並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法
【課題】製造コストを下げて製品の収率を向上させるとともに、光源透過率と色飽和度を高める並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板３１上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極４１、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５、第４の有機発光層４３７及び第２の電極４５を備える。第１の電極４１は、基板３１上に配置される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域上に配置される。第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域上に配置される。第３の有機発光層４３５は、第３のサブ画素領域上に配置される。第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域上に配置される。第２の電極４５は、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層及び第４の有機発光層の上に配置される。
【解決手段】基板３１上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極４１、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５、第４の有機発光層４３７及び第２の電極４５を備える。第１の電極４１は、基板３１上に配置される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域上に配置される。第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域上に配置される。第３の有機発光層４３５は、第３のサブ画素領域上に配置される。第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域上に配置される。第２の電極４５は、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層及び第４の有機発光層の上に配置される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に関し、特に各光源の透過率及び色飽和度を効果的に高める上、収率を向上させる並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー（full-color）の表示効果を得る技術は、一般に表示装置の発展にとって非常に重要であった。有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）は、フルカラー表示機能を得るため、一般に以下の二つの方法を用いている。
【０００３】
（１）三原色が独立した画素発光
これは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色を生成する有機ＥＬ素子をそれぞれ個別に配置（side by side）し、これら三種類の色光を適当な比率で混合してフルカラーの表示効果を得る方法である。
【０００４】
しかし、この有機ＥＬ表示装置の製造には、複数の蒸着工程及びマスク合わせ工程において、異なる色光を生成させる有機発光層が必要となるため、製造工程が複雑で面倒な上、蒸着工程やマスク合わせ工程の困難度が高まり、製品の収率を下げて製造コストが多くかかった。
【０００５】
（２）カラーフィルタ（color filter）
これは白色光源を発生させる複数の有機発光層を配置し、カラーフィルタの使用と合わせて、白色光源を濾過する目的を達成してフルカラーの表示効果を得る方法である。
【０００６】
一般に、表示装置がカラーフィルタによりフルカラーを得る場合、白色光源の大部分が濾過されるため、有機ＥＬ表示装置の表示輝度が不足する上、電力も浪費された。
【０００７】
図１は、従来の三原色が独立した画素発光の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置２００は、透明基板１１上に形成された有機発光層２３を主に含む。この有機発光層２３は、第１の有機発光層２３１、第２の有機発光層２３３及び第３の有機発光層２３５を含む。第１の有機発光層２３１、第２の有機発光層２３３及び第３の有機発光層２３５により生成される第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３は、それぞれ赤色光源、緑色光源及び青色光源である。これにより、有機ＥＬ表示装置２００は、これら三原色を適当な比率で混合してフルカラーを表示していた。
【０００８】
マスク合わせ工程は、透明基板１１上に有機発光層２３を形成する前に行わなければならなかった。しかし、このマスク合わせ工程では、誤差が発生して有機発光層２３の形成に直接影響を与えることがあった。第２の有機発光層２３３のマスク合わせ工程が不正確な場合、第２の有機発光層２３３の位置に偏差が発生し、誤差領域２３９を発生させることがあった。誤差領域２３９の箇所には第２の有機発光層２３３が形成されていないため、この誤差領域２３９の部分は、第２の光源Ｓ２を生成することができなかった。そのため、第２の有機発光層２３３の作用面積は、元来、発光面積Ａ１だったものが発光面積Ａ２にまで減少し、第２の光源Ｓ２の発光輝度と表示装置の表示品質とに悪い影響を与えることがあった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、蒸着工程及びマスク合わせ工程により収率が低減することを防ぎ、製造コストを下げて製品の収率を向上させるとともに、光源透過率と色飽和度を高める並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、前記第３の有機発光層は、前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第３の有機発光層の上方又は下方に配置されたことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置に関する。
【００１１】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に形成された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層又は前記第４の有機発光層は、単層の有機発光層、複数積層の有機発光層及びドーピング型の有機発光層からなる群から選ばれることを特徴とする。
【００１５】
本発明の一態様は、基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層及び前記第２の有機発光層の上方又は下方に配置されることを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置に関する。
【００１６】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に配置された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする。
【００１７】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする。
【００１９】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第４の有機発光層は、複数積層の有機発光層であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板上にある複数の画素の形成方法が、前記基板上に第１の電極を形成する工程と、前記第１の電極上に第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域を画する工程と、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第１のマスクでカバーする工程と、第１の蒸着源を前記第１のサブ画素領域に向け、第１の有機発光層の蒸着工程を行い、第１の光源を生成する前記第１の有機発光層を形成する工程と、前記第１のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第２のマスクでカバーする工程と、第２の蒸着源を前記第２のサブ画素領域に向け、第２の有機発光層の蒸着工程を行い、第２の光源を生成する前記第２の有機発光層を形成する工程と、第４の蒸着源及び開口マスクを用い、前記第４の蒸着源を前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域に向け、第４の有機発光層の蒸着工程を行い、第４の光源を生成する前記第４の有機発光層を形成する工程と、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層上へ第２の電極を形成する工程と、をそれぞれ含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、前記第１のサブ画素領域及び前記第２のサブ画素領域を第３のカバーでカバーする工程と、第３の蒸着源を前記第３のサブ画素領域に向け、第３の有機発光層の蒸着工程を行い、第３の光源を生成する前記第３の有機発光層を形成する工程と、をさらに含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法は、各光源の透過率及び色飽和度を向上させ、マスク合わせ工程で発生する誤差が原因で、収率が低下することを確実に防ぎ、フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製品収率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
図２及び図２Ａは、本発明の第１実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。本実施形態では、分かりやすく説明するために一つの画素（pixel）を例にする。図２及び図２Ａに示すように、有機ＥＬ表示装置４００は、基板３１及び有機ＥＬ素子４０を主に含む。この有機ＥＬ素子４０は、第１の電極４１、有機発光層４３及び第２の電極４５を含む。有機発光層４３は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７を含む。
