プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能なプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストは、有機溶媒に溶解されたアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を含み、せん断速度４０００ｓｅｃ−１におけるプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下とする。
【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストは、有機溶媒に溶解されたアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を含み、せん断速度４０００ｓｅｃ−１におけるプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイの製造に用いられる蛍光体ペーストのパターニング方法として、スクリーン印刷法やディスペンサーによる自動塗布法等が利用されており、ディスプレイの高精細化や生産性の問題から、ディスペンサーによる蛍光体のパターニングが検討されている。従来、蛍光体に用いられるバインダー（樹脂）としては、エチルセルロース（ＥＣ）が一般的に用いられてきた。他方、バインダー樹脂としてＥＣを用いた場合、その焼失温度が５００℃程度と高温なため、蛍光体の劣化による輝度の低下が指摘されている。
【０００３】
かかる問題を解決するために、バインダー樹脂を焼失させるための焼失温度を４００℃程度まで下げることが可能なアクリル樹脂を使用した蛍光体ペーストが、提案されている（例えば、特許文献１および２を参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２４５５０号公報
【特許文献２】特開２００１−３２９２５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１および２における蛍光体ペーストでは、蛍光体ペーストを吐出する際に発生するダイスウェル効果について着目しておらず、かかる蛍光体ペーストを利用して、高精細度なパターニングを迅速に行うことができないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能な、新規かつ改良されたプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を含み、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下であるプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストが提供される。
【０００８】
ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である蛍光体ペーストでは、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。
【０００９】
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂として、４１０℃における焼失率が９９％以上である樹脂を使用することが可能である。
【００１０】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下であってもよい。
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、前記放電空間内に形成される蛍光体層と、を備え、前記蛍光体層が上述のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成されるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。これにより、高精細度なプラズマディスプレイパネルの製造に要する時間を削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
本願発明者らは、上記課題を解決するために、まず、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも称する。）の製造に用いられる蛍光体ペーストについて、鋭意研究を行った。その結果、以下のような知見に想到した。以下では、まず図１〜図３を参照しながら、本願発明者らが想到した知見について、詳細に説明する。図１は、プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。図２および図３は、蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【００１５】
プラズマディスプレイパネルの放電空間中に形成される蛍光体層は、例えば図１に示したような、複数の細孔ノズル３を有するディスペンサー１を用いて、所定の蛍光体を含む蛍光体ペーストをパターニングすることで形成される。ここで、ディスペンサーとは、液体定量吐出装置を意味し、液体を精度良く定量供給することが可能な装置である。ディスペンサー１の各細孔ノズル３のノズル径ｄ０と、相隣接するノズル間の距離（ノズルのピッチ）ｄｐとは、製造するプラズマディスプレイパネルの精細度に応じて決定される。
【００１６】
例えば、ＦＨＤ（Ｆｕｌｌ Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）と呼ばれる規格のプラズマディスプレイは、１９２０×１０８０ピクセルのパネルにより構成され、各ピクセルはＲ(赤)，Ｇ(緑)，Ｂ(青)を表示する３種のサブピクセルから構成されている。たとえば５０インチディスプレイの場合には、同じ色を発色するサブピクセル間の距離は、０．５７６ｍｍであり、各サブピクセルの幅は０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍとなる。各サブピクセル間には、２０〜５０μｍ程度の隔壁が存在するため、その空間の幅は１５０μｍ程度となる。このようなプラズマディスプレイパネルを製造するためには、図１に示したディスペンサーのノズル径ｄ０を１００μｍ以下にし、各色の相隣接するノズル間の距離ｄｐを０．５７６ｍｍと設定したうえで、１サブピクセルの大きさが１５０μｍ程度であり、相隣接するピクセル間の距離が０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍ程度である放電空間に対して、精度良く蛍光体ペーストを吐出することが必要となる。
【００１７】
ここで、ある流体をノズルから吐出する場合に、流体の平均流速を＜ｖ＞、ノズルの流路幅をＬとすると、ノズル内で発生する平均せん断速度γは、以下の式１で与えられる。
【００１８】
【数１】
【００１９】
上述のように、高精細パネルに蛍光体ペーストをパターニングするためには、ノズル径ｄ０を１００μｍ以下とすることが好ましいが、仮にノズル径ｄ０を７５μｍ、平均流速を１００ｍｍｓｅｃ−１とすると、式１から得られる平均せん断速度γは、２７００ｓｅｃ−１となる。ここで、平均流速は、ノズルから吐出される流体の速度であり、ノズルの走査速度、ひいては、蛍光体ペーストのパターニングに要する時間を決定するパラメータである。実際の製造工程では、ノズルの平均流速として１００ｍｍｓｅｃ−１程度を担保しなければ、蛍光体ペーストの迅速なパターニングを実行することは困難となる。
【００２０】
このように、ディスペンサーの細孔ノズル（通常１ｍｍφ以下、好ましくは０．１ｍｍφ以下）からペーストが吐出される際には、数千〜数万ｓｅｃ−１という高せん断速度が発生している。
【００２１】
他方、蛍光体ペーストのバインダー樹脂としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を用いた場合には、例えば図２に示したように、ペーストがノズル３から吐出される際に、吐出口の径ｄ０に対して蛍光体ペースト５の吐出径ｄｅが大きく広がる（すなわち、ｄｅ＞ｄ０となる）ダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出ができない。
【００２２】
このダイスウェル効果の発生要因は、以下のように説明することができる。すなわち、粘弾性体が細孔ノズルから吐出される際には、吐出方向（すなわち、粘弾性体の流れ方向）にせん断応力７が働く。更に、粘弾性体では、せん断応力７に対して直交する方向に第１法線応力差（ＮＦ）９と呼ばれる力が働く。この第１法線応力差ＮＦが大きい場合には、細孔ノズル３の出口で第１法線応力差ＮＦによって発生した圧力が開放されるため、粘弾性体が第１法線応力差ＮＦに対して平行な方向に押し広げられる。その結果、粘弾性体の吐出径ｄｅは細孔ノズル３のノズル径ｄ０よりも大きくなり、ダイスウェル効果が発生する。
【００２３】
また、第１法線応力差９は、抵抗成分として働くため、粘弾性体の吐出速度が遅くなり、粘弾性体の迅速なパターニングができないという問題が発生する。
【００２４】
したがって、アクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を蛍光体ペーストのバインダーとして使用した場合には、蛍光体ペーストが吐出される際に、吐出口の径に対してペーストの吐出径が大きく広がるダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出が困難となる。
【００２５】
このような知見を踏まえたうえで、上述の各特許文献について検討する。上述の知見で説明したように、せん断速度１０〜２００ｓｅｃ−１でのレオロジー特性は、実際のディスペンシングの際に発生しているせん断速度とは大きく異なり、ディスペンシングによるパターニングの可否とは関連性がないことがわかった。そのため、上記特許文献１では、せん断速度１０ｓｅｃ−１での粘度が０．５Ｐａ・ｓ〜５０Ｐａ・ｓ（５００ｃＰ〜５００００ｃＰ）の蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、前述のように、ディスペンシング性で問題となるせん断速度は、数千〜数万ｓｅｃ−１の高せん断速度であって、せん断速度１０ｓｅｃ−１の粘度には関連性はないことがわかる。
【００２６】
また、上記特許文献２では、重量平均分子量が３０万〜５００万のアクリル樹脂をバインダーとして用いた蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、アクリル樹脂の分子量は静置状態でのペースト粘度に影響するのであって、吐出時の大きな応力に対する挙動とはなんら関連性がないことがわかった。
【００２７】
他方、近年では、蛍光体ペーストのバインダーとして、溶媒に溶解しないアクリルビーズを用いる試みがなされているが、不溶のビーズ状バインダーでは蛍光体の分散性・安定性に問題が生じる可能性がある。
【００２８】
上述のような知見を元に、本願発明者らが鋭意研究を行った結果、ディスペンシングによるパターニングに適正のある蛍光体ペーストに関連するレオロジーパラメータとして、第１法線応力差ＮＦに着目し、以下で説明するような発明に想到した。
【００２９】
（第１の実施形態）
＜本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて＞
本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を主に含む。
【００３０】
（アクリル樹脂またはメタクリル樹脂について）
ここで、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、後述する蛍光体のバインダーとして用いられる樹脂である。アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を用いることで、ＰＤＰに形成される蛍光体層が、基板に対して優れた接着性と形状の均一性とを有するものとなる。
【００３１】
このようなアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、例えば以下に示すような単量体（モノマー）を、重合または共重合することで得ることが可能である。
【００３２】
