説明

リチウムイオン二次電池用負極の製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極

【課題】CuSn層を凹凸状に形成する際の粗化状態における粒子径のばらつきを抑え、安定性・再現性が良く、製造工程が簡易かつ安全で、安価なリチウムイオン二次電池用負極の製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極を提供する。
【解決手段】本発明に係るリチウムイオン二次電池用負極の製造方法は、銅箔を脱脂、酸洗浄し、銅箔上にニッケルめっき層を形成し、順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した後、熱処理を施してCuSn層を形成してリチウムイオン二次電池用負極を製造する方法であり、その熱処理は、前記CuSn層の表面側に純Sn層を残した状態で施し、純Sn層をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去して、粗化形状の粒子径を1μm以上3μm以下としたCuSn層を露出させることを特徴とする製造方法である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極に関する。
【背景技術】
【0002】
リチウムイオン二次電池は、モバイル機器用をはじめとして広く普及している。これらの負極は、銅箔または銅合金箔からなる負極集電体の上にカーボン系の材料を活物質として形成されていた。しかし、カーボン系の材料については、今後、放電容量(最大容量)の大幅な向上は困難であるため、最近では更に放電容量の大きいSn系の活物質やSi系の活物質が検討されている。
【0003】
しかし、Sn系の活物質やSi系の活物質については、リチウムイオンを吸蔵したときの体積膨張が非常に大きく、このため集電体である銅箔から剥離しやすいという問題がある。従って、Sn系材料の場合、純Snの薄膜としてではなく、Sn合金またはSn化合物薄膜として利用しようと試みられている。例えば、Sn化合物であるCuSnは、負極活物質としての使用が検討されている。
【0004】
特許文献1には、CuSnを形成する方法として、銅箔基材にSnめっきを行った後に加熱処理を施す方法や、シアン系のめっき液により直接Cu−Sn合金をめっきする方法が記載されている。
【0005】
また、特許文献2には、Sn系について、スルホコハク酸溶液によるCu−Sn合金めっきにより、銅箔からなる負極集電体上にCuSn層を凹凸状に形成するリチウムイオン二次電池用負極及びその製造方法が記載されている。
【0006】
特許文献3には、予め銅箔の下処理として銅箔表面に平滑面に対して1.5倍を超える表面積となるように凹凸化処理を施し、次いでこの銅箔の表面にNi又はCoからなる拡散バリア層を形成し、更にその表面に銅及び錫めっき膜を形成後、熱処理を施すことにより活物質としてCuSn層を形成するリチウムイオン二次電池用負極及びその製造方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開2004−087232号公報
【特許文献2】特開2006−269361号公報
【特許文献3】特開2006−269362号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
特許文献1に記載の方法により、CuSn層を形成することで、電極の充放電に伴う膨張収縮による活物質の崩壊は軽減されるが、実用化にあたり未だ充分とは言えない。
【0009】
また、特許文献2及び3に記載のリチウムイオン二次電池用負極は、放電容量が大きく剥離し難いという特徴を有するが、CuSn層を凹凸状に形成する際の粗化状態における粒子の形状や大きさ、及びそれらの基材面上でのばらつき程度がめっき条件によって大きく変化するため、リチウムイオン二次電池用負極の安定性・再現性が良くない。
【0010】
そこで、本発明は、CuSn層を凹凸状に形成する際の粗化状態における粒子径のばらつきを抑え、安定性・再現性が良く、製造工程が簡易かつ安全で、安価なリチウムイオン二次電池用負極の製造方法及びリチウムイオン二次電池用負極を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明は、前記目的を達成するために創案されたものであり、請求項1の発明は、銅箔を脱脂、酸洗浄し、前記銅箔上にニッケルめっき層を形成し、順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した後、熱処理を施してCuSn層を形成してリチウムイオン二次電池用負極を製造する方法において、前記熱処理は、前記CuSn層の表面側に純Sn層を残した状態で施し、前記純Sn層をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去し、粗化形状の粒子径を1μm以上3μm以下としたCuSn層を露出させることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極の製造方法である。