【００２４】
第１の電極４１は、基板３１の上方に配置され、第１の電極４１は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域４１１上に形成され、第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域４１３上に形成され、第３の有機発光層４３５は、第３のサブ画素領域４１５上に形成され、第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の上方に形成されている。第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５には、それぞれ第４の有機発光層４３７が積層方式で配置され、この第４の有機発光層４３７は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の上方又は下方を選択して配置してもよい。第２の電極４５は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７の上方に配置する。
【００２５】
有機ＥＬ表示装置４００は、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に形成されたカラーフィルタ３０をさらに含む。カラーフィルタ３０は、基板３１上に形成された（black matrix）を含む。光色濾過機能を備える第１のカラーフィルタ層３５（カラーレジストとも呼ぶ）は、ブラックマトリクス３３及び基板３１上に形成される。第１のカラーフィルタ層３５は、第１のカラーレジスト３５１（Ｒなど）、第２のカラーレジスト３５３（Ｇなど）及び第３のカラーレジスト３５５（Ｂなど）を含む。平坦バリヤユニット３７は、ブラックマトリクス３３及び第１のカラーフィルタ層３５の上方に形成される。平坦バリヤユニット３７は、平坦化層（over coat）及びバリヤ層（barrier layer）のうちの少なくともいずれか一つである。
【００２６】
第１のカラーレジスト３５１は、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置に形成され、第２のカラーレジスト３５３は、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成され、第３のカラーレジスト３５５は、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成される。
【００２７】
積層された第１の有機発光層４３１及び第４の有機発光層４３７により生成された第１の光源Ｓ１が第１のカラーレジスト３５１を通ると、濾過されて第１の色光Ｌ１が生成される。積層された第２の有機発光層４３３及び第４の有機発光層４３７により生成された第２の光源Ｓ２が第２のカラーレジスト３５３を通ると、濾過されて第２の色光Ｌ２が生成される。積層された第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７により生成された第３の光源Ｓ３が第３のカラーレジスト３５５を通ると、濾過されて第３の色光Ｌ３が生成される。これにより、有機ＥＬ表示装置４００は、第１の色光Ｌ１、第２の色光Ｌ２及び第３の色光Ｌ３を混合してフルカラー表示を行うことができる。カラーフィルタ３０及び第４の有機発光層４３７を設置すると、各色光源の減衰効率の不一致により発生する色偏りを防ぐことができる。
【００２８】
図２に示すように、本実施形態では、第１の有機発光層４３１が赤色光源又は橙色光源を生成し、第２の有機発光層４３３が緑色光源を生成し、第３の有機発光層４３５が青色光源を生成し、第４の有機発光層４３７が白色光源を生成する。第１のカラーレジスト３５１は赤色レジストＲであり、第２のカラーレジスト３５３は緑色レジストＧであり、第３のカラーレジスト３５５は青色レジストＢである。第１の色光Ｌ１は赤色光であり、第２の色光Ｌ２は緑色光であり、第３の色光Ｌ３は青色光である。
【００２９】
第１のカラーフィルタ層３５は、特定の波長範囲を有する光源のみを通過させることにより光色を濾過する。例えば、第１のカラーレジスト３５１が６４０から７７０ｎｍの間の波長範囲を有する光源だけを通過させる場合、白色光源（Ｓ）が第１のカラーレジスト３５１を通過すると、第１のカラーレジスト３５１が、波長範囲６４０から７７０ｎｍ以外の色光源を遮断し、第１のカラーレジスト３５１の色光波長範囲が６４０から７７０ｎｍの間の肉眼で認識できる波長を有する赤色光源だけを通過させて光色を濾過する。ただし、光色が濾過されると、同時に波長６４０から７７０ｎｍ以外の光源も第１のカラーレジスト３５１により遮断されるため、第１のカラーレジスト３５１を通過する白色光源（Ｓ）が減少し、その透過率は僅か約２５％となる。そのため、その表示輝度は低減する。
【００３０】
逆に、第１のカラーレジスト３５１は、波長範囲６４０から７７０ｎｍ（赤色レジスト）の間だけの波長を通過させるため、第１のカラーレジスト３５１は、波長範囲６５０から７６０ｎｍの赤色光源に対して良好な透過率を有する。例えば、本実施形態の光源透過率は８０％以上に達する。
【００３１】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を形成するときのマスク合わせ工程における誤差により収率が低減する問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。図２Ａに示すように、マスク合わせ工程を行う時に第２の有機発光層４３３に偏差が発生し、第２のカラーレジスト３５３の鉛直方向で対応した位置に誤差領域４３９が形成された場合、この誤差領域４３９の箇所には、第２の有機発光層４３３が形成されない。しかし、第４の有機発光層４３７が第２の有機発光層４３３上をカバーするため、誤差領域４３９の箇所は第４の有機発光層４３７によりカバーされる。誤差領域４３９の箇所にある第４の有機発光層４３７により生成される第４の光源Ｓ４は、第１の電極４１及び第２のカラーレジスト３５３を通過する。第４の光源Ｓ４は白色光源であり、第４の光源Ｓ４（白色光源）が第２のカラーレジスト３５３を通過すると、第２のカラーレジスト３５３が通過させる波長範囲を基に第２の色光Ｌ２を濾過させる。
【００３２】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を配置するときに、マスク合わせ工程により誤差が発生して収率を低減させる問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。そのため、第１の有機発光層４３１及び／又は第２の有機発光層４３３及び／又は第３の有機発光層４３５を配置するときに偏差が発生しても、有機ＥＬ表示装置４００の表示品質に影響を与えず、収率を向上させることができる。
【００３３】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含み、各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型（active matrix）の有機ＥＬ表示装置４００が形成される。このアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置は、カラーフィルタが薄膜トランジスタ上にあるＣＯＡ（color filter on array）方式やカラーフィルタが薄膜トランジスタ下にあるＡＯＣ（array on color filter）方式により製作されてもよい。
【００３４】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置４０１の基板３１、カラーフィルタ３０及び第１の電極４１の配置は、有機ＥＬ表示装置４００の基板３１、カラーフィルタ３０及び第１の電極４１と同じであるため、ここでは繰り返して述べない。有機ＥＬ素子４０において、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、第１の電極４１上に配置される。
【００３５】
また、有機ＥＬ素子４０は、正孔注入層（hole injection layer）４３２、正孔輸送層（hole transport layer）４３４、有機発光層（emitting layer）、電子輸送層（electron transport layer）４３６、電子注入層（electron injection layer）４３８、又はこれらの組み合わせからなる群から選択された一つからなる。例えば、第１の電極４１上に正孔注入層４３２及び正孔輸送層４３４を順次形成してから、正孔輸送層４３４上に第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を形成し、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５上に第４の有機発光層４３７を形成する。そして、最後に第４の有機発光層４３７上に電子輸送層４３６及び電子注入層４３８を順次形成する。正孔注入層４３２、正孔輸送層４３４、有機発光層、電子輸送層４３６、電子注入層４３８は、第１の電極と第２の電極の間に配置する。
【００３６】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、単層又は複数積層の有機発光層から選択することができる。例えば、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を単層の有機発光層とし、第４の有機発光層４３７を複数積層の有機発光層としてもよい。
【００３７】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、少なくとも一つのホストエミッタ（Host Emitter：Ｈ）内に少なくとも一つのドーパント（Dopant：Ｄ）がドーピングされたドーピング型有機発光層から選択して各色光源の目的を達成してもよい。
【００３８】
（第３実施形態）