本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単量体として、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、フェノキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルリル（メタ）アクリレート等を挙げることが可能である。なお、（メタ）アクリレートという表記は、アクリレートおよびメタクリレートの２つを意味するものであり、例えば、アルキル（メタ）アクリレートとは、アルキルアクリレートと、アルキルメタクリレートの２種類を意味する。
【００３３】
アルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｉ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３４】
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３５】
フェノキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３６】
アルコキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３７】
ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３８】
シクロアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３９】
なお、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の具体例は、あくまでも本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の一例であって、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂が上記の化合物に限定されるわけではない。
【００４０】
また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂として、１種類のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂のみを用いてもよく、２種類以上のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を組み合わせて使用してもよい。
【００４１】
また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、４１０℃での焼失率が９９％以上であることが好ましい。ここで、焼失とは、空気中にて所定の温度で加熱したときに樹脂が解重合等によって分解、消失することであり、消失率は、分解消失した樹脂質量／初期の樹脂質量で表される。４１０度での焼失率が９９％以上であるアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を使用することで、本実施形態に係る蛍光体ペーストを焼成する際に、焼成温度を低く設定することが可能となり、焼成に起因する蛍光体の熱劣化を防ぐことができる。
【００４２】
なお、上述の４１０℃における焼失率は、例えば、示差熱−熱重量同時測定（ＴｈｅｒｍｏＧｒａｖｉｍｅｔｒｙ／Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ＴｈｅｒｍａｌＡｎａｌｙｓｉｓ：ＴＧ／ＤＴＡ）が可能な熱分析計等を用いて測定する。
【００４３】
（有機溶媒について）
本実施形態に係る蛍光体ペーストに用いられる有機溶媒は、上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を溶解する溶液であれば任意のものを使用することが可能である。このような有機溶媒の具体例として、例えば、ターピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）、ブチルカルビトールアセテート（Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌ Ａｃｅｔａｔｅ：ＢＣＡ）、酢酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、３−メトキシ−３−メチルブタノール等から選択される１または２以上の溶媒を用いることが可能である。
【００４４】
（蛍光体について）
上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂には、赤色蛍光体、緑色蛍光体または青色蛍光体のいずれかが蛍光体として添加される。
【００４５】
赤色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような赤色蛍光体の一例として、例えば、ＹＶＯ４：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｅｕ、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｅｕ、Ｚｎ２（ＰＯ４）２：Ｍｎ、ＧｄＢＯ３、ＳｃＢＯ３：Ｅｕ、ＬｕＢＯ３：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ４：Ｅｕ、ＹＢＯ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ（ＹＧＢとも称する。）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）２Ｏ３：Ｅｕ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４６】
緑色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような緑色蛍光体の一例として、例えば、Ｙ３（Ａｌ，Ｇａ）５Ｏ１２：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｍｎ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２２：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ，Ｍｎ、ＳｒＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＺｎＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＣａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＹＢＯ３：Ｔｂ、ＬｕＢＯ３：Ｔｂ、ＧｄＢＯ３：Ｔｂ、ＳｃＢＯ３：Ｔｂ、ＬａＰＯ４：Ｃｅ，Ｔｂ、Ｓｒ４Ｓｉ３Ｏ８Ｃｌ４：Ｅｕ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、ＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、Ｃａ３Ｓｃ２Ｓｉ３Ｏ１２：Ｃｅ、ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４７】
青色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような青色蛍光体の一例として、例えば、ＢａＭｇＡｌｘＯｙ：Ｅｕ（ｘ、ｙは１〜５０の自然数、例えば、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ等）、ＣａＷＯ４：Ｐｂ、ＣａＷＯ４：Ｗ、Ｓｒ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｂａ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ、ＳｒＭｇ（ＳｉＯ４）２：Ｅｕ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｅｕ、ＳｒＣｌ（ＰＯ４）３：Ｅｕ、Ｙ２Ｓｉ５：Ｃｅ、ＣａＭｇＳｉ２Ｏ６：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４８】
なお、上述の蛍光体は、あくまでも一例であって、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストに使用される蛍光体は、上述の例に限定されるわけではない。
【００４９】
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造する方法は、特に制限されるわけではないが、例えば、以下のような方法で製造することが可能である。まず、上述の有機溶媒に、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を５質量％〜２５質量％程度加えて加熱溶解してビヒクルを調整する。次に、調整したビヒクルに対して所定の蛍光体を２５質量％〜５０質量％程度添加して、ボールミル、サンドミル、３本ロールミル等で分散・攪拌させる。このような工程を経ることで、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造することが可能である。
【００５０】
（本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストのレオロジーパラメータについて）
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηという、２種類のレオロジーパラメータについて着目する。
【００５１】
せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、上記式１から明らかなように、５０インチのＦＨＤ−ＰＤＰを製造するために用いられる細孔ノズル径である７５μｍにおいて、１５０ｍｍ／ｓｅｃという高速なノズル走査速度を実現可能な値である。また、せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、細孔ノズル径が５０μｍという、高精細度のＰＤＰを製造可能な微細なノズルにおいて、ノズル走査速度１００ｍｍ／ｓｅｃを実現可能な値である。
【００５２】
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストでは、以下の式２に示したように、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦ［Ｐａ］を、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度η［Ｐａ・ｓ］で除した値Ｙ（＝ＮＦ／η）が４０００以下となる。
【００５３】
【数２】
【００５４】
ここで、上記式２中のせん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηとは、例えば、せん断速度を４０００ｓｅｃ−１に設定したレオメータ等を利用して測定する。
【００５５】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーからＰＤＰ用蛍光体ペーストを吐出した際の吐出径をｄｅとした場合に、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、上記式２の条件を満たすことで、吐出径ｄｅと細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０（以下、この比を、Ｓｗｅｌｌ比とも称する。）が１．４以下となり、ディスペンサーによる蛍光体ペーストの塗布が可能となる。
【００５６】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの構成について＞
次に、図４〜図６を参照しながら、本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略記する。）について、詳細に説明する。図４は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。また、図５は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＡ−Ａ切断線で切断した拡大断面図であり、図６は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＢ−Ｂ切断線で切断した拡大断面図である。なお、以下では、各図中に示した座標軸を用いながら、説明することとする。
