説明

不揮発性メモリの制御装置および制御方法

【課題】不揮発性メモリの書き込み時間を長くすることなく、ドレインディスターブを防止する。
【解決手段】不揮発性メモリの制御装置は、不揮発性メモリの指定されたアドレスから読み出し電圧によりデータを読み出してバッファーに格納する読み出し制御回路と、指定されたプログラムデータを前記読み出しと同時にバッファーに格納し、前記読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットが存在すると、前記格納されたプログラムデータの対応するビットを書き込まないように変更し、変更されたプログラムデータを前記不揮発性メモリの前記指定されたアドレスに書き込む書き込み制御回路と、を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、不揮発性メモリの制御装置および制御方法に関する。
【背景技術】
【0002】
不揮発性メモリは、半導体メモリの中でも、電源を切っても記憶内容を保持することができるメモリの総称である。ROM(リードオンリメモリ)、FeRAM(強誘電体メモリ)、PRAM(相変化メモリ)等がある。
ROMには、製造段階でデータが書き込まれ、後から内容を書き換えることができないマスクROMと、データを書き込むことができるPROMがある。
PROMには、一度だけデータを書き込めるワンタイムPROMと、一定回数の消去と書き込みが可能なEPROMがある。
EPROMには、紫外線を利用してデータを消去するUV−EPROM、通常より高い電圧をかけてデータを消去するEEPROM、フラッシュメモリ、等がある。
フラッシュメモリは、従来のEEPROMと比べて高速なアクセスが可能であるが、ブロック単位で消去、書き込みを行う。NOR型フラッシュメモリ、NAND型フラッシュメモリの2種類に大別される。なお、フラッシュメモリはROMでもRAMでもないメモリとして分類される場合もある。
FeRAMは、電圧を加えることによって物質内の自発分極の方向を変化させてデータを記憶させる。
PRAMは、温度変化によって、ある種の物質の結晶相とアモルファス相を切り替えて、両者の状態の違いをデータの記憶に利用する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2003−7074号公報
【特許文献2】特開平5−89687号公報
【特許文献3】特開平8−306192号公報
【特許文献4】国際公開第01/61503号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
フラッシュメモリは、絶縁体で囲まれたフローティングゲートと呼ばれる電極に電圧を加えて電荷を蓄積することで情報を記憶するが、時間の経過とともに電圧が低下していき(一例として、10年〜数十年)、“0”として読み出されるべきデータが“1”として読み出されるデータリテンション不良が発生する。
【0005】
そこで、データ読み出し処理において、メモリセルに対して読み出し電圧でデータを読み出した後、“0”データを読み出したメモリセルに対して、さらに書き込みが行われる。すると、メモリセルへの書き込み回数が増加する。フラッシュメモリの絶縁体となる酸化膜は電子が貫通することによって劣化するので、ドレインディスターブにより、メモリセルの閾値電圧が低下し、書き込まれたデータの読み出し不良を引き起こす可能性が高まる。
【0006】
また、データ書き込み処理において、メモリセルへの書き込み回数を減少させるため、データの書き込み前にメモリセルのベリファイを行い、既に書き込まれているメモリセルには書き込みしないことにすると、プログラム時間が増加する。そこで、従来のデータの書き込みは、書き込み前のベリファイを省略して書き込み時間を短縮している。すなわち、既にデータが書き込まれているメモリセルにも書き込み電圧が印加されるため、ドレインディスターブが問題となる。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記の課題を解決するために、本発明による不揮発性メモリの制御装置は、不揮発性メモリの指定されたアドレスから読み出し電圧によりデータを読み出してバッファーに格納する読み出し制御回路と、指定されたプログラムデータを前記読み出しと同時にバッファーに格納し、前記読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットが存在すると、前記格納されたプログラムデータの対応するビットを書き込まないように変更し、変更されたプログラムデータを前記不揮発性メモリの前記指定されたアドレスに書き込む書き込み制御回路と、を備える。
【0008】