続いて、図４を参照する。図４は、本発明の第３実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。図４に示すように、有機ＥＬ表示装置４０３は、基板３１及び有機ＥＬ素子４０を含む。図４に示す基板３１及び有機ＥＬ素子４０の配置は、図２に示す実施形態と同様であり、封止プレート３９は、有機ＥＬ素子４０が形成されていない基板３１上に配置されている。有機ＥＬ素子４０は、封止プレート３９によりカバーされているため、効果的に保護することができる。封止プレート３９の底層には、第４のカラーレジスト３８１、第５のカラーレジスト３８３及び第６のカラーレジスト３８５を備える第２のカラーフィルタ層３８を形成する。第４のカラーレジスト３８１は、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置に形成され、第５のカラーレジスト３８３は、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成され、第６のカラーレジスト３８５は、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成される。有機ＥＬ素子４０により生成された第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３は、第２のカラーフィルタ層３８により濾過する。第２の電極４５は透光導電特性を備える材料から製作されるため、第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３が第２の電極４５を通過し、有機ＥＬ表示装置４０３はトップエミッション（Top-Emission）型となる。
【００３９】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を配置するときに、マスク合わせ工程により誤差が発生して収率が低減する問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。そのため、収率を向上させることができる。
【００４０】
本実施形態は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含む。各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置４０３が形成される。
【００４１】
図２及び図４を同時に参照する。図２及び図４に示すように、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を形成すると、図２に示すようなボトムエミッション（bottom-emission）型の有機ＥＬ表示装置４００となる。また基板３１上に、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーすると、図４に示すようなトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置４０３となる。当然、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に、第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を形成し、同時に基板３１上に第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーすると、この有機ＥＬ表示装置は、双方向の発光を行うことができる。
【００４２】
この双方向の発光を行う有機ＥＬ表示装置には、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに配置してもよい。そして、これら各薄膜トランジスタを第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１とそれぞれ電気的に接続し、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置に形成してもよい。
【００４３】
（第４実施形態）
図５は、本発明の第４実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置４０５は、図２に示す基板３１及び有機ＥＬ素子４０と同じ位置に配置された基板３１及び有機ＥＬ素子４０を含む。しかし、図２に示す実施形態と異なる箇所は、有機ＥＬ表示装置４０５内の有機ＥＬ素子４０の有機発光層４３が、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第４の有機発光層４３７を含んでいる点である。
【００４４】
図５に示すように、有機ＥＬ素子４０は、第１の電極４１、有機発光層４３及び第２の電極４５を含む。第１の電極４１の上は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域４１１上に形成され、第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域４１３上に形成され、第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の上方に形成される。第１の有機発光層４３１及び第２の有機発光層４３３には、それぞれ第４の有機発光層４３７が積層方式で配置されているため、第４の有機発光層４３７は、第１の有機発光層４３１及び第２の有機発光層４３３上を選択して配置してもよい。第２の電極４５は、有機発光層４３の上方に配置する。
【００４５】
有機ＥＬ表示装置４０５は、図２に示す実施形態と同様に、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に形成されたカラーフィルタ３０をさらに含む。この構造は、図２に示すカラーフィルタ３０と同じであるため、ここでは繰り返して述べない。
【００４６】
第１の有機発光層４３１により生成される第１の光源Ｓ１は、赤色光源又は橙色光源であり、第２の有機発光層４３３により生成される第２の光源Ｓ２は、青色光源であり、第４の有機発光層４３７により生成される第４の光源は、白色光源である。この第４の有機発光層４３７は、異なる光源を適切に混合して白色光源を生成する複数積層の有機発光層でもよい。例えば、第４の有機発光層４３７を、一方の有機発光層が青色光源を生成し、他方の有機発光層が橙色光源、黄色光源又は赤色光源を生成する２層の積層型の有機層にして、第４の有機発光層４３７が生成する第４の光源Ｓ４を白色光源にしてもよい。
【００４７】
上述したように、図５に示す実施形態は、ボトムエミッション型又は双方向エミッション型の有機ＥＬ表示装置にしてもよい。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、基板３１上に、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーするが、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間には、第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０は配置されていない。双方向エミッション型の有機ＥＬ表示装置は、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９及び第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を同時に形成しなければならない。
【００４８】
本実施形態は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含む。各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置４０５が形成される。
【００４９】
図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ及び図６Ｄは、本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ及び図６Ｄに示すように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置４００の製造工程は、主に有機ＥＬ表示装置４００の第１の電極４１を形成した後に、蒸着方式により第１の電極４１上に正孔注入層４３２及び／又は正孔輸送層４３４を形成し、正孔輸送層４３４上に第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び少なくとも一つの第３の有機発光層４３５を形成する。第１の電極４１の上は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。
【００５０】
先ず、第１のマスク４８１を第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成し、第１の蒸着源４７１により第１の有機発光層４３１の蒸着工程を行う。この時、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第１の有機発光層４３１が形成される。第１の蒸着源４７１の第１の有機発光材料４６１は、第１のカラーレジスト３５１の色を基に選択してもよい。例えば、図６Ａに示すように、第１のカラーレジスト３５１が赤色レジストである場合、第１の有機発光材料４６１は赤色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５１】
その後、第２のマスク４８３を第１のサブ画素領域４１１及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成し、第２の蒸着源４７３により第２の有機発光層４３３の蒸着工程を行う。この時、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第２の有機発光層４３３が形成される。第２の蒸着源４７３の第２の有機発光材料４６３は、第２のカラーレジスト３５３の色を基に選択してもよい。例えば、図６Ｂに示すように、第２のカラーレジスト３５３が緑色レジストである場合、第２の有機発光材料４６３は緑色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５２】