【0012】
請求項2の発明は、前記CuSn層の厚さが0.5μm以上1.5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法である。
【0013】
請求項3の発明は、銅箔を脱脂、酸洗浄し、前記銅箔上に下地めっき層を形成し、順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した後、熱処理を施してCuSn層を形成してリチウムイオン二次電池用負極を製造する方法において、前記熱処理は、前記CuSn層の表面側に純Sn層を残した状態で施し、前記純Sn層をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去し、粗化形状のCuSn層を露出させることを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極の製造方法である。
【0014】
請求項4の発明は、前記Cuめっき層の厚さが0.2μm以上1.0μm以下であり、Snめっき層の厚さが0.8μm以上1.6μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法である。
【0015】
請求項5の発明は、前記熱処理の試料温度が235℃以上500℃以下で、時間が10秒以上20秒以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法である。
【0016】
請求項6の発明は、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法を用いて、製造されたことを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極である。
【発明の効果】
【0017】
本発明によれば、CuSn層を凹凸状に形成する際の粗化状態における粒子径のばらつきが抑えられ、安定性・再現性が良く、製造工程が簡易かつ安全で、安価なリチウムイオン二次電池用負極を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の実施の形態に係るリチウムイオン二次電池用負極の模式図である。
【図2】本発明の実施の形態に係るリチウムイオン二次電池用負極の製造の流れを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
(リチウムイオン二次電池用負極の製造方法)
図1は、本発明の実施の形態に係るリチウムイオン二次電池用負極であり、図2はリチウムイオン二次電池用負極の製造の流れを示すフローチャートである。以下、図1及び図2を参照しつつ、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法を説明する。
【0020】
まず、負極集電体となる銅箔1を、水酸化Na水溶液を用いて脱脂する(ステップ1、以下、ステップを「S」と表記する)。次に脱脂した銅箔1を、硫酸水溶液を用いて酸洗する(S2)。
【0021】
その後、銅箔1の上に下地めっき層2を形成し(S3)、順次Cuめっき層(S4)、Snめっき層(S5)を形成する。下地めっき層2には、ニッケルめっき層を用いることができる。Cuめっき層の厚さは、後述の様に0.2μm以上1.0μm以下であることが望ましく、Snめっき層の厚さは、0.8μm以上1.6μm以下であることが望ましい。
【0022】
次に輻射熱炉で熱処理を施してCuSn層3を形成する(S6)。この熱処理は、前記CuSn層3の表面側に純Sn層4を1部残した状態で施している。熱処理は、後述のように試料温度が235℃以上500℃以下で、時間が10秒以上20秒以下であることが望ましい。
【0023】
この様にして、図1に示すように、最表層に純Sn層4、そしてお椀を伏せた様な上に凸のCuSn層3を形成している。次に、純Sn層4をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去し、粗化形状のCuSn層3を露出させる(S7)。
【0024】
以上のような工程を経て、本発明の実施の形態に係るリチウムイオン二次電池用負極10を製造する。ここで、粗化状態における粒子径のばらつきを抑えるため、粒子径は1μm以上3μm以下であることが望ましい。
【0025】
以下、本発明のリチウムイオン二次電池用負極を、実施例を用いてさらに具体的に説明する。