上記不揮発性メモリの制御装置は、好ましくは、前記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出し、読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットに対応する前記変更されたプログラムデータのビットを書き込まないように変更し、まだ書き込まれていないデータが存在すると、前記不揮発性メモリに書き込むように前記書き込み制御回路に指示するベリファイ制御回路をさらに備える。
【0009】
また、本発明による不揮発性メモリの制御方法は、読み出し制御回路によって、不揮発性メモリの指定されたアドレスから読み出し電圧によりデータを読み出してバッファーに格納する過程と、書き込み制御回路によって、指定されたプログラムデータを前記読み出しと同時にバッファーに格納し、前記読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットが存在すると、前記格納されたプログラムデータの対応するビットを書き込まないように変更し、変更されたプログラムデータを前記不揮発性メモリの前記指定されたアドレスに書き込む過程と、を有する。
【0010】
上記不揮発性メモリの制御方法は、好ましくは、ベリファイ制御回路によって、前記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出し、読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットに対応する前記変更されたプログラムデータのビットを書き込まないように変更し、まだ書き込まれていないデータが存在すると、前記不揮発性メモリに書き込むように前記書き込み制御回路に指示する過程をさらに有する。
【発明の効果】
【0011】
本発明により、既にデータが書き込まれているメモリセルへの書き込みを防止することができる。また、書き込み前のベリファイを省略することにより、従来と同等の時間で書き込みを完了することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】一実施形態による不揮発性メモリの制御装置の構成を示す図である。
【図2】一実施形態による不揮発性メモリの書き込み処理の流れを示す図である。
【図3】不揮発性メモリの制御装置にプログラムコマンドが入力されたときのタイミングチャートの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
本発明は、ドレインディスターブを防止するために、書き込みをする前に、読み出し電圧により不揮発性メモリセルを読み出し、“0”データのメモリセルに対しては書き込みを行わない。この読み出し動作は、既に不揮発性メモリ内に準備されている読み出し電圧を利用することにより、バッファーにプログラムデータをセットするのと同時に行うので、従来、書き込み前に読み出しシーケンスを追加することによって書き込みシーケンスの時間が増加していたのを防止する。
【0014】
図1は、一実施形態による不揮発性メモリの制御装置の構成を示す。図1に示す不揮発性メモリの制御装置は、バッファー回路1、書き込み制御回路2、ベリファイ制御回路3、読み出し制御回路4、不揮発性メモリアレイ5を備える。不揮発性メモリアレイ5は、複数ワード以上のデータを書き込むことができる。書き込み制御回路2、ベリファイ制御回路3、読み出し制御回路4は、それぞれ、データの書き込み、ベリファイ、読み出しを制御する。バッファー回路1には、書き込み制御回路2が不揮発性メモリアレイ5に書き込むデータ、ベリファイ制御回路3および読み出し制御回路4が不揮発性メモリアレイ5から読み出したデータが一時的に記憶される。
【0015】
次に、図2を参照して、一実施形態による不揮発性メモリの書き込み処理の流れを説明する。不揮発性メモリの制御装置にプログラムコマンドが入力されると、図2に示す処理が開始される。プログラムコマンドは、例えば、書き込みアドレス、プログラムデータのデータサイズを指定する情報を含む。プログラムコマンド、プログラムデータは、例えば、不揮発性メモリの制御装置とバスを介して接続された(図示しない)他の処理装置、記憶手段、等から与えられる。
【0016】
以下のステップS1〜S5は、所定のデータサイズを単位として複数回に分けて行い、プログラムコマンドによって指定されたプログラムデータが全て処理されるまで繰り返す。
【0017】
書き込み制御回路2は、書き込みアドレスを設定する(ステップS1)。初回の書き込みアドレスはプログラムコマンドに従って設定され、2回目以降は前回の書き込みアドレスを所定のデータサイズだけ増加させる。
【0018】
次に、書き込み制御回路2は、バッファー回路1に所定のデータサイズのプログラムデータを格納する(ステップS2)。
【0019】
書き込み制御回路2によるステップS2の処理と同時に、読み出し制御回路4は、不揮発性メモリセルアレイ5にアクセスし、ステップS1で設定された書き込みアドレスから所定のデータサイズのデータを読み出し、バッファー回路1に転送する(ステップS3)。
【0020】