続いて、第３のマスク４８５を第１のサブ画素領域４１１及び第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成し、第３の蒸着源４７５により第３の有機発光層４３５の蒸着工程を行う。この時、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第３の有機発光層４３５が形成される。第３の蒸着源４７５の第３の有機発光材料４６５は、第３のカラーレジスト３５５に応じて選択してもよい。例えば、図６Ｃに示すように、第３のカラーレジスト３５５が青色レジストである場合、第３の有機発光材料４６５は青色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５３】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５が形成された後に、第４の蒸着源４７７及び開口マスク４８７を用い、第４の蒸着源４７７により第４の有機発光層４３７の蒸着工程を行い、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の上方に第４の有機発光層４３７を形成する。図６Ｄに示すように、第４の蒸着源４７７の第４の有機発光材料４６７は、白色光源を生成する有機発光材料でもよい。
【００５４】
当然、他の実施形態では、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７の形成順序を変えてもよい。例えば、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の形成は、第４の有機発光層４３７を形成した後に行ってもよい。
【００５５】
そして第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７を形成した後に、有機ＥＬ表示装置４００の後続工程を行う。例えば、第４の有機発光層４３７上に蒸着工程を行い、点線で示すように電子輸送層４３６及び／又は少なくとも一つの電子注入層４３８及び第２の電極４５を順次形成し、有機ＥＬ表示装置４００を配置する。
【００５６】
当然、図５に示すように、本実施形態は、基板３１の上方に蒸着方式により第１の電極４１を形成してから、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に第１のマスクを形成し、第１の蒸着源により蒸着工程を行って第１の有機発光層４３１を形成してから、第２のマスクを第１のサブ画素領域４１１及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成する。その後、第２の蒸着源により第２の有機発光層４３３の蒸着工程を行って、第４の蒸着源及び開口マスクを用いて第４の有機発光層４３７の蒸着工程を行い、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に第４の有機発光層４３７を形成する。そして、最終的に有機発光層４３の上方に第２の電極４５を形成する。
【００５７】
上述の製造工程における有機発光層４３の蒸着工程は、従来の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色の有機ＥＬ素子を独立的に配置して有機ＥＬ表示装置を形成する方式よりも、マスク合わせ工程における誤差により収率が下がる問題が発生することを確実に防ぎ、フルカラーの有機ＥＬ表示装置４００の製品収率を向上させることができる。
【００５８】
当然、上述の製造工程は、アクティブマトリクス型有機ＥＬ表示装置へも適用することができるが、ここではその詳細は省略する。
【００５９】
当該施術を熟知するものが理解できるように、本発明の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではない。本発明の主旨と範囲を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本出願による特許請求の範囲は、このような変更や修正を含めて広く解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】従来の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図２Ａ】本発明の第１実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図５】本発明の第４実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【００６１】
【図６Ａ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｃ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｄ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１１ 透明基板
２３ 有機発光層
２３１ 第１の有機発光層
２３３ 第２の有機発光層
２３５ 第３の有機発光層
２３９ 誤差領域
３０ カラーフィルタ
３１ 基板
３３ ブラックマトリクス
３５ 第１のカラーフィルタ層
３５１ 第１のカラーレジスト
３５３ 第２のカラーレジスト
３５５ 第３のカラーレジスト
３７ 平坦バリヤユニット
３８ 第２のカラーフィルタ層
３８１ 第４のカラーレジスト
３８３ 第５のカラーレジスト
３８５ 第６のカラーレジスト
３９ 封止プレート
【００６３】
４０ 有機ＥＬ素子
４１ 第１の電極
４１１ 第１のサブ画素領域
４１３ 第２のサブ画素領域
４１５ 第３のサブ画素領域
４３ 有機発光層
４３１ 第１の有機発光層
４３２ 正孔注入層
４３３ 第２の有機発光層
４３４ 正孔輸送層
４３５ 第３の有機発光層
４３６ 電子輸送層
４３７ 第４の有機発光層
４３８ 電子注入層
４３９ 誤差領域
【００６４】
４５ 第２の電極
４６１ 第１の有機発光材料
４６３ 第２の有機発光材料
４６５ 第３の有機発光材料
４６７ 第４の有機発光材料
４７１ 第１の蒸着源
４７３ 第２の蒸着源
４７５ 第３の蒸着源
４７７ 第４の蒸着源
４８１ 第１のマスク
４８３ 第２のマスク
４８５ 第３のマスク
４８７ 開口マスク
【００６５】
２００ 有機ＥＬ表示装置
４００ 有機ＥＬ表示装置
４０１ 有機ＥＬ表示装置
４０３ 有機ＥＬ表示装置
４０５ 有機ＥＬ表示装置
Ａ１ 発光面積
Ａ２ 発光面積
Ｌ１ 第１の色光
Ｌ２ 第２の色光
Ｌ３ 第３の色光
Ｓ１ 第１の光源
Ｓ２ 第２の光源
Ｓ３ 第３の光源
【技術分野】
【０００１】
本発明は並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に関し、特に各光源の透過率及び色飽和度を効果的に高める上、収率を向上させる並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー（full-color）の表示効果を得る技術は、一般に表示装置の発展にとって非常に重要であった。有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）は、フルカラー表示機能を得るため、一般に以下の二つの方法を用いている。
【０００３】
（１）三原色が独立した画素発光
これは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色を生成する有機ＥＬ素子をそれぞれ個別に配置（side by side）し、これら三種類の色光を適当な比率で混合してフルカラーの表示効果を得る方法である。
【０００４】
しかし、この有機ＥＬ表示装置の製造には、複数の蒸着工程及びマスク合わせ工程において、異なる色光を生成させる有機発光層が必要となるため、製造工程が複雑で面倒な上、蒸着工程やマスク合わせ工程の困難度が高まり、製品の収率を下げて製造コストが多くかかった。
【０００５】
（２）カラーフィルタ（color filter）
これは白色光源を発生させる複数の有機発光層を配置し、カラーフィルタの使用と合わせて、白色光源を濾過する目的を達成してフルカラーの表示効果を得る方法である。
【０００６】
一般に、表示装置がカラーフィルタによりフルカラーを得る場合、白色光源の大部分が濾過されるため、有機ＥＬ表示装置の表示輝度が不足する上、電力も浪費された。
【０００７】
図１は、従来の三原色が独立した画素発光の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置２００は、透明基板１１上に形成された有機発光層２３を主に含む。この有機発光層２３は、第１の有機発光層２３１、第２の有機発光層２３３及び第３の有機発光層２３５を含む。第１の有機発光層２３１、第２の有機発光層２３３及び第３の有機発光層２３５により生成される第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３は、それぞれ赤色光源、緑色光源及び青色光源である。これにより、有機ＥＬ表示装置２００は、これら三原色を適当な比率で混合してフルカラーを表示していた。
【０００８】
マスク合わせ工程は、透明基板１１上に有機発光層２３を形成する前に行わなければならなかった。しかし、このマスク合わせ工程では、誤差が発生して有機発光層２３の形成に直接影響を与えることがあった。第２の有機発光層２３３のマスク合わせ工程が不正確な場合、第２の有機発光層２３３の位置に偏差が発生し、誤差領域２３９を発生させることがあった。誤差領域２３９の箇所には第２の有機発光層２３３が形成されていないため、この誤差領域２３９の部分は、第２の光源Ｓ２を生成することができなかった。そのため、第２の有機発光層２３３の作用面積は、元来、発光面積Ａ１だったものが発光面積Ａ２にまで減少し、第２の光源Ｓ２の発光輝度と表示装置の表示品質とに悪い影響を与えることがあった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、蒸着工程及びマスク合わせ工程により収率が低減することを防ぎ、製造コストを下げて製品の収率を向上させるとともに、光源透過率と色飽和度を高める並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、前記第３の有機発光層は、前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第３の有機発光層の上方又は下方に配置されたことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置に関する。
【００１１】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に形成された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層又は前記第４の有機発光層は、単層の有機発光層、複数積層の有機発光層及びドーピング型の有機発光層からなる群から選ばれることを特徴とする。