【実施例】
【0026】
表1は、銅箔の脱脂(S1)、酸洗(S2)、下地めっき層の形成(S3)、Cuめっき層の形成(S4)、Snめっき層の形成(S5)の条件(処理液組成、液温度、電流密度)を示した表である。下地めっきには、ニッケルめっきを使用した。
【0027】
【表1】

【0028】
まず、厚さ0.018mmの銅箔を準備し、表1の条件で陰極電解脱脂、陽極電解脱脂、酸洗を行った。次に表1の条件で銅箔上にスルファミン酸浴中でニッケルめっき層を形成し、硫酸浴中で順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した。めっき層の厚さは、蛍光X線膜厚計(SII製SFT9450)で測定する。
【0029】
次に直径4cmの試料出し入れ口を設けたマッフル炉で熱処理を行った(S6)。最表層に純Sn層、そしてお椀を伏せたような、上に凸のCuSn層が得られた。
【0030】
その後、電測製Coulo Techoster CT−2、電解液R−47を用いて純Sn層をアノード電解除去して粗化形状のCuSn層を露出させた(S7)。
【0031】
このようにして得た電極材と金属リチウムを対極とする試験セルを製作し、充放電特性の評価を行った。なお、セパレータにはポリプロピレン薄膜を使用し、電解液には1mol/LのLiPFを溶解したエチレンカーボネートとジエチルカーボネートの混合溶液(1:1)を用いた。充放電は0.01〜1.0Vの範囲で0.5mA/dmの定電流密度で行った。粗化形状の粒子径は、JIS H0501伸銅品結晶粒度試験方法(求積法)に準拠して算出した。
【0032】
表2は、Cuめっき層を0.6μm、Snめっき層1.2μmを形成した後、CuSn層の粒子径と、CuSn層の厚さ、及び充放電試験10,20,30サイクル後の初期サイクルに対する放電容量維持率を示した表である。
【0033】
【表2】

【0034】
表2の実施例B1〜B3の結果より、CuSn層の粒子径が1μm以上3μm以下の範囲内で、厚みが0.5μm以上1.5μm以下の範囲ならば、サイクル特性が良く(大きく)、10サイクルから30サイクルまでのいずれも放電容量維持率が90%以上であった。しかし、CuSn層の粒子径及び厚みが上記の範を外れる比較例B1〜3では放電容量維持率が20サイクル、30サイクルで悪く(小さく)なり、20サイクルでは80%代、30サイクルでは60%代であった。
【0035】
また、実施例B1〜B3の結果からCuSn層の厚さは粒子径の半分であることが好ましいことがわかる。
【0036】
さらに、表2の実施例及び比較例より、CuSn層の粒子径とCuSn層の厚みが試料の温度と、加熱時間に依存していることがわかる。実施例B1〜B3では、試料の温度が325℃から425℃の範囲内にあり、かつ加熱時間が10秒以上20秒以下の範囲にある。比較例B1からB3は、試料の温度又は加熱時間が上記の範囲外にある例である。
【0037】
表3は、ニッケルめっき層、Cuめっき層、Snめっき層の厚さの異なる例を示した表である。
【0038】
【表3】

【0039】
実施例1〜5、比較例1,2は、前述の様に、まず厚さ0.018mmの銅箔を準備し、表1の条件で陰極電解脱脂、陽極電解脱脂、酸洗を行った後、ニッケルめっき層、Cuめっき層、Snめっき層を形成した。次に直径4cmの試料出し入れ口を設けたマッフル炉で試料温度350℃、設定時間19秒で熱処理を行って、CuSn層を得て、前述の様にアノード電解除去して粗化形状のCuSn層を露出させた。
【0040】
実施例1〜5は、ニッケルめっき層の厚さが0.6μm、Cuめっき層の厚さが0.2μm以上1.0μm以下であり、かつSnめっき層の厚さが0.8μm以上、1.6μm以下の範囲にある例である。比較例1は、Snめっき層の厚さが0.5μmであり、また、比較例2は、Cuめっき層の厚さが0.1μmであるため、上記の範囲に入らない例である。
【0041】
実施例1〜5の例では、CuSn粒子が過剰成長することなく、粗化粒子が形成され、粗化粒子径は、1μm以上3μm以下の範囲内であった。一方、比較例1,2では、粗化粒子径が、1μm以上3μm以下の範囲外であり、ばらつきがあった。
【0042】
従って、Cuめっき層の厚さは、0.2μm以上1.0μm以下であることが望ましく、Snめっき層の厚さは、0.8μm以上1.6μm以下であることが望ましい。
【0043】
表4は、熱処理(S6)における試料温度と設定時間の異なる例を示した表である。
【0044】
【表4】

【0045】
実施例6〜10、比較例3,4では、前述のように、まず厚さ0.018mmの銅箔を準備し、表1の条件で陰極電解脱脂、陽極電解脱脂、酸洗を行った後、ニッケルめっき層を0.6μmで形成し、順次Cuめっき層0.6μm、Snめっき層1.2μmを形成した。次に直径4cmの試料出し入れ口を設けたマッフル炉で熱処理を行い、CuSn層を得て、アノード電解除去して粗化形状のCuSn層を露出させた。
