（Ｎ、ＯおよびＳのうちの少なくとも一つの原子を含む３〜１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、該環は単環であっても良いし、更に他の環と縮合することによる縮合環であっても良い。ヘテロ環基として好ましくは、５〜６員のヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子を含む５員のヘテロ環基である。）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。また隣り合った置換基が互いに結合して環を形成しても良い。
【００１０】Ｒ1〜Ｒ5として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シリル基、ホスホリル基、ヘテロ環基である。Ｒ1〜Ｒ5としてより好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールスルホニル基、シリル基、ホスホリル基、ヘテロ環基である。
【００１１】Ｒ1〜Ｒ5として更に好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロ環基である。特に好ましくは、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5がいずれも水素原子であり、かつＲ3がアリール基である化合物である。
【００１２】一般式（Ｉ）において、Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。Ｌで表されるアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基はさらに置換基で置換されていても良く、置換基としては、Ｒ1〜Ｒ5として挙げた置換基が適用できる。Ｌにおいて、アルキル基およびアルコキシ基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１５のアルキル基およびアルコキシ基を表し、分岐や環構造形成（すなわち、分岐アルキル基、分岐アルキルオキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基）していても良い。Ｌにおいて、アリール基およびアリールオキシ基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１１のアリール基およびアリールオキシ基を表す。
【００１３】次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】
【化１５】
【００２５】次に本発明の一般式（II）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
【化１６】
【００２７】
【化１７】
【００２８】
【化１８】
【００２９】
【化１９】
【００３０】
【化２０】
【００３１】次に一般式（II）で表される化合物の製造方法について詳細に説明する。原料である一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物は種々の合成法が知られている。例えば、４級ピリジニウム塩に対する求核剤の付加反応（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４７，４３１５（１９８２）；Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，３６（３），５０７−５１８（１９９３）；同，４３（１１），２４２５−２４３４（１９９６）；同，４６，８３−８６（１９９６）；同，４８（１２），２６５３−２６６０（１９９８）；同，５１（４），７３７−７５０（１９９９）；Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．，３４（１）１２９−１４２（１９９７）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，４０（２２），４２３１−４２３４（１９９９）；同，４０（２２），４２３１−４２３４（１９９９）；同，４０（３４），６２４１−６２４４（１９９９）；Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４２（５），７７９−７８３（１９９９）；特開平１０−１１４７４３号等に記載の方法）で有利に合成することができる。
【００３２】以下に、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物から、一般式（II）で表されるピリジン化合物を製造する方法を詳細に説明する。本発明の反応において使用する塩基に特に限定はなく、例えばアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、カルボン酸塩、アルコキシドなどの他に、有機塩基であるアミン類（例えばアンモニア、ジエチルアミン、トリエチルアミン）等を用いることができ、これらの塩基を２種類以上併用しても良い。塩基は、好ましくはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、ナトリウムメトキシド、アンモニアであり、更に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、アンモニアであり、特に好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、ナトリウムメトキシドである。
【００３３】本発明の反応において使用する塩基の添加量は、ジヒドロピリジン化合物に対して好ましくは１〜１００倍モル、さらに好ましくは１〜２０倍モルである。本発明の反応において使用する過酸化水素水の濃度に特に限定はなく、市販のものを使用しても良いし、希釈して用いても良い。添加する過酸化水素水の濃度は通常１〜８０質量％であり、好ましくは３〜７０質量％であり、５〜５０質量％が特に好ましい。本発明の反応において使用する過酸化水素水の添加量は、過酸化水素のモルとしてジヒドロピリジン化合物に対して好ましくは１〜１００倍モル、さらに好ましくは１〜２０倍モルである。原料の添加順序は特に限定はなく、ジヒドロピリジン化合物、溶媒、塩基、過酸化水素水を同時に加えても良いし、例えば塩基を入れて加熱した後に過酸化水素水を添加しても良い。
【００３４】本発明の反応は無溶媒でも良いが、溶媒を使用することもできる。反応に用いる溶媒は、溶媒自体が一般式（Ｉ）や（II）の化合物と直接、置換反応や付加反応等の反応に関与しない限り限定されないが、水、あるいは有機溶媒を使用できる。有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等）、脂肪族炭化水素類（例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン等）、エーテル類（例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン等）、ジメチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリル等を挙げることができる。溶媒として好ましくは、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルであり、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール、アセトン、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリルであり、水、メタノール、エタノール、２−プロパノールが特に好ましい。また、２種以上の溶媒を併用しても良い。