【００１５】
本発明の一態様は、基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層及び前記第２の有機発光層の上方又は下方に配置されることを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置に関する。
【００１６】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に配置された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする。
【００１７】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする。
【００１９】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、前記第４の有機発光層は、複数積層の有機発光層であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板上にある複数の画素の形成方法が、前記基板上に第１の電極を形成する工程と、前記第１の電極上に第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域を画する工程と、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第１のマスクでカバーする工程と、第１の蒸着源を前記第１のサブ画素領域に向け、第１の有機発光層の蒸着工程を行い、第１の光源を生成する前記第１の有機発光層を形成する工程と、前記第１のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第２のマスクでカバーする工程と、第２の蒸着源を前記第２のサブ画素領域に向け、第２の有機発光層の蒸着工程を行い、第２の光源を生成する前記第２の有機発光層を形成する工程と、第４の蒸着源及び開口マスクを用い、前記第４の蒸着源を前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域に向け、第４の有機発光層の蒸着工程を行い、第４の光源を生成する前記第４の有機発光層を形成する工程と、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層上へ第２の電極を形成する工程と、をそれぞれ含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明の一態様は、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、前記第１のサブ画素領域及び前記第２のサブ画素領域を第３のカバーでカバーする工程と、第３の蒸着源を前記第３のサブ画素領域に向け、第３の有機発光層の蒸着工程を行い、第３の光源を生成する前記第３の有機発光層を形成する工程と、をさらに含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置及びその製造方法は、各光源の透過率及び色飽和度を向上させ、マスク合わせ工程で発生する誤差が原因で、収率が低下することを確実に防ぎ、フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製品収率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
図２及び図２Ａは、本発明の第１実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。本実施形態では、分かりやすく説明するために一つの画素（pixel）を例にする。図２及び図２Ａに示すように、有機ＥＬ表示装置４００は、基板３１及び有機ＥＬ素子４０を主に含む。この有機ＥＬ素子４０は、第１の電極４１、有機発光層４３及び第２の電極４５を含む。有機発光層４３は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７を含む。
【００２４】
第１の電極４１は、基板３１の上方に配置され、第１の電極４１は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域４１１上に形成され、第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域４１３上に形成され、第３の有機発光層４３５は、第３のサブ画素領域４１５上に形成され、第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の上方に形成されている。第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５には、それぞれ第４の有機発光層４３７が積層方式で配置され、この第４の有機発光層４３７は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の上方又は下方を選択して配置してもよい。第２の電極４５は、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７の上方に配置する。
【００２５】
有機ＥＬ表示装置４００は、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に形成されたカラーフィルタ３０をさらに含む。カラーフィルタ３０は、基板３１上に形成された（black matrix）を含む。光色濾過機能を備える第１のカラーフィルタ層３５（カラーレジストとも呼ぶ）は、ブラックマトリクス３３及び基板３１上に形成される。第１のカラーフィルタ層３５は、第１のカラーレジスト３５１（Ｒなど）、第２のカラーレジスト３５３（Ｇなど）及び第３のカラーレジスト３５５（Ｂなど）を含む。平坦バリヤユニット３７は、ブラックマトリクス３３及び第１のカラーフィルタ層３５の上方に形成される。平坦バリヤユニット３７は、平坦化層（over coat）及びバリヤ層（barrier layer）のうちの少なくともいずれか一つである。
【００２６】
第１のカラーレジスト３５１は、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置に形成され、第２のカラーレジスト３５３は、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成され、第３のカラーレジスト３５５は、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成される。
【００２７】
積層された第１の有機発光層４３１及び第４の有機発光層４３７により生成された第１の光源Ｓ１が第１のカラーレジスト３５１を通ると、濾過されて第１の色光Ｌ１が生成される。積層された第２の有機発光層４３３及び第４の有機発光層４３７により生成された第２の光源Ｓ２が第２のカラーレジスト３５３を通ると、濾過されて第２の色光Ｌ２が生成される。積層された第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７により生成された第３の光源Ｓ３が第３のカラーレジスト３５５を通ると、濾過されて第３の色光Ｌ３が生成される。これにより、有機ＥＬ表示装置４００は、第１の色光Ｌ１、第２の色光Ｌ２及び第３の色光Ｌ３を混合してフルカラー表示を行うことができる。カラーフィルタ３０及び第４の有機発光層４３７を設置すると、各色光源の減衰効率の不一致により発生する色偏りを防ぐことができる。
【００２８】
図２に示すように、本実施形態では、第１の有機発光層４３１が赤色光源又は橙色光源を生成し、第２の有機発光層４３３が緑色光源を生成し、第３の有機発光層４３５が青色光源を生成し、第４の有機発光層４３７が白色光源を生成する。第１のカラーレジスト３５１は赤色レジストＲであり、第２のカラーレジスト３５３は緑色レジストＧであり、第３のカラーレジスト３５５は青色レジストＢである。第１の色光Ｌ１は赤色光であり、第２の色光Ｌ２は緑色光であり、第３の色光Ｌ３は青色光である。
【００２９】
第１のカラーフィルタ層３５は、特定の波長範囲を有する光源のみを通過させることにより光色を濾過する。例えば、第１のカラーレジスト３５１が６４０から７７０ｎｍの間の波長範囲を有する光源だけを通過させる場合、白色光源（Ｓ）が第１のカラーレジスト３５１を通過すると、第１のカラーレジスト３５１が、波長範囲６４０から７７０ｎｍ以外の色光源を遮断し、第１のカラーレジスト３５１の色光波長範囲が６４０から７７０ｎｍの間の肉眼で認識できる波長を有する赤色光源だけを通過させて光色を濾過する。ただし、光色が濾過されると、同時に波長６４０から７７０ｎｍ以外の光源も第１のカラーレジスト３５１により遮断されるため、第１のカラーレジスト３５１を通過する白色光源（Ｓ）が減少し、その透過率は僅か約２５％となる。そのため、その表示輝度は低減する。
【００３０】
逆に、第１のカラーレジスト３５１は、波長範囲６４０から７７０ｎｍ（赤色レジスト）の間だけの波長を通過させるため、第１のカラーレジスト３５１は、波長範囲６５０から７６０ｎｍの赤色光源に対して良好な透過率を有する。例えば、本実施形態の光源透過率は８０％以上に達する。
【００３１】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を形成するときのマスク合わせ工程における誤差により収率が低減する問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。図２Ａに示すように、マスク合わせ工程を行う時に第２の有機発光層４３３に偏差が発生し、第２のカラーレジスト３５３の鉛直方向で対応した位置に誤差領域４３９が形成された場合、この誤差領域４３９の箇所には、第２の有機発光層４３３が形成されない。しかし、第４の有機発光層４３７が第２の有機発光層４３３上をカバーするため、誤差領域４３９の箇所は第４の有機発光層４３７によりカバーされる。誤差領域４３９の箇所にある第４の有機発光層４３７により生成される第４の光源Ｓ４は、第１の電極４１及び第２のカラーレジスト３５３を通過する。第４の光源Ｓ４は白色光源であり、第４の光源Ｓ４（白色光源）が第２のカラーレジスト３５３を通過すると、第２のカラーレジスト３５３が通過させる波長範囲を基に第２の色光Ｌ２を濾過させる。