【００５７】
図４は、本実施形態に係るＰＤＰ１０を、第２の基板である前面基板１０７の上方から見下ろした場合の部分平面図である。ＰＤＰ１０は、略格子形状の隔壁１１５によって、複数の放電空間１１７に区画される。これらの放電空間１１７は、図４のｘ軸方向およびｙ軸方向に沿って、配列している。また、隔壁１１５の上側（図４のｚ軸正方向側）には、第２の電極であるバス電極１０９および透明電極１１１と、第２誘電体層１１３とが設けられる。ここで、バス電極１０９は、図４のｘ軸方向に沿って設けられている。
【００５８】
隔壁１１５の下側（図４のｚ軸負方向側）には、第１の電極であるアドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５とが設けられ、これらの更に下方には、第１の基板である背面基板１０１が設けられる。ここで、アドレス電極１０３は、図４のｙ軸方向に沿って設けられている。
【００５９】
なお、図４に示したように、本実施形態に係るＰＤＰ１０では、放電空間１１７の形状が略直方体である場合を用いて詳細な説明するが、放電空間１１７の形状は略直方体に限定されるわけではなく、立方体でもよく、また、球形、楕円形状、または多面体形状であってもよい。
【００６０】
図５は、ＰＤＰ１０を図４のＡ−Ａ切断線で切断した場合における拡大断面図である。図５から明らかなように、ＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１と、アドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５と、前面基板１０７と、バス電極１０９と、透明電極１１１と、第２誘電体層１１３と、隔壁１１５と、を主に備える。
【００６１】
第１の基板である背面基板１０１と、第２の基板である前面基板１０７とは、所定の大きさを有する基板であり、例えばソーダライムガラス等のガラスを材料として用いることが可能である。背面基板１０１および前面基板１０７の大きさは、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えるプラズマディスプレイの画面の大きさに応じて、変更することが可能である。この背面基板１０１および前面基板１０７の表面に、例えばＳｉＯ２などの物質をコーティングしておき、背面基板１０１および前面基板１０７の絶縁性を担保するようにしてもよい。背面基板１０１や前面基板１０７の厚みを薄くすることで、ＰＤＰ１０の薄型化を図ることが可能であり、製造するＰＤＰの厚みに応じて、これらの基板の厚みを変更することが可能である。これらの背面基板１０１と前面基板１０７とは、所定の空間を介して互いに対向するように設けられる。
【００６２】
第１の電極であるアドレス電極１０３は、後述するバス電極１０９および透明電極１１１と同様に、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるために使用される電極である。このアドレス電極１０３は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能である。アドレス電極１０３は、背面基板１０１の前面基板１０７側の表面（図５のｚ軸正方向側の表面）に、ｙ軸方向に沿って形成される。この際、アドレス電極１０３自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、アドレス電極１０３は、第１誘電体層１０５によって、表面が覆われる。なお、この第１誘電体層１０５は、ＳｉＯ２等を用いて反射型誘電体層として形成することが可能である。また、第１誘電体層１０５の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第１誘電体層１０５をプラズマによる第１誘電体層１０５のスパッタリングから保護してもよい。この保護層は、放電空間１１７内で発生するプラズマによって誘電体等がスパッタリングされることを保護するためのものである。
【００６３】
なお、アドレス電極１０３は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。
【００６４】
第２の電極であるバス電極１０９と、バス電極１０９と電気的に接続される透明電極１１１とは、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるためにアドレス電極１０３とともに使用される電極である。バス電極１０９は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能であり、透明電極１１１は、例えばインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）等を用いて形成することが可能である。バス電極１０９は、前面基板１０７の背面基板１０１側の表面（図５のｚ軸負方向側の表面）に、ｘ軸方向に沿って形成される。この際、バス電極１０９および透明電極１１１についても、電極自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、バス電極１０９および透明電極１１１は、第２誘電体層１１３によって、表面が覆われる。なお、第２誘電体層１１３は、ＳｉＯ２等を用いて形成することが可能である。また、第２誘電体層１１３の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第２誘電体層１１３をプラズマによる第２誘電体層１１３のスパッタリングから保護してもよい。
【００６５】
なお、バス電極１０９および透明電極１１１は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて、形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。
【００６６】
隔壁１１５は、所定の間隔を有するように配置された背面基板１０１および前面基板１０７によって生じる空間を、所定の広さを有する複数の放電空間１１７に区画する役割を果たすものである。すなわち、放電空間１１７は、背面基板１０１と、前面基板１０７と、隔壁１１５とによって定義される空間である。隔壁１１５は、例えば図２に示したように格子状に設けられるので、放電空間１１７は、図５に示したように、上下（ｚ軸方向）に沿って設けられる背面基板１０１および前面基板１０７と、左右（ｙ軸方向）に沿って配設される２つの隔壁１１５とによって区画される。
【００６７】
図６に示したように、隔壁１１５の断面形状は、例えば、テーパ形状となっている。図６においては、隔壁１１５の断面形状はテーパ形状であるが、本発明に係る隔壁１１５の断面形状は図中の形状に限定されるわけではなく、広い放電空間１１７を確保できる形状であれば、様々な形状を有することができ、例えば断面が略長方形となっていてもよい。
【００６８】
背面基板１０１、前面基板１０７および隔壁１１５により区画される各放電空間１１７は、当該放電空間１１７内に形成される蛍光体層の発光色に応じて、赤色領域１１９、緑色領域１２１および青色領域１２３（以下、それぞれＲ領域１１９、Ｇ領域１２１およびＢ領域１２３と略記する。）に大別される。Ｒ領域１１９には、赤色蛍光体を用いた蛍光体層１２５（以下、Ｒ蛍光体層１２５と略記する。）が形成され、Ｇ領域１２１には、緑色発光体を用いた蛍光体層１２７（以下、Ｇ蛍光体層１２７と略記する。）が形成され、Ｂ領域１２３には、青色蛍光体を用いた蛍光体層１２９（以下、Ｂ蛍光体層１２９と略記する。）が形成される。
【００６９】
図５および図６に示したように、アドレス電極１０３方向（すなわち、ｙ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、同一の発光が生じる放電空間であり、バス電極１０９方向（すなわち、ｘ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、それぞれ異なる色の発光が生じる放電空間となる。
【００７０】
このような蛍光体層１２５，１２７，１２９は、放電空間１１７内であって、放電経路ではない場所であれば、どこに設けられていても構わない。また、蛍光体層を、蛍光体層からの発光が透過していく基板である前面基板１０７に設ける場合には、透過率を低下させないために、蛍光体層の厚みを薄くすることが好ましい。また、蛍光体層は、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用し、ディスペンサーによって形成することが可能である。
【００７１】
Ｒ蛍光体層１２５は、例えば、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する赤色蛍光体により形成される。Ｇ蛍光体層１２７は、例えば、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する緑色蛍光体により形成される。Ｂ蛍光体層１２９は、例えば、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する青色蛍光体により形成される。
【００７２】
また、放電空間１１７は真空状態ではなく、例えば、Ｘｅが主放電ガスであるＮｅ−Ｘｅガスなどが封じ込められている。放電ガスにおけるＸｅの分圧は、例えば放電ガス全体のガス圧に対して、例えば１０〜３０％程度とすることが可能である。
【００７３】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの動作について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰ１０の動作について説明する。アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に、放電開始電圧よりも大きな交流電圧が印加されると、各電極に印加される電圧の極性が変化するたびに、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に放電経路が形成され、この放電経路中に存在する放電ガス中にプラズマ放電が発生して、紫外線が放電空間１１７中に放射されることとなる。放電空間１１７中に放射された紫外線は、蛍光体層中の蛍光体に当たり、この紫外線が有するエネルギーにより、蛍光体が発光する。蛍光体からの発光は、例えば前面基板１０７を透過して、ＰＤＰ１０の外部へと進むこととなる。
【００７４】
なお、本実施形態に係るＰＤＰ１０に、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１を制御するドライブ回路や、その他の装置を接続することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えたプラズマディスプレイを製造することが可能である。ＰＤＰを備えたプラズマディスプレイを製造する方法については、公知のあらゆる方法を適用することが可能である。
【００７５】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰの製造方法について、詳細に説明する。本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、以下に示す段階を経て製造することが可能である。
【００７６】
すなわち、本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階と、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階と、隔壁形成層を焼成する段階と、隔壁形状を形成する段階と、隔壁形状により区画された放電空間内に、本実施形態に係る蛍光体ペーストを用いて各蛍光体層を形成する段階と、バス電極１０９および透明電極１１１ならびに第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を配設する段階と、を経て製造することが可能である。
【００７７】