【0046】
実施例6〜10は、熱処理の試料温度が235℃以上500℃以下で、時間が10秒以上20秒以下の範囲内にある例である。比較例3は、試料温度が220℃であり、比較例4は、設定時間が25秒であるため、上記の範囲外にある例である。
【0047】
比較例3のように熱処理の試料温度が235℃に満たないと、材料温度がSnの融点に達しないため、融解が起こらずに、CuがSnの粒界に沿って拡散し、わずかに合金化すると考えられ、好ましい粗化形状が得られない。また、熱処理の試料温度が500℃を超えると、CuとSnの合金層結晶の頂部のほとんどが平坦となり、CuとSnの合金層形成が進んで表面に露出すると考えられ、好ましい粗化形状が得られない。
【0048】
また、実施例6〜10の様に熱処理の時間が10秒以上20秒以下の範囲であれば、CuとSnの合金層過剰成長(純Sn層表面に到達)が見られずに粗化形状を得ることができる。一方、比較例4の様に熱処理時間が25秒だと、CuとSnの合金層の過剰成長が見られる。
【0049】
従って、熱処理の試料温度は235℃以上500℃以下、設定時間は10秒以上20秒以下であることが望ましい。
【0050】
以上、本発明の実施の形態及び実施例を説明したが、上記に記載した実施の形態及び実施例は、本発明を何ら制限するものではない。
【0051】
本実施の形態に係るリチウムイオン二次電池用負極は、上述のとおりCuSn層を凹凸状に形成する際の粗化状態における粒子径が1μm以上3μm以下の範囲内であるため、粒子径のばらつきが抑えられ、安定性・再現性が良い。また、上述のとおり製造工程が簡易かつ安全で、安価なリチウムイオン二次電池用負極を提供できる。
【符号の説明】
【0052】
1…銅箔、2…下地めっき層、3…CuSn層、4…純Sn層、10…リチウムイオン二次電池用負極。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
銅箔を脱脂、酸洗浄し、前記銅箔上にニッケルめっき層を形成し、順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した後、熱処理を施してCuSn層を形成してリチウムイオン二次電池用負極を製造する方法において、
前記熱処理は、前記CuSn層の表面側に純Sn層を残した状態で施し、
前記純Sn層をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去し、粗化形状の粒子径を1μm以上3μm以下としたCuSn層を露出させること
を特徴とするリチウムイオン二次電池用負極の製造方法。
【請求項2】
前記CuSn層の厚さが0.5μm以上1.5μm以下であること
を特徴とする請求項1に記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法。
【請求項3】
銅箔を脱脂、酸洗浄し、前記銅箔上に下地めっき層を形成し、順次Cuめっき層、Snめっき層を形成した後、熱処理を施してCuSn層を形成してリチウムイオン二次電池用負極を製造する方法において、
前記熱処理は、前記CuSn層の表面側に純Sn層を残した状態で施し、
前記純Sn層をアルカリ電解液中でアノード溶解することで除去し、粗化形状のCuSn層を露出させること
を特徴とするリチウムイオン二次電池用負極の製造方法。
【請求項4】
前記Cuめっき層の厚さが0.2μm以上1.0μm以下であり、Snめっき層の厚さが0.8μm以上1.6μm以下であること
を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法。
【請求項5】
前記熱処理は、試料温度が235℃以上500℃以下で、時間が10秒以上20秒以下であること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のリチウムイオン二次電池用負極の製造方法。
【請求項6】
請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法を用いて製造されたこと
を特徴とするリチウムイオン二次電池用負極。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2012−142214(P2012−142214A)
【公開日】平成24年7月26日(2012.7.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−418(P2011−418)
【出願日】平成23年1月5日(2011.1.5)
【出願人】(000005120)日立電線株式会社 (3,358)
【Fターム(参考)】