【００３２】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を配置するときに、マスク合わせ工程により誤差が発生して収率を低減させる問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。そのため、第１の有機発光層４３１及び／又は第２の有機発光層４３３及び／又は第３の有機発光層４３５を配置するときに偏差が発生しても、有機ＥＬ表示装置４００の表示品質に影響を与えず、収率を向上させることができる。
【００３３】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含み、各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型（active matrix）の有機ＥＬ表示装置４００が形成される。このアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置は、カラーフィルタが薄膜トランジスタ上にあるＣＯＡ（color filter on array）方式やカラーフィルタが薄膜トランジスタ下にあるＡＯＣ（array on color filter）方式により製作されてもよい。
【００３４】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第２実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置４０１の基板３１、カラーフィルタ３０及び第１の電極４１の配置は、有機ＥＬ表示装置４００の基板３１、カラーフィルタ３０及び第１の電極４１と同じであるため、ここでは繰り返して述べない。有機ＥＬ素子４０において、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、第１の電極４１上に配置される。
【００３５】
また、有機ＥＬ素子４０は、正孔注入層（hole injection layer）４３２、正孔輸送層（hole transport layer）４３４、有機発光層（emitting layer）、電子輸送層（electron transport layer）４３６、電子注入層（electron injection layer）４３８、又はこれらの組み合わせからなる群から選択された一つからなる。例えば、第１の電極４１上に正孔注入層４３２及び正孔輸送層４３４を順次形成してから、正孔輸送層４３４上に第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を形成し、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５上に第４の有機発光層４３７を形成する。そして、最後に第４の有機発光層４３７上に電子輸送層４３６及び電子注入層４３８を順次形成する。正孔注入層４３２、正孔輸送層４３４、有機発光層、電子輸送層４３６、電子注入層４３８は、第１の電極と第２の電極の間に配置する。
【００３６】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、単層又は複数積層の有機発光層から選択することができる。例えば、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を単層の有機発光層とし、第４の有機発光層４３７を複数積層の有機発光層としてもよい。
【００３７】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７は、少なくとも一つのホストエミッタ（Host Emitter：Ｈ）内に少なくとも一つのドーパント（Dopant：Ｄ）がドーピングされたドーピング型有機発光層から選択して各色光源の目的を達成してもよい。
【００３８】
（第３実施形態）
続いて、図４を参照する。図４は、本発明の第３実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。図４に示すように、有機ＥＬ表示装置４０３は、基板３１及び有機ＥＬ素子４０を含む。図４に示す基板３１及び有機ＥＬ素子４０の配置は、図２に示す実施形態と同様であり、封止プレート３９は、有機ＥＬ素子４０が形成されていない基板３１上に配置されている。有機ＥＬ素子４０は、封止プレート３９によりカバーされているため、効果的に保護することができる。封止プレート３９の底層には、第４のカラーレジスト３８１、第５のカラーレジスト３８３及び第６のカラーレジスト３８５を備える第２のカラーフィルタ層３８を形成する。第４のカラーレジスト３８１は、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置に形成され、第５のカラーレジスト３８３は、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成され、第６のカラーレジスト３８５は、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成される。有機ＥＬ素子４０により生成された第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３は、第２のカラーフィルタ層３８により濾過する。第２の電極４５は透光導電特性を備える材料から製作されるため、第１の光源Ｓ１、第２の光源Ｓ２及び第３の光源Ｓ３が第２の電極４５を通過し、有機ＥＬ表示装置４０３はトップエミッション（Top-Emission）型となる。
【００３９】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５を配置するときに、マスク合わせ工程により誤差が発生して収率が低減する問題は、第４の有機発光層４３７を配置することにより防ぐことができる。そのため、収率を向上させることができる。
【００４０】
本実施形態は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含む。各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置４０３が形成される。
【００４１】
図２及び図４を同時に参照する。図２及び図４に示すように、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を形成すると、図２に示すようなボトムエミッション（bottom-emission）型の有機ＥＬ表示装置４００となる。また基板３１上に、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーすると、図４に示すようなトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置４０３となる。当然、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に、第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を形成し、同時に基板３１上に第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーすると、この有機ＥＬ表示装置は、双方向の発光を行うことができる。
【００４２】
この双方向の発光を行う有機ＥＬ表示装置には、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに配置してもよい。そして、これら各薄膜トランジスタを第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１とそれぞれ電気的に接続し、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置に形成してもよい。
【００４３】
（第４実施形態）
図５は、本発明の第４実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置４０５は、図２に示す基板３１及び有機ＥＬ素子４０と同じ位置に配置された基板３１及び有機ＥＬ素子４０を含む。しかし、図２に示す実施形態と異なる箇所は、有機ＥＬ表示装置４０５内の有機ＥＬ素子４０の有機発光層４３が、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第４の有機発光層４３７を含んでいる点である。
【００４４】
図５に示すように、有機ＥＬ素子４０は、第１の電極４１、有機発光層４３及び第２の電極４５を含む。第１の電極４１の上は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。第１の有機発光層４３１は、第１のサブ画素領域４１１上に形成され、第２の有機発光層４３３は、第２のサブ画素領域４１３上に形成され、第４の有機発光層４３７は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の上方に形成される。第１の有機発光層４３１及び第２の有機発光層４３３には、それぞれ第４の有機発光層４３７が積層方式で配置されているため、第４の有機発光層４３７は、第１の有機発光層４３１及び第２の有機発光層４３３上を選択して配置してもよい。第２の電極４５は、有機発光層４３の上方に配置する。
【００４５】
有機ＥＬ表示装置４０５は、図２に示す実施形態と同様に、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間に形成されたカラーフィルタ３０をさらに含む。この構造は、図２に示すカラーフィルタ３０と同じであるため、ここでは繰り返して述べない。
【００４６】
第１の有機発光層４３１により生成される第１の光源Ｓ１は、赤色光源又は橙色光源であり、第２の有機発光層４３３により生成される第２の光源Ｓ２は、青色光源であり、第４の有機発光層４３７により生成される第４の光源は、白色光源である。この第４の有機発光層４３７は、異なる光源を適切に混合して白色光源を生成する複数積層の有機発光層でもよい。例えば、第４の有機発光層４３７を、一方の有機発光層が青色光源を生成し、他方の有機発光層が橙色光源、黄色光源又は赤色光源を生成する２層の積層型の有機層にして、第４の有機発光層４３７が生成する第４の光源Ｓ４を白色光源にしてもよい。
【００４７】