背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階は、背面基板１０１として利用するガラス基板上に、所定の方法でアドレス電極１０３を形成した後に、電極取り出し部以外の場所に第１誘電体層１０５として反射型誘電体層を形成する段階である。
【００７８】
第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階は、上述のフィラーを含むガラス材料を使用して、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階である。
【００７９】
隔壁形成層を焼成する段階は、形成した隔壁形成層を、同時に焼成する段階である。続いて行われる隔壁形状を形成する段階は、焼成後の隔壁形成層にドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ Ｆｉｌｍ Ｒｅｓｉｓｔ：ＤＦＲ）等のレジスト層を形成する段階と、レジスト層を隔壁の形成パターンにあわせて露光・現像する段階と、焼成後の隔壁形成層を加工する段階と、残存しているレジスト層を除去する段階と、を含む。
【００８０】
かかる段階を経ることで、隔壁１１５が形成された背面基板１０１を製造することができる。
【００８１】
隔壁１１５が形成された後に、隔壁１１５により区画された放電空間内に、各色に対応する蛍光体層を、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用して、ディスペンサーにより形成する。
【００８２】
他方、前面基板１０７として利用されるガラス基板に対して、ＩＴＯなどを用いて透明電極１１１を形成した後に、印刷法等を用いてバス電極１０９を形成することで、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１を形成することが可能である。その後、バス電極１０９および透明電極１１１上に第２誘電体層１１３を形成することで、バス電極１０９、透明電極１１１および第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を製造することができる。また、第２誘電体層１１３を形成した後に、誘電体層を保護する保護膜としてＭｇＯ等を成膜してもよい。
【００８３】
上述のような方法で形成された前面基板１０７を隔壁１１５上に配設することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を製造することができる。その後、放電空間内を脱気した上で所定の放電ガスを注入し、放電空間を封着する段階を行う。
【００８４】
ここで、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を形成する段階と、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１と第２誘電体層１１３を形成する段階とは、任意の順に行うことが可能であり、上記２つの段階を並行して行うことも可能である。
【実施例】
【００８５】
続いて、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて、実施例を示しながら詳細に説明する。なお、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストが、下記の実施例に限定されるわけではない。
【００８６】
（実施例および比較例で使用した樹脂について）
以下に示す実施例１〜８では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１〜８（三菱レイヨン社製ダイヤナールＬＰ）を使用して、各実施例１〜８に係る蛍光体ペーストを製造した。比較例１では、エチルセルロースをバインダー樹脂として使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例２〜４では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂９〜１１（三菱レイヨン社製ダイヤナールＨＲ）を使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例５〜７では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１２〜１４（三菱レイヨン社製ダイヤナールＢＲ）を使用して、蛍光体ペーストを製造した。
【００８７】
（焼失率の測定）
以下に示す実施例および比較例では、上述の樹脂を、セイコーインスツルメント社製熱分析計６０００ＴＧ／ＤＴＡを用いて測定し、４１０℃での焼失率を測定した。
【００８８】
（蛍光体ペーストの製造）
以下に示す実施例および比較例では、有機溶媒であるターピネオール４４．５ｇに、上述の樹脂５．５ｇを加熱溶解させてビヒクルを調整した後、蛍光体として、青色蛍光体であるＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ、ＢＡＭ）を３３．３ｇ添加した。蛍光体が添加されたビヒクルを３本ミルで混練して、それぞれの実施例および比較例における青色蛍光体ペーストを調整した。
【００８９】
（第１法線応力差および粘度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストの第１法線応力差および粘度は、アントンパール社製ＭＣＲ３００レオメータに２５ｍｍφ、０．５°のコーンプレートを装着して測定した。なお、測定時の温度は、２３℃であり、せん断速度は０．１〜１００００ｓｅｃ−１に設定し、この範囲の粘度とＮＦを測定した。
【００９０】
（Ｓｗｅｌｌ比の測定）
吐出圧が０．４ＭＰａに設定された細孔ノズル径が７５μｍであるディスペンサーを用いて、上述の方法で製造した蛍光体ペーストを吐出して、吐出径をＣＣＤカメラにて計測し、Ｓｗｅｌｌ比を算出した。
【００９１】
（ノズルの走査速度および発光強度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストを、マルチノズルディスペンサー（ノズルの間隔０．５７６ｍｍ）を用いて隔壁間隔（なお、ここでいう隔壁間隔とは、ディスプレイのサブピクセルの空間部分をいい、蛍光体ペーストが充填される空間部分の間隔を表す。）が１５０μｍの基板に塗布・パターニングを行った。このとき、隔壁上部とノズルヘッドとのギャップは１８０μｍとし、隔壁中に蛍光体ペーストが適切に塗布される状態になるときのノズルの走査速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を計測した。また、得られた蛍光体入りパネルを４１０℃あるいは５００℃焼成した後、中心波長１７２ｎｍのエキシマーランプで励起して、その発光強度を測定した。
【００９２】
上述の方法で測定した各測定値を、以下の表１に示す。
【００９３】
【表１】
【００９４】
まず、表１の「ノズルの最適な走査速度」の欄に着目する。ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、１００ｍｍ／ｓｅｃ近傍の値となり、迅速なパターニングを実行可能であることがわかった。また、ＮＦ／ηの値が４０００超過となった比較例２〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、非常に低い値となっており、迅速なパターニングは実行できないことがわかった。
【００９５】
次に、表１の「Ｓｗｅｌｌ比」の欄に着目すると、ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となり、ダイスウェル効果が抑制されていることがわかった。また、比較例２〜８において、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となった場合も存在したが、このような値を示した蛍光体ペーストでは、ノズルの最適な走査速度が極端に小さな値となっており、高精細度かつ迅速なパターニングが実行できないことがわかった。
【００９６】
続いて、表１の「相対輝度」の欄に着目すると、焼成温度が４１０℃である実施例１〜８および比較例２〜７では、相対輝度が１００近傍の値となったが、焼成温度が５００°であるエチルセルロースを用いた比較例１では、相対輝度の値が６８となった。これは、高い焼成温度により、蛍光体の熱劣化が発生したことに起因する。
【００９７】
なお、表１の「分子量」および「１０ｓｅｃ−１における粘度η」の欄から明らかなように、ノズルの最適な走査速度の値は、樹脂の分子量や、１０ｓｅｃ−１における粘度ηには依存しないことがわかった。
【００９８】
以上説明したように、一定条件を満たすレオロジー特性を有する低温焼失（メタ）アクリル樹脂を用いた蛍光体ペーストを用いることにより、省エネルギーの生産工程となり、また焼成による蛍光体の輝度劣化を防止し、安価で、高効率なプラズマディスプレイパネルを製造することが可能となる。
【００９９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１００】
例えば、上述した実施形態においては、プラズマディスプレイがアドレス電極とバス電極の２種類の電極を有する２電極構造である場合について説明したが、本発明に係るプラズマディスプレイの電極の種類は上述の場合に限定されるわけではなく、例えば３種類以上の電極を有する３電極構造であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。
【図２】蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【図３】蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。
【図５】同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図６】同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１ ディスペンサー
３ 細孔ノズル
５ 蛍光体ペースト
７ せん断応力
９ 第１法線応力差
１０ プラズマディスプレイパネル
１０１ 背面基板
１０３ アドレス電極
１０５ 第１誘電体層
１０７ 前面基板
１０９ バス電極
１１１ 透明電極
１１３ 第２誘電体層
１１５ 隔壁
１１７ 放電空間
１１９ Ｒ領域
１２１ Ｇ領域
１２３ Ｂ領域
１２５ Ｒ蛍光体層
１２７ Ｇ蛍光体層
１２９ Ｂ蛍光体層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイの製造に用いられる蛍光体ペーストのパターニング方法として、スクリーン印刷法やディスペンサーによる自動塗布法等が利用されており、ディスプレイの高精細化や生産性の問題から、ディスペンサーによる蛍光体のパターニングが検討されている。従来、蛍光体に用いられるバインダー（樹脂）としては、エチルセルロース（ＥＣ）が一般的に用いられてきた。他方、バインダー樹脂としてＥＣを用いた場合、その焼失温度が５００℃程度と高温なため、蛍光体の劣化による輝度の低下が指摘されている。
【０００３】
かかる問題を解決するために、バインダー樹脂を焼失させるための焼失温度を４００℃程度まで下げることが可能なアクリル樹脂を使用した蛍光体ペーストが、提案されている（例えば、特許文献１および２を参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２４５５０号公報
【特許文献２】特開２００１−３２９２５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１および２における蛍光体ペーストでは、蛍光体ペーストを吐出する際に発生するダイスウェル効果について着目しておらず、かかる蛍光体ペーストを利用して、高精細度なパターニングを迅速に行うことができないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能な、新規かつ改良されたプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を含み、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下であるプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストが提供される。