【００３５】本発明の反応の反応温度は、通常−１０℃〜１２０℃が好ましく、さらに好ましくは１０℃〜１００℃である。また反応時間は、反応原料、反応温度、反応濃度、反応スケール等によって異なるが、通常０．１〜３６時間の範囲であり、好ましくは０．５〜１２時間の範囲である。
【００３６】
【実施例】次に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明する。
【００３７】＜参考例１＞１−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）−４−フェニル−１，４−ジヒドロピリジン（化合物Ｉ−３）の合成。
ピリジン１８．７ｇ（０．２３６モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍｌを窒素雰囲気下攪拌しながら、ＣｕＩ１．９ｇ（０．０１モル）を添加した。室温で均一溶液になるまで攪拌した後、クロロギ酸２−エチルヘキシル４０．５ｇ（０．２１モル）とテトラヒドロフラン２０ｍｌの溶液を内温が２０℃を越えないように氷冷下滴下した。さらに２Ｍフェニルマグネシウムクロライド１００ｍｌ（０．２モル；ＴＨＦ溶液）を内温が０±３℃の範囲で、１時間かけて滴下した。０±３℃で２０分攪拌し、さらに２５℃で１時間攪拌した。テトラヒドロフラン約６０ｍｌを減圧留去した後、トルエン１８０ｍｌを加え、１０％硫酸６０ｇ（０．０６１モル）を滴下した。生じた沈殿をセライト濾過し、セライトを４０ｍｌのトルエンで洗浄した。濾液の水層を除去した後、１０％塩酸１８０ｍｌで２回、水１８０ｍｌで２回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、収量６３．１ｇ、純度８３．０％（ＨＰＬＣで確認した。）、収率８３．５％で（化合物Ｉ−３）を得た。
【００３８】＜実施例１＞４−フェニルピリジン（化合物II−１）の合成と精製。
＜参考例１＞で得た（化合物Ｉ−３）５２．９ｇ（０．１４モル）水酸化ナトリウム１６．８ｇ（０．４２モル）をメタノール９０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間攪拌した後、３０℃まで放冷し、３１％過酸化水素水３９．５ｇ（０．３６モル）添加した。この時内温は約３５℃まで上昇した。５０℃で３時間反応させた後、トルエン１００ｍｌ、および亜硫酸ナトリウム５０ｇ（０．４０モル）を水１５０ｍｌに溶解した水溶液を添加した。攪拌した後水層を除去し、有機層を水１００ｍｌで２回洗浄した。１０％塩酸１００ｍｌで２回抽出し、集めた水層を２５％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７〜８に調整した。２０℃で１時間攪拌し、生成した粗結晶を減圧下濾取し、水洗、乾燥した。収量１５．２ｇ、ＨＰＬＣ面積純度９９．７％、収率７０．０％で（化合物II−１）の白色結晶を得た。目的物である（化合物II−１）の構造は1H−ＮＭＲで確認した。
1H−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：溶媒ＣＤＣｌ3 内部標準：ＴＭＳ）
δ ｐｐｍ ７．５（ｍ，５Ｈ）
７．６５（ｄ，２Ｈ）
８．６５（ｄ，２Ｈ）
【００３９】＜比較例１＞＜参考例１＞で得た（化合物Ｉ−３）２ｇ（６．３８ミリモル）をメタノール４ｍｌに溶解し、３１％過酸化水素水１．８ｇ（１６．４ミリモル）添加した。５０℃で３時間反応させた後、酢酸エチル１０ｍｌ、および飽和亜硫酸ナトリウム水溶液１０ｍｌを加え攪拌した後水層を除去した。ＨＰＬＣの内部標準として、ビフェニル１００ｍｇ（０．６４８ミリモル）を有機層に添加し、攪拌、溶解した後ＨＰＬＣで定量したところ、４−フェニルピリジンの収率は４％であった。
【００４０】
【発明の効果】本発明により、写真用添加剤、増感色素、医薬品、有機ＥＬ材料、液晶材料、非線型光学材料等、またはそれらの合成中間体として有用なピリジン化合物を、低コストで環境に配慮した工業的に有利な方法で製造することが可能になった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【化２】
（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
【請求項２】 上記塩基が無機塩基、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシドであることを特徴とする、請求項１記載のピリジン化合物の製造方法。
【請求項３】 一般式（Ｉ）および一般式（II）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5が水素原子である、請求項１または２に記載のピリジン化合物の製造方法。
【請求項１】 少なくとも一種の塩基、および過酸化水素水の存在下において、一般式（Ｉ）で表されるジヒドロピリジン化合物を酸化することを特徴とする、一般式（II）で表されるピリジン化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）
【化１】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌは置換基を有しても良いアルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアリールオキシ基を表す。）
一般式（II）
【化２】
（一般式（II）中、Ｒ1〜Ｒ5は前記と同じ意味をもつ。）
【請求項２】 上記塩基が無機塩基、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシドであることを特徴とする、請求項１記載のピリジン化合物の製造方法。
【請求項３】 一般式（Ｉ）および一般式（II）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5が水素原子である、請求項１または２に記載のピリジン化合物の製造方法。
【公開番号】特開２００２−１０５０５４（Ｐ２００２−１０５０５４Ａ）
【公開日】平成１４年４月１０日（２００２．４．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０００−２９５０７１（Ｐ２０００−２９５０７１）
【出願日】平成１２年９月２７日（２０００．９．２７）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１４年４月１０日（２００２．４．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１２年９月２７日（２０００．９．２７）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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