上述したように、図５に示す実施形態は、ボトムエミッション型又は双方向エミッション型の有機ＥＬ表示装置にしてもよい。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、基板３１上に、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９を形成して有機ＥＬ素子４０をカバーするが、基板３１と有機ＥＬ素子４０の間には、第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０は配置されていない。双方向エミッション型の有機ＥＬ表示装置は、第２のカラーフィルタ層３８を有する封止プレート３９及び第１のカラーフィルタ層３５を有するカラーフィルタ３０を同時に形成しなければならない。
【００４８】
本実施形態は、複数の薄膜トランジスタ（図示せず）をさらに含む。各薄膜トランジスタは、それぞれ第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３又は第３のサブ画素領域４１５の第１の電極４１と電気的に接続され、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置４０５が形成される。
【００４９】
図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ及び図６Ｄは、本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ及び図６Ｄに示すように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置４００の製造工程は、主に有機ＥＬ表示装置４００の第１の電極４１を形成した後に、蒸着方式により第１の電極４１上に正孔注入層４３２及び／又は正孔輸送層４３４を形成し、正孔輸送層４３４上に第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び少なくとも一つの第３の有機発光層４３５を形成する。第１の電極４１の上は、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５に画定される。
【００５０】
先ず、第１のマスク４８１を第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成し、第１の蒸着源４７１により第１の有機発光層４３１の蒸着工程を行う。この時、第１のサブ画素領域４１１の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第１の有機発光層４３１が形成される。第１の蒸着源４７１の第１の有機発光材料４６１は、第１のカラーレジスト３５１の色を基に選択してもよい。例えば、図６Ａに示すように、第１のカラーレジスト３５１が赤色レジストである場合、第１の有機発光材料４６１は赤色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５１】
その後、第２のマスク４８３を第１のサブ画素領域４１１及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成し、第２の蒸着源４７３により第２の有機発光層４３３の蒸着工程を行う。この時、第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第２の有機発光層４３３が形成される。第２の蒸着源４７３の第２の有機発光材料４６３は、第２のカラーレジスト３５３の色を基に選択してもよい。例えば、図６Ｂに示すように、第２のカラーレジスト３５３が緑色レジストである場合、第２の有機発光材料４６３は緑色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５２】
続いて、第３のマスク４８５を第１のサブ画素領域４１１及び第２のサブ画素領域４１３の鉛直方向で対応した位置に形成し、第３の蒸着源４７５により第３の有機発光層４３５の蒸着工程を行う。この時、第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置にある第１の電極４１の上方には第３の有機発光層４３５が形成される。第３の蒸着源４７５の第３の有機発光材料４６５は、第３のカラーレジスト３５５に応じて選択してもよい。例えば、図６Ｃに示すように、第３のカラーレジスト３５５が青色レジストである場合、第３の有機発光材料４６５は青色光源を生成する有機発光材料から選択してもよい。
【００５３】
第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５が形成された後に、第４の蒸着源４７７及び開口マスク４８７を用い、第４の蒸着源４７７により第４の有機発光層４３７の蒸着工程を行い、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の上方に第４の有機発光層４３７を形成する。図６Ｄに示すように、第４の蒸着源４７７の第４の有機発光材料４６７は、白色光源を生成する有機発光材料でもよい。
【００５４】
当然、他の実施形態では、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７の形成順序を変えてもよい。例えば、第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３及び第３の有機発光層４３５の形成は、第４の有機発光層４３７を形成した後に行ってもよい。
【００５５】
そして第１の有機発光層４３１、第２の有機発光層４３３、第３の有機発光層４３５及び第４の有機発光層４３７を形成した後に、有機ＥＬ表示装置４００の後続工程を行う。例えば、第４の有機発光層４３７上に蒸着工程を行い、点線で示すように電子輸送層４３６及び／又は少なくとも一つの電子注入層４３８及び第２の電極４５を順次形成し、有機ＥＬ表示装置４００を配置する。
【００５６】
当然、図５に示すように、本実施形態は、基板３１の上方に蒸着方式により第１の電極４１を形成してから、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に第１のマスクを形成し、第１の蒸着源により蒸着工程を行って第１の有機発光層４３１を形成してから、第２のマスクを第１のサブ画素領域４１１及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に形成する。その後、第２の蒸着源により第２の有機発光層４３３の蒸着工程を行って、第４の蒸着源及び開口マスクを用いて第４の有機発光層４３７の蒸着工程を行い、第１のサブ画素領域４１１、第２のサブ画素領域４１３及び第３のサブ画素領域４１５の鉛直方向で対応した位置に第４の有機発光層４３７を形成する。そして、最終的に有機発光層４３の上方に第２の電極４５を形成する。
【００５７】
上述の製造工程における有機発光層４３の蒸着工程は、従来の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色の有機ＥＬ素子を独立的に配置して有機ＥＬ表示装置を形成する方式よりも、マスク合わせ工程における誤差により収率が下がる問題が発生することを確実に防ぎ、フルカラーの有機ＥＬ表示装置４００の製品収率を向上させることができる。
【００５８】
当然、上述の製造工程は、アクティブマトリクス型有機ＥＬ表示装置へも適用することができるが、ここではその詳細は省略する。
【００５９】
当該施術を熟知するものが理解できるように、本発明の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本発明を限定するものではない。本発明の主旨と範囲を脱しない範囲内で各種の変更や修正を加えることができる。従って、本出願による特許請求の範囲は、このような変更や修正を含めて広く解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】従来の有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図２Ａ】本発明の第１実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【図５】本発明の第４実施形態による有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。
【００６１】
【図６Ａ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｃ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【図６Ｄ】本発明の一実施形態による並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の蒸着工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１１ 透明基板
２３ 有機発光層
２３１ 第１の有機発光層
２３３ 第２の有機発光層
２３５ 第３の有機発光層
２３９ 誤差領域
３０ カラーフィルタ
３１ 基板
３３ ブラックマトリクス
３５ 第１のカラーフィルタ層
３５１ 第１のカラーレジスト
３５３ 第２のカラーレジスト
３５５ 第３のカラーレジスト
３７ 平坦バリヤユニット
３８ 第２のカラーフィルタ層
３８１ 第４のカラーレジスト
３８３ 第５のカラーレジスト
３８５ 第６のカラーレジスト
３９ 封止プレート
【００６３】
４０ 有機ＥＬ素子
４１ 第１の電極
４１１ 第１のサブ画素領域
４１３ 第２のサブ画素領域
４１５ 第３のサブ画素領域
４３ 有機発光層
４３１ 第１の有機発光層
４３２ 正孔注入層
４３３ 第２の有機発光層
４３４ 正孔輸送層
４３５ 第３の有機発光層
４３６ 電子輸送層
４３７ 第４の有機発光層
４３８ 電子注入層
４３９ 誤差領域
【００６４】
４５ 第２の電極
４６１ 第１の有機発光材料
４６３ 第２の有機発光材料
４６５ 第３の有機発光材料
４６７ 第４の有機発光材料
４７１ 第１の蒸着源
４７３ 第２の蒸着源
４７５ 第３の蒸着源
４７７ 第４の蒸着源
４８１ 第１のマスク
４８３ 第２のマスク
４８５ 第３のマスク
４８７ 開口マスク
【００６５】
２００ 有機ＥＬ表示装置
４００ 有機ＥＬ表示装置
４０１ 有機ＥＬ表示装置
４０３ 有機ＥＬ表示装置
４０５ 有機ＥＬ表示装置
Ａ１ 発光面積
Ａ２ 発光面積
Ｌ１ 第１の色光
Ｌ２ 第２の色光
Ｌ３ 第３の色光
Ｓ１ 第１の光源
Ｓ２ 第２の光源
Ｓ３ 第３の光源
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、
前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、