【０００８】
ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である蛍光体ペーストでは、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。
【０００９】
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂として、４１０℃における焼失率が９９％以上である樹脂を使用することが可能である。
【００１０】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下であってもよい。
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、前記放電空間内に形成される蛍光体層と、を備え、前記蛍光体層が上述のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成されるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。これにより、高精細度なプラズマディスプレイパネルの製造に要する時間を削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
本願発明者らは、上記課題を解決するために、まず、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも称する。）の製造に用いられる蛍光体ペーストについて、鋭意研究を行った。その結果、以下のような知見に想到した。以下では、まず図１〜図３を参照しながら、本願発明者らが想到した知見について、詳細に説明する。図１は、プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。図２および図３は、蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【００１５】
プラズマディスプレイパネルの放電空間中に形成される蛍光体層は、例えば図１に示したような、複数の細孔ノズル３を有するディスペンサー１を用いて、所定の蛍光体を含む蛍光体ペーストをパターニングすることで形成される。ここで、ディスペンサーとは、液体定量吐出装置を意味し、液体を精度良く定量供給することが可能な装置である。ディスペンサー１の各細孔ノズル３のノズル径ｄ０と、相隣接するノズル間の距離（ノズルのピッチ）ｄｐとは、製造するプラズマディスプレイパネルの精細度に応じて決定される。
【００１６】
例えば、ＦＨＤ（Ｆｕｌｌ Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）と呼ばれる規格のプラズマディスプレイは、１９２０×１０８０ピクセルのパネルにより構成され、各ピクセルはＲ(赤)，Ｇ(緑)，Ｂ(青)を表示する３種のサブピクセルから構成されている。たとえば５０インチディスプレイの場合には、同じ色を発色するサブピクセル間の距離は、０．５７６ｍｍであり、各サブピクセルの幅は０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍとなる。各サブピクセル間には、２０〜５０μｍ程度の隔壁が存在するため、その空間の幅は１５０μｍ程度となる。このようなプラズマディスプレイパネルを製造するためには、図１に示したディスペンサーのノズル径ｄ０を１００μｍ以下にし、各色の相隣接するノズル間の距離ｄｐを０．５７６ｍｍと設定したうえで、１サブピクセルの大きさが１５０μｍ程度であり、相隣接するピクセル間の距離が０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍ程度である放電空間に対して、精度良く蛍光体ペーストを吐出することが必要となる。
【００１７】
ここで、ある流体をノズルから吐出する場合に、流体の平均流速を＜ｖ＞、ノズルの流路幅をＬとすると、ノズル内で発生する平均せん断速度γは、以下の式１で与えられる。
【００１８】
【数１】
【００１９】
上述のように、高精細パネルに蛍光体ペーストをパターニングするためには、ノズル径ｄ０を１００μｍ以下とすることが好ましいが、仮にノズル径ｄ０を７５μｍ、平均流速を１００ｍｍｓｅｃ−１とすると、式１から得られる平均せん断速度γは、２７００ｓｅｃ−１となる。ここで、平均流速は、ノズルから吐出される流体の速度であり、ノズルの走査速度、ひいては、蛍光体ペーストのパターニングに要する時間を決定するパラメータである。実際の製造工程では、ノズルの平均流速として１００ｍｍｓｅｃ−１程度を担保しなければ、蛍光体ペーストの迅速なパターニングを実行することは困難となる。
【００２０】
このように、ディスペンサーの細孔ノズル（通常１ｍｍφ以下、好ましくは０．１ｍｍφ以下）からペーストが吐出される際には、数千〜数万ｓｅｃ−１という高せん断速度が発生している。
【００２１】
他方、蛍光体ペーストのバインダー樹脂としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を用いた場合には、例えば図２に示したように、ペーストがノズル３から吐出される際に、吐出口の径ｄ０に対して蛍光体ペースト５の吐出径ｄｅが大きく広がる（すなわち、ｄｅ＞ｄ０となる）ダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出ができない。
【００２２】
このダイスウェル効果の発生要因は、以下のように説明することができる。すなわち、粘弾性体が細孔ノズルから吐出される際には、吐出方向（すなわち、粘弾性体の流れ方向）にせん断応力７が働く。更に、粘弾性体では、せん断応力７に対して直交する方向に第１法線応力差（ＮＦ）９と呼ばれる力が働く。この第１法線応力差ＮＦが大きい場合には、細孔ノズル３の出口で第１法線応力差ＮＦによって発生した圧力が開放されるため、粘弾性体が第１法線応力差ＮＦに対して平行な方向に押し広げられる。その結果、粘弾性体の吐出径ｄｅは細孔ノズル３のノズル径ｄ０よりも大きくなり、ダイスウェル効果が発生する。
【００２３】
また、第１法線応力差９は、抵抗成分として働くため、粘弾性体の吐出速度が遅くなり、粘弾性体の迅速なパターニングができないという問題が発生する。
【００２４】
したがって、アクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を蛍光体ペーストのバインダーとして使用した場合には、蛍光体ペーストが吐出される際に、吐出口の径に対してペーストの吐出径が大きく広がるダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出が困難となる。
【００２５】
このような知見を踏まえたうえで、上述の各特許文献について検討する。上述の知見で説明したように、せん断速度１０〜２００ｓｅｃ−１でのレオロジー特性は、実際のディスペンシングの際に発生しているせん断速度とは大きく異なり、ディスペンシングによるパターニングの可否とは関連性がないことがわかった。そのため、上記特許文献１では、せん断速度１０ｓｅｃ−１での粘度が０．５Ｐａ・ｓ〜５０Ｐａ・ｓ（５００ｃＰ〜５００００ｃＰ）の蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、前述のように、ディスペンシング性で問題となるせん断速度は、数千〜数万ｓｅｃ−１の高せん断速度であって、せん断速度１０ｓｅｃ−１の粘度には関連性はないことがわかる。
【００２６】
また、上記特許文献２では、重量平均分子量が３０万〜５００万のアクリル樹脂をバインダーとして用いた蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、アクリル樹脂の分子量は静置状態でのペースト粘度に影響するのであって、吐出時の大きな応力に対する挙動とはなんら関連性がないことがわかった。
【００２７】
他方、近年では、蛍光体ペーストのバインダーとして、溶媒に溶解しないアクリルビーズを用いる試みがなされているが、不溶のビーズ状バインダーでは蛍光体の分散性・安定性に問題が生じる可能性がある。
【００２８】
上述のような知見を元に、本願発明者らが鋭意研究を行った結果、ディスペンシングによるパターニングに適正のある蛍光体ペーストに関連するレオロジーパラメータとして、第１法線応力差ＮＦに着目し、以下で説明するような発明に想到した。
【００２９】
（第１の実施形態）
＜本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて＞
本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を主に含む。
【００３０】
（アクリル樹脂またはメタクリル樹脂について）
ここで、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、後述する蛍光体のバインダーとして用いられる樹脂である。アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を用いることで、ＰＤＰに形成される蛍光体層が、基板に対して優れた接着性と形状の均一性とを有するものとなる。
【００３１】
このようなアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、例えば以下に示すような単量体（モノマー）を、重合または共重合することで得ることが可能である。
【００３２】
本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単量体として、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、フェノキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルリル（メタ）アクリレート等を挙げることが可能である。なお、（メタ）アクリレートという表記は、アクリレートおよびメタクリレートの２つを意味するものであり、例えば、アルキル（メタ）アクリレートとは、アルキルアクリレートと、アルキルメタクリレートの２種類を意味する。
【００３３】
アルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｉ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３４】
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３５】
フェノキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３６】
アルコキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３７】
ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３８】
シクロアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００３９】
なお、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の具体例は、あくまでも本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の一例であって、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂が上記の化合物に限定されるわけではない。
【００４０】
また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂として、１種類のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂のみを用いてもよく、２種類以上のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を組み合わせて使用してもよい。
【００４１】