なお、バッファー回路1へのプログラムデータの格納と、バッファー回路1への不揮発性メモリセルアレイ5から読み出されたデータの転送とを同時に行うために次の構成が可能であるが、これに限定されない。例えば、バッファー回路1に、書き込み制御回路2用のメモリ素子Aと、読み出し制御回路4およびベリファイ制御回路3用のメモリ素子Bを設け、下記のステップS4の処理を行うときには書き込み制御回路2がメモリ素子Bにもアクセスできるように回路の接続を切り替え、下記のステップS7、S8の処理を行うときには、ベリファイ制御回路3がメモリ素子Aにもアクセスできるように回路の接続を切り替える手段を設ける。
【0021】
ステップS3で読み出したデータは、ステップS2でバッファー回路1に格納されたプログラムデータと1ビットずつ比較される。不揮発性メモリセルアレイ5から読み出したデータが“0”であるとき、バッファー回路1に格納された対応するプログラムデータを“1”に変更する(ステップS4)。“1”に変更されると、後述する書き込み処理において、対応するメモリセルに書き込み電圧が印加されないことになる。ステップS2でバッファー回路1に格納されたプログラムデータと、ステップS3で不揮発性メモリセルアレイ5から読み出されたデータとの比較および変更が終了すると、書き込みデータが確定される(ステップS5)。
【0022】
プログラムコマンドによって指定されたプログラムデータの全てについてステップS1〜S5が完了すれば、ステップS7に進み、書き込みを開始する。プログラムデータがまだ存在する場合は、ステップS1に戻る。
【0023】
以下のステップS7〜S9は、所定のデータサイズを単位として複数回に分けて行い、プログラムコマンドによって指定されたプログラムデータが全て処理されるまで繰り返す。
【0024】
ステップS7において、書き込み制御回路2は、バッファー回路1に格納された書き込みデータのうち所定のデータサイズのデータを不揮発性メモリアレイ5に書き込む。すなわち、書き込みデータのうち“0”に対応するメモリセルに書き込み電圧が印加される。初回の書き込みアドレスはプログラムコマンドに従って設定され、2回目以降は前回の書き込みアドレスを所定のデータサイズだけ増加させる。ただし、ステップS8からステップS7に戻った場合は、正常に書き込まれなかったデータを再度書き込むため、書き込みアドレスは変更しない。
【0025】
次にステップS8に進み、ベリファイ制御回路3は、ステップS7で書き込まれたデータを、読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出し、バッファー回路1に転送する。読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出すことにより、メモリセルの閾値電圧が読み出し電圧より高い電圧に設定されるので、データリテンション不良を防止することができる。
【0026】
ベリファイ制御回路3は、ステップS5で確定された書き込みデータと、ここで読み出したデータとを1ビットずつ比較する。読み出したデータが“0”であり、対応する書き込みデータも“0”であるとき、対応する書き込みデータを“1”に変更する。
ステップS5で確定された書き込みデータが全て正常に不揮発性メモリアレイ5に書き込まれていれば、対応する書き込みデータは全て“1”に変更され、“0”であるデータはなくなる。しかし、不揮発性メモリアレイ5への書き込みが正常に行われず、“1”が読み出されたデータが存在すると、“1”に変更されずに“0”のままである書き込みデータが存在することになる。
書き込みデータが全て“1”である場合はステップS9に進み、そうでなければ、ステップS7に戻り、変更後の書き込みデータを不揮発性メモリアレイ5に書き込むように書き込み制御回路2に指示する。
【0027】
ステップS9において、ステップS5で確定された全ての書き込みデータについて処理が完了すればプログラムを終了し、そうでなければステップS7に戻る。
【0028】
次に、図3を参照して、不揮発性メモリの制御装置にプログラムコマンドが入力されたときのタイミングチャートの一例を説明する。
【0029】
不揮発性メモリの制御装置にプログラムコマンドが入力されると、読み出し制御回路4は、T1〜T2の間、不揮発性メモリセルアレイ5に読み出しアドレス信号(ReadAddress)AA(AAは、あるアドレスを表わす。)を出力し、読み出しデータ信号の検出を開始する(SensingStart)。
一方、書き込み制御回路2は、この不揮発性メモリの制御装置の外部からプログラムデータを取り込むとともに、バッファー回路1に書き込みアドレス信号(Write Address)AAを出力する。
【0030】
T2において、不揮発性メモリセルアレイ5から読み出しデータ信号(Read Data (AA))が出力されるので、読み出し制御回路4は、これを検出してバッファー回路1に転送する。