前記第３の有機発光層は、前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第３の有機発光層の上方又は下方に配置されたことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に形成された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする、請求項２又は３に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層又は前記第４の有機発光層は、単層の有機発光層、複数積層の有機発光層及びドーピング型の有機発光層からなる群から選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、
前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層及び前記第２の有機発光層の上方又は下方に配置されることを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に配置された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする、請求項６に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする、請求項６又は７に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする、請求項７又は８に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記第４の有機発光層は、複数積層の有機発光層であることを特徴とする、請求項６に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
基板上にある複数の画素の形成方法が、
前記基板上に第１の電極を形成する工程と、
前記第１の電極上に第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域を画定する工程と、
前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第１のマスクでカバーする工程と、
第１の蒸着源を前記第１のサブ画素領域に向け、第１の有機発光層の蒸着工程を行い、第１の光源を生成する前記第１の有機発光層を形成する工程と、
前記第１のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第２のマスクでカバーする工程と、
第２の蒸着源を前記第２のサブ画素領域に向け、第２の有機発光層の蒸着工程を行い、第２の光源を生成する前記第２の有機発光層を形成する工程と、
第４の蒸着源及び開口マスクを用い、前記第４の蒸着源を前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域に向け、第４の有機発光層の蒸着工程を行い、第４の光源を生成する前記第４の有機発光層を形成する工程と、
前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層上へ第２の電極を形成する工程と、をそれぞれ含むことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１のサブ画素領域及び前記第２のサブ画素領域を第３のカバーでカバーする工程と、
第３の蒸着源を前記第３のサブ画素領域に向け、第３の有機発光層の蒸着工程を行い、第３の光源を生成する前記第３の有機発光層を形成する工程と、をさらに含むことを特徴とする、請求項１１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１】
基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第３の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、
前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、
前記第３の有機発光層は、前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第３の有機発光層の上方又は下方に配置されたことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に形成された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする、請求項２又は３に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層、前記第３の有機発光層又は前記第４の有機発光層は、単層の有機発光層、複数積層の有機発光層及びドーピング型の有機発光層からなる群から選ばれることを特徴とする、請求項１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
基板上にある複数の画素が、それぞれ第１の電極、第１の有機発光層、第２の有機発光層、第４の有機発光層及び第２の電極を備える並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置であって、
前記第１の電極は、前記基板上に配置され、前記第１の電極の上は、第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域に画定され、
前記第１の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の有機発光層は、前記第２のサブ画素領域上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域上に配置され、
前記第２の電極は、前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層の上に配置され、
前記第４の有機発光層は、前記第１の有機発光層及び前記第２の有機発光層の上方又は下方に配置されることを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第１のカラーレジスト、第２のカラーレジスト及び第３のカラーレジストを含み、前記基板と前記第１の電極の間に配置された第１のカラーフィルタ層をさらに備えることを特徴とする、請求項６に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域の鉛直方向で対応した位置にそれぞれ形成された第４のカラーレジスト、第５のカラーレジスト及び第６のカラーレジストを含む第２のカラーフィルタ層を底層に有し、前記基板上に配置された封止プレートをさらに備えることを特徴とする、請求項６又は７に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域又は前記第３のサブ画素領域の前記第１の電極とそれぞれ電気的に接続された複数の薄膜トランジスタをさらに備えることを特徴とする、請求項７又は８に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記第４の有機発光層は、複数積層の有機発光層であることを特徴とする、請求項６に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
基板上にある複数の画素の形成方法が、
前記基板上に第１の電極を形成する工程と、
前記第１の電極上に第１のサブ画素領域、第２のサブ画素領域及び第３のサブ画素領域を画定する工程と、
前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第１のマスクでカバーする工程と、
第１の蒸着源を前記第１のサブ画素領域に向け、第１の有機発光層の蒸着工程を行い、第１の光源を生成する前記第１の有機発光層を形成する工程と、
前記第１のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域を第２のマスクでカバーする工程と、
第２の蒸着源を前記第２のサブ画素領域に向け、第２の有機発光層の蒸着工程を行い、第２の光源を生成する前記第２の有機発光層を形成する工程と、
第４の蒸着源及び開口マスクを用い、前記第４の蒸着源を前記第１のサブ画素領域、前記第２のサブ画素領域及び前記第３のサブ画素領域に向け、第４の有機発光層の蒸着工程を行い、第４の光源を生成する前記第４の有機発光層を形成する工程と、
前記第１の有機発光層、前記第２の有機発光層及び前記第４の有機発光層上へ第２の電極を形成する工程と、をそれぞれ含むことを特徴とする、並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１のサブ画素領域及び前記第２のサブ画素領域を第３のカバーでカバーする工程と、
第３の蒸着源を前記第３のサブ画素領域に向け、第３の有機発光層の蒸着工程を行い、第３の光源を生成する前記第３の有機発光層を形成する工程と、をさらに含むことを特徴とする、請求項１１に記載の並列式フルカラーの有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２Ａ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図６Ｄ】
【図２】
【図２Ａ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図６Ｄ】
【公開番号】特開２００７−１２３２７８（Ｐ２００７−１２３２７８Ａ）
【公開日】平成１９年５月１７日（２００７．５．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２９０６３１（Ｐ２００６−２９０６３１）
【出願日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【出願人】（５０５１８９５７８）悠景科技股▲ふん▼有限公司 (14)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年５月１７日（２００７．５．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【出願人】（５０５１８９５７８）悠景科技股▲ふん▼有限公司 (14)
【Ｆターム（参考）】
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