また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、４１０℃での焼失率が９９％以上であることが好ましい。ここで、焼失とは、空気中にて所定の温度で加熱したときに樹脂が解重合等によって分解、消失することであり、消失率は、分解消失した樹脂質量／初期の樹脂質量で表される。４１０度での焼失率が９９％以上であるアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を使用することで、本実施形態に係る蛍光体ペーストを焼成する際に、焼成温度を低く設定することが可能となり、焼成に起因する蛍光体の熱劣化を防ぐことができる。
【００４２】
なお、上述の４１０℃における焼失率は、例えば、示差熱−熱重量同時測定（ＴｈｅｒｍｏＧｒａｖｉｍｅｔｒｙ／Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ＴｈｅｒｍａｌＡｎａｌｙｓｉｓ：ＴＧ／ＤＴＡ）が可能な熱分析計等を用いて測定する。
【００４３】
（有機溶媒について）
本実施形態に係る蛍光体ペーストに用いられる有機溶媒は、上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を溶解する溶液であれば任意のものを使用することが可能である。このような有機溶媒の具体例として、例えば、ターピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）、ブチルカルビトールアセテート（Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌ Ａｃｅｔａｔｅ：ＢＣＡ）、酢酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、３−メトキシ−３−メチルブタノール等から選択される１または２以上の溶媒を用いることが可能である。
【００４４】
（蛍光体について）
上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂には、赤色蛍光体、緑色蛍光体または青色蛍光体のいずれかが蛍光体として添加される。
【００４５】
赤色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような赤色蛍光体の一例として、例えば、ＹＶＯ４：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｅｕ、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｅｕ、Ｚｎ２（ＰＯ４）２：Ｍｎ、ＧｄＢＯ３、ＳｃＢＯ３：Ｅｕ、ＬｕＢＯ３：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ４：Ｅｕ、ＹＢＯ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ（ＹＧＢとも称する。）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）２Ｏ３：Ｅｕ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４６】
緑色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような緑色蛍光体の一例として、例えば、Ｙ３（Ａｌ，Ｇａ）５Ｏ１２：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｍｎ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２２：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ，Ｍｎ、ＳｒＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＺｎＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＣａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＹＢＯ３：Ｔｂ、ＬｕＢＯ３：Ｔｂ、ＧｄＢＯ３：Ｔｂ、ＳｃＢＯ３：Ｔｂ、ＬａＰＯ４：Ｃｅ，Ｔｂ、Ｓｒ４Ｓｉ３Ｏ８Ｃｌ４：Ｅｕ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、ＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、Ｃａ３Ｓｃ２Ｓｉ３Ｏ１２：Ｃｅ、ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４７】
青色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような青色蛍光体の一例として、例えば、ＢａＭｇＡｌｘＯｙ：Ｅｕ（ｘ、ｙは１〜５０の自然数、例えば、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ等）、ＣａＷＯ４：Ｐｂ、ＣａＷＯ４：Ｗ、Ｓｒ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｂａ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ、ＳｒＭｇ（ＳｉＯ４）２：Ｅｕ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｅｕ、ＳｒＣｌ（ＰＯ４）３：Ｅｕ、Ｙ２Ｓｉ５：Ｃｅ、ＣａＭｇＳｉ２Ｏ６：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００４８】
なお、上述の蛍光体は、あくまでも一例であって、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストに使用される蛍光体は、上述の例に限定されるわけではない。
【００４９】
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造する方法は、特に制限されるわけではないが、例えば、以下のような方法で製造することが可能である。まず、上述の有機溶媒に、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を５質量％〜２５質量％程度加えて加熱溶解してビヒクルを調整する。次に、調整したビヒクルに対して所定の蛍光体を２５質量％〜５０質量％程度添加して、ボールミル、サンドミル、３本ロールミル等で分散・攪拌させる。このような工程を経ることで、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造することが可能である。
【００５０】
（本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストのレオロジーパラメータについて）
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηという、２種類のレオロジーパラメータについて着目する。
【００５１】
せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、上記式１から明らかなように、５０インチのＦＨＤ−ＰＤＰを製造するために用いられる細孔ノズル径である７５μｍにおいて、１５０ｍｍ／ｓｅｃという高速なノズル走査速度を実現可能な値である。また、せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、細孔ノズル径が５０μｍという、高精細度のＰＤＰを製造可能な微細なノズルにおいて、ノズル走査速度１００ｍｍ／ｓｅｃを実現可能な値である。
【００５２】
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストでは、以下の式２に示したように、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦ［Ｐａ］を、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度η［Ｐａ・ｓ］で除した値Ｙ（＝ＮＦ／η）が４０００以下となる。
【００５３】
【数２】
【００５４】
ここで、上記式２中のせん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηとは、例えば、せん断速度を４０００ｓｅｃ−１に設定したレオメータ等を利用して測定する。
【００５５】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーからＰＤＰ用蛍光体ペーストを吐出した際の吐出径をｄｅとした場合に、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、上記式２の条件を満たすことで、吐出径ｄｅと細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０（以下、この比を、Ｓｗｅｌｌ比とも称する。）が１．４以下となり、ディスペンサーによる蛍光体ペーストの塗布が可能となる。
【００５６】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの構成について＞
次に、図４〜図６を参照しながら、本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略記する。）について、詳細に説明する。図４は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。また、図５は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＡ−Ａ切断線で切断した拡大断面図であり、図６は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＢ−Ｂ切断線で切断した拡大断面図である。なお、以下では、各図中に示した座標軸を用いながら、説明することとする。
【００５７】
図４は、本実施形態に係るＰＤＰ１０を、第２の基板である前面基板１０７の上方から見下ろした場合の部分平面図である。ＰＤＰ１０は、略格子形状の隔壁１１５によって、複数の放電空間１１７に区画される。これらの放電空間１１７は、図４のｘ軸方向およびｙ軸方向に沿って、配列している。また、隔壁１１５の上側（図４のｚ軸正方向側）には、第２の電極であるバス電極１０９および透明電極１１１と、第２誘電体層１１３とが設けられる。ここで、バス電極１０９は、図４のｘ軸方向に沿って設けられている。
【００５８】
隔壁１１５の下側（図４のｚ軸負方向側）には、第１の電極であるアドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５とが設けられ、これらの更に下方には、第１の基板である背面基板１０１が設けられる。ここで、アドレス電極１０３は、図４のｙ軸方向に沿って設けられている。
【００５９】
なお、図４に示したように、本実施形態に係るＰＤＰ１０では、放電空間１１７の形状が略直方体である場合を用いて詳細な説明するが、放電空間１１７の形状は略直方体に限定されるわけではなく、立方体でもよく、また、球形、楕円形状、または多面体形状であってもよい。
【００６０】
図５は、ＰＤＰ１０を図４のＡ−Ａ切断線で切断した場合における拡大断面図である。図５から明らかなように、ＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１と、アドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５と、前面基板１０７と、バス電極１０９と、透明電極１１１と、第２誘電体層１１３と、隔壁１１５と、を主に備える。
【００６１】
第１の基板である背面基板１０１と、第２の基板である前面基板１０７とは、所定の大きさを有する基板であり、例えばソーダライムガラス等のガラスを材料として用いることが可能である。背面基板１０１および前面基板１０７の大きさは、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えるプラズマディスプレイの画面の大きさに応じて、変更することが可能である。この背面基板１０１および前面基板１０７の表面に、例えばＳｉＯ２などの物質をコーティングしておき、背面基板１０１および前面基板１０７の絶縁性を担保するようにしてもよい。背面基板１０１や前面基板１０７の厚みを薄くすることで、ＰＤＰ１０の薄型化を図ることが可能であり、製造するＰＤＰの厚みに応じて、これらの基板の厚みを変更することが可能である。これらの背面基板１０１と前面基板１０７とは、所定の空間を介して互いに対向するように設けられる。