一方、書き込み制御回路2は、T2とT3の間のProgramDataLoad信号の立ち下がりのタイミングで、バッファー回路1にプログラムデータ信号(ProgramData)AAを出力し、外部から取り込んだプログラムデータを書き込む。
【0031】
次に、アドレスBB(BBは、あるアドレスを表わす。)について、T3〜T4でT1〜T2と同様の処理を行い、T4〜T6(図示しない)でT2〜T4と同様の処理を行う。これを繰り返して、バッファー回路1に、所定のデータサイズの読み出しデータとプログラムデータを格納する。すなわち、T2〜T4と同様の動作を繰り返すことによって、図2を参照して説明した不揮発性メモリからのデータの読み出し(ステップS3)、プログラムデータのセット(ステップS2)が行われる。
【0032】
そして、この所定のデータサイズのデータについて、図2を参照して説明したデータの比較(ステップS4)、書き込みデータの確定(ステップS5)が行われ、全ての書き込みデータが準備された後、不揮発性メモリアレイ5への書き込み(ステップS7以降)が行われる。
【産業上の利用可能性】
【0033】
本発明は、不揮発性メモリに対する読み出し、書き込み、ベリファイを制御する回路に利用することができ、例えば、NOR型フラッシュメモリ、NAND型フラッシュメモリ、PRAMの制御回路に利用することができるが、これらに限定されない。
【符号の説明】
【0034】
1…バッファー回路 2…書き込み制御回路 3…ベリファイ制御回路 4…読み出し制御回路 5…不揮発性メモリアレイ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
不揮発性メモリの指定されたアドレスから読み出し電圧によりデータを読み出してバッファーに格納する読み出し制御回路と、
指定されたプログラムデータを前記読み出しと同時にバッファーに格納し、前記読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットが存在すると、前記格納されたプログラムデータの対応するビットを書き込まないように変更し、変更されたプログラムデータを前記不揮発性メモリの前記指定されたアドレスに書き込む書き込み制御回路と、
を備える、不揮発性メモリの制御装置。
【請求項2】
前記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出し、読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットに対応する前記変更されたプログラムデータのビットを書き込まないように変更し、まだ書き込まれていないデータが存在すると、前記不揮発性メモリに書き込むように前記書き込み制御回路に指示するベリファイ制御回路をさらに備える請求項1に記載の不揮発性メモリの制御装置。
【請求項3】
読み出し制御回路によって、不揮発性メモリの指定されたアドレスから読み出し電圧によりデータを読み出してバッファーに格納する過程と、
書き込み制御回路によって、指定されたプログラムデータを前記読み出しと同時にバッファーに格納し、前記読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットが存在すると、前記格納されたプログラムデータの対応するビットを書き込まないように変更し、変更されたプログラムデータを前記不揮発性メモリの前記指定されたアドレスに書き込む過程と、
を有する、不揮発性メモリの制御方法。
【請求項4】
ベリファイ制御回路によって、前記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し電圧より高いベリファイ電圧で読み出し、読み出されたデータのうち既に書き込まれているビットに対応する前記変更されたプログラムデータのビットを書き込まないように変更し、まだ書き込まれていないデータが存在すると、前記不揮発性メモリに書き込むように前記書き込み制御回路に指示する過程をさらに有する請求項3に記載の不揮発性メモリの制御方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2011−134389(P2011−134389A)
【公開日】平成23年7月7日(2011.7.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−293100(P2009−293100)
【出願日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【出願人】(390019839)三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Samsung Electronics Co.,Ltd.
【住所又は居所原語表記】416,Maetan−dong,Yeongtong−gu,Suwon−si,Gyeonggi−do,Republic of Korea
【Fターム(参考)】