【００６２】
第１の電極であるアドレス電極１０３は、後述するバス電極１０９および透明電極１１１と同様に、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるために使用される電極である。このアドレス電極１０３は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能である。アドレス電極１０３は、背面基板１０１の前面基板１０７側の表面（図５のｚ軸正方向側の表面）に、ｙ軸方向に沿って形成される。この際、アドレス電極１０３自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、アドレス電極１０３は、第１誘電体層１０５によって、表面が覆われる。なお、この第１誘電体層１０５は、ＳｉＯ２等を用いて反射型誘電体層として形成することが可能である。また、第１誘電体層１０５の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第１誘電体層１０５をプラズマによる第１誘電体層１０５のスパッタリングから保護してもよい。この保護層は、放電空間１１７内で発生するプラズマによって誘電体等がスパッタリングされることを保護するためのものである。
【００６３】
なお、アドレス電極１０３は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。
【００６４】
第２の電極であるバス電極１０９と、バス電極１０９と電気的に接続される透明電極１１１とは、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるためにアドレス電極１０３とともに使用される電極である。バス電極１０９は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能であり、透明電極１１１は、例えばインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）等を用いて形成することが可能である。バス電極１０９は、前面基板１０７の背面基板１０１側の表面（図５のｚ軸負方向側の表面）に、ｘ軸方向に沿って形成される。この際、バス電極１０９および透明電極１１１についても、電極自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、バス電極１０９および透明電極１１１は、第２誘電体層１１３によって、表面が覆われる。なお、第２誘電体層１１３は、ＳｉＯ２等を用いて形成することが可能である。また、第２誘電体層１１３の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第２誘電体層１１３をプラズマによる第２誘電体層１１３のスパッタリングから保護してもよい。
【００６５】
なお、バス電極１０９および透明電極１１１は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて、形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。
【００６６】
隔壁１１５は、所定の間隔を有するように配置された背面基板１０１および前面基板１０７によって生じる空間を、所定の広さを有する複数の放電空間１１７に区画する役割を果たすものである。すなわち、放電空間１１７は、背面基板１０１と、前面基板１０７と、隔壁１１５とによって定義される空間である。隔壁１１５は、例えば図２に示したように格子状に設けられるので、放電空間１１７は、図５に示したように、上下（ｚ軸方向）に沿って設けられる背面基板１０１および前面基板１０７と、左右（ｙ軸方向）に沿って配設される２つの隔壁１１５とによって区画される。
【００６７】
図６に示したように、隔壁１１５の断面形状は、例えば、テーパ形状となっている。図６においては、隔壁１１５の断面形状はテーパ形状であるが、本発明に係る隔壁１１５の断面形状は図中の形状に限定されるわけではなく、広い放電空間１１７を確保できる形状であれば、様々な形状を有することができ、例えば断面が略長方形となっていてもよい。
【００６８】
背面基板１０１、前面基板１０７および隔壁１１５により区画される各放電空間１１７は、当該放電空間１１７内に形成される蛍光体層の発光色に応じて、赤色領域１１９、緑色領域１２１および青色領域１２３（以下、それぞれＲ領域１１９、Ｇ領域１２１およびＢ領域１２３と略記する。）に大別される。Ｒ領域１１９には、赤色蛍光体を用いた蛍光体層１２５（以下、Ｒ蛍光体層１２５と略記する。）が形成され、Ｇ領域１２１には、緑色発光体を用いた蛍光体層１２７（以下、Ｇ蛍光体層１２７と略記する。）が形成され、Ｂ領域１２３には、青色蛍光体を用いた蛍光体層１２９（以下、Ｂ蛍光体層１２９と略記する。）が形成される。
【００６９】
図５および図６に示したように、アドレス電極１０３方向（すなわち、ｙ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、同一の発光が生じる放電空間であり、バス電極１０９方向（すなわち、ｘ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、それぞれ異なる色の発光が生じる放電空間となる。
【００７０】
このような蛍光体層１２５，１２７，１２９は、放電空間１１７内であって、放電経路ではない場所であれば、どこに設けられていても構わない。また、蛍光体層を、蛍光体層からの発光が透過していく基板である前面基板１０７に設ける場合には、透過率を低下させないために、蛍光体層の厚みを薄くすることが好ましい。また、蛍光体層は、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用し、ディスペンサーによって形成することが可能である。
【００７１】
Ｒ蛍光体層１２５は、例えば、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する赤色蛍光体により形成される。Ｇ蛍光体層１２７は、例えば、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する緑色蛍光体により形成される。Ｂ蛍光体層１２９は、例えば、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する青色蛍光体により形成される。
【００７２】
また、放電空間１１７は真空状態ではなく、例えば、Ｘｅが主放電ガスであるＮｅ−Ｘｅガスなどが封じ込められている。放電ガスにおけるＸｅの分圧は、例えば放電ガス全体のガス圧に対して、例えば１０〜３０％程度とすることが可能である。
【００７３】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの動作について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰ１０の動作について説明する。アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に、放電開始電圧よりも大きな交流電圧が印加されると、各電極に印加される電圧の極性が変化するたびに、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に放電経路が形成され、この放電経路中に存在する放電ガス中にプラズマ放電が発生して、紫外線が放電空間１１７中に放射されることとなる。放電空間１１７中に放射された紫外線は、蛍光体層中の蛍光体に当たり、この紫外線が有するエネルギーにより、蛍光体が発光する。蛍光体からの発光は、例えば前面基板１０７を透過して、ＰＤＰ１０の外部へと進むこととなる。
【００７４】
なお、本実施形態に係るＰＤＰ１０に、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１を制御するドライブ回路や、その他の装置を接続することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えたプラズマディスプレイを製造することが可能である。ＰＤＰを備えたプラズマディスプレイを製造する方法については、公知のあらゆる方法を適用することが可能である。
【００７５】
＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰの製造方法について、詳細に説明する。本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、以下に示す段階を経て製造することが可能である。
【００７６】
すなわち、本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階と、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階と、隔壁形成層を焼成する段階と、隔壁形状を形成する段階と、隔壁形状により区画された放電空間内に、本実施形態に係る蛍光体ペーストを用いて各蛍光体層を形成する段階と、バス電極１０９および透明電極１１１ならびに第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を配設する段階と、を経て製造することが可能である。
【００７７】
背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階は、背面基板１０１として利用するガラス基板上に、所定の方法でアドレス電極１０３を形成した後に、電極取り出し部以外の場所に第１誘電体層１０５として反射型誘電体層を形成する段階である。
【００７８】
第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階は、上述のフィラーを含むガラス材料を使用して、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階である。
【００７９】
隔壁形成層を焼成する段階は、形成した隔壁形成層を、同時に焼成する段階である。続いて行われる隔壁形状を形成する段階は、焼成後の隔壁形成層にドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ Ｆｉｌｍ Ｒｅｓｉｓｔ：ＤＦＲ）等のレジスト層を形成する段階と、レジスト層を隔壁の形成パターンにあわせて露光・現像する段階と、焼成後の隔壁形成層を加工する段階と、残存しているレジスト層を除去する段階と、を含む。
【００８０】
かかる段階を経ることで、隔壁１１５が形成された背面基板１０１を製造することができる。
【００８１】
隔壁１１５が形成された後に、隔壁１１５により区画された放電空間内に、各色に対応する蛍光体層を、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用して、ディスペンサーにより形成する。
【００８２】
他方、前面基板１０７として利用されるガラス基板に対して、ＩＴＯなどを用いて透明電極１１１を形成した後に、印刷法等を用いてバス電極１０９を形成することで、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１を形成することが可能である。その後、バス電極１０９および透明電極１１１上に第２誘電体層１１３を形成することで、バス電極１０９、透明電極１１１および第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を製造することができる。また、第２誘電体層１１３を形成した後に、誘電体層を保護する保護膜としてＭｇＯ等を成膜してもよい。
【００８３】
上述のような方法で形成された前面基板１０７を隔壁１１５上に配設することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を製造することができる。その後、放電空間内を脱気した上で所定の放電ガスを注入し、放電空間を封着する段階を行う。
【００８４】
ここで、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を形成する段階と、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１と第２誘電体層１１３を形成する段階とは、任意の順に行うことが可能であり、上記２つの段階を並行して行うことも可能である。
【実施例】
【００８５】
続いて、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて、実施例を示しながら詳細に説明する。なお、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストが、下記の実施例に限定されるわけではない。
【００８６】
（実施例および比較例で使用した樹脂について）
以下に示す実施例１〜８では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１〜８（三菱レイヨン社製ダイヤナールＬＰ）を使用して、各実施例１〜８に係る蛍光体ペーストを製造した。比較例１では、エチルセルロースをバインダー樹脂として使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例２〜４では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂９〜１１（三菱レイヨン社製ダイヤナールＨＲ）を使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例５〜７では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１２〜１４（三菱レイヨン社製ダイヤナールＢＲ）を使用して、蛍光体ペーストを製造した。
【００８７】
（焼失率の測定）
以下に示す実施例および比較例では、上述の樹脂を、セイコーインスツルメント社製熱分析計６０００ＴＧ／ＤＴＡを用いて測定し、４１０℃での焼失率を測定した。
【００８８】
（蛍光体ペーストの製造）
以下に示す実施例および比較例では、有機溶媒であるターピネオール４４．５ｇに、上述の樹脂５．５ｇを加熱溶解させてビヒクルを調整した後、蛍光体として、青色蛍光体であるＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ、ＢＡＭ）を３３．３ｇ添加した。蛍光体が添加されたビヒクルを３本ミルで混練して、それぞれの実施例および比較例における青色蛍光体ペーストを調整した。
【００８９】
（第１法線応力差および粘度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストの第１法線応力差および粘度は、アントンパール社製ＭＣＲ３００レオメータに２５ｍｍφ、０．５°のコーンプレートを装着して測定した。なお、測定時の温度は、２３℃であり、せん断速度は０．１〜１００００ｓｅｃ−１に設定し、この範囲の粘度とＮＦを測定した。
【００９０】
（Ｓｗｅｌｌ比の測定）
吐出圧が０．４ＭＰａに設定された細孔ノズル径が７５μｍであるディスペンサーを用いて、上述の方法で製造した蛍光体ペーストを吐出して、吐出径をＣＣＤカメラにて計測し、Ｓｗｅｌｌ比を算出した。
【００９１】
（ノズルの走査速度および発光強度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストを、マルチノズルディスペンサー（ノズルの間隔０．５７６ｍｍ）を用いて隔壁間隔（なお、ここでいう隔壁間隔とは、ディスプレイのサブピクセルの空間部分をいい、蛍光体ペーストが充填される空間部分の間隔を表す。）が１５０μｍの基板に塗布・パターニングを行った。このとき、隔壁上部とノズルヘッドとのギャップは１８０μｍとし、隔壁中に蛍光体ペーストが適切に塗布される状態になるときのノズルの走査速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を計測した。また、得られた蛍光体入りパネルを４１０℃あるいは５００℃焼成した後、中心波長１７２ｎｍのエキシマーランプで励起して、その発光強度を測定した。
【００９２】
上述の方法で測定した各測定値を、以下の表１に示す。
【００９３】
【表１】
【００９４】
まず、表１の「ノズルの最適な走査速度」の欄に着目する。ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、１００ｍｍ／ｓｅｃ近傍の値となり、迅速なパターニングを実行可能であることがわかった。また、ＮＦ／ηの値が４０００超過となった比較例２〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、非常に低い値となっており、迅速なパターニングは実行できないことがわかった。
【００９５】
次に、表１の「Ｓｗｅｌｌ比」の欄に着目すると、ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となり、ダイスウェル効果が抑制されていることがわかった。また、比較例２〜８において、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となった場合も存在したが、このような値を示した蛍光体ペーストでは、ノズルの最適な走査速度が極端に小さな値となっており、高精細度かつ迅速なパターニングが実行できないことがわかった。
【００９６】
続いて、表１の「相対輝度」の欄に着目すると、焼成温度が４１０℃である実施例１〜８および比較例２〜７では、相対輝度が１００近傍の値となったが、焼成温度が５００°であるエチルセルロースを用いた比較例１では、相対輝度の値が６８となった。これは、高い焼成温度により、蛍光体の熱劣化が発生したことに起因する。
【００９７】
なお、表１の「分子量」および「１０ｓｅｃ−１における粘度η」の欄から明らかなように、ノズルの最適な走査速度の値は、樹脂の分子量や、１０ｓｅｃ−１における粘度ηには依存しないことがわかった。
【００９８】
以上説明したように、一定条件を満たすレオロジー特性を有する低温焼失（メタ）アクリル樹脂を用いた蛍光体ペーストを用いることにより、省エネルギーの生産工程となり、また焼成による蛍光体の輝度劣化を防止し、安価で、高効率なプラズマディスプレイパネルを製造することが可能となる。
【００９９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１００】
例えば、上述した実施形態においては、プラズマディスプレイがアドレス電極とバス電極の２種類の電極を有する２電極構造である場合について説明したが、本発明に係るプラズマディスプレイの電極の種類は上述の場合に限定されるわけではなく、例えば３種類以上の電極を有する３電極構造であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。
【図２】蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【図３】蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。
【図５】同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【図６】同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１ ディスペンサー
３ 細孔ノズル
５ 蛍光体ペースト
７ せん断応力
９ 第１法線応力差
１０ プラズマディスプレイパネル
１０１ 背面基板
１０３ アドレス電極
１０５ 第１誘電体層
１０７ 前面基板
１０９ バス電極
１１１ 透明電極
１１３ 第２誘電体層
１１５ 隔壁
１１７ 放電空間
１１９ Ｒ領域
１２１ Ｇ領域
１２３ Ｂ領域
１２５ Ｒ蛍光体層
１２７ Ｇ蛍光体層
１２９ Ｂ蛍光体層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、
有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、
を含み、
せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項２】
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂は、４１０℃における焼失率が９９％以上である
ことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項３】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下である
ことを特徴とする、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項４】
互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、
前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、
前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、
前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、
前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、
前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、
前記放電空間内に形成される蛍光体層と、
を備え、
前記蛍光体層は、請求項１〜請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成される
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、
有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、
を含み、
せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項２】
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂は、４１０℃における焼失率が９９％以上である
ことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項３】
細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下である
ことを特徴とする、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。
【請求項４】
互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、
前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、
前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、
前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、
前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、
前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、
前記放電空間内に形成される蛍光体層と、
を備え、
前記蛍光体層は、請求項１〜請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成される
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００９−１５２０６５（Ｐ２００９−１５２０６５Ａ）
【公開日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３２８９７３（Ｐ２００７−３２８９７３）
【出願日】平成１９年１２月２０日（２００７．１２．２０）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２０日（２００７．１２．２０）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
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