光学フィルタの製造方法と光学フィルタの判別方法および有機ＥＬ表示装置
【課題】表示装置への使用が可能な光学フィルタの製造方法と、表示装置への使用が可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別する方法と、信頼性が高い有機ＥＬ表示装置とを提供する。
【解決手段】光学フィルタの製造方法を、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すものとし、光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、この積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するものとし、有機ＥＬ表示装置は、本発明の製造方法で製造した光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるように構成する。
【解決手段】光学フィルタの製造方法を、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すものとし、光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、この積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するものとし、有機ＥＬ表示装置は、本発明の製造方法で製造した光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるように構成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルタ、特に表示装置用の光学フィルタの製造方法と判別方法、および有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬ表示装置は、自発光により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体表示装置であること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光表示装置として実用化が進んでいる。
有機ＥＬ表示装置としては、例えば、（１）三原色の有機ＥＬ素子を各発光色毎に所定のパターンで配列する方式、（２）白色発光の有機ＥＬ素子を使用し、三原色のカラーフィルタ層を介して表示する方式、（３）青色発光の有機ＥＬ素子を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするＣＣＭ方式等が提案されている。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子から出た光が、例えば、カラーフィルタ層や色変換蛍光体層等を備えた光学フィルタを透過して、観察者に表示光として認識される。しかし、有機ＥＬ素子は、光学フィルタを構成するカラーフィルタ層や色変換蛍光体層等から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガスにより劣化して、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥を生じるという問題があった。
このような問題を解消するために、光学フィルタと有機ＥＬ素子との間にパッシベーション膜（バリア層）を介在させた有機ＥＬ表示装置が開発されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５−２７６４４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、光学フィルタに透明バリア層を形成することにより、有機ＥＬ表示装置の製造工程が煩雑となり、製造コストの低減に支障を来たすという問題があった。
一方、光学フィルタに透明バリア層を形成しない場合には、光学フィルタに有機ＥＬ素子を形成した後に、光学フィルタが不良品であり、表示装置全体が欠陥品となることが避けられなかった。これを防止するために、ガス発生に関して光学フィルタの良否の判別が必要であるが、従来は確実な判別方法がなかった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、表示装置への使用が可能な光学フィルタの製造方法と、表示装置への使用が可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別する方法と、信頼性が高い有機ＥＬ表示装置とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的を達成するために、本発明の光学フィルタの製造方法は、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、低酸素濃度下での加熱処理であるような構成とした。さらに、この低酸素濃度下での加熱処理は、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理の少なくとも１種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理の少なくとも１種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理の少なくとも１種であるような構成とした。
【０００６】
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、凍結乾燥処理であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、無機アンカー層を形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成し、更に無機アンカー層を形成するような構成とした。
【０００７】
本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、該積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するような構成とした。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述の本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、該光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は白色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は青色の発光層であるような構成とした。
【０００８】
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記光学フィルタが位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記光学フィルタが位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学フィルタの製造方法では、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥発生が抑制された有機ＥＬ装置を可能とする光学フィルタを製造することができ、これにより、有機ＥＬ装置の製造工程での透明バリア層の形成を不要とすることができ、また、本発明において脱ガス処理後に更に透明バリア層を形成する場合には、より高品質の光学フィルタの製造が可能となる。
また、本発明の判別方法では、ガス発生が極めて少なく有機ＥＬ表示装置に使用可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別することができ、有機ＥＬ素子の形成工程後の欠陥品発生を防止することができる。
さらに、本発明の有機ＥＬ表示装置は、構成部材から発生するガスによる有機ＥＬ素子の劣化が防止され、信頼性が高く、明瞭な表示が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［光学フィルタの製造方法］
本発明の光学フィルタの製造方法は、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すものである。
脱ガス処理としては、低酸素濃度下での加熱処理とすることができ、この場合、例えば、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理を挙げることができる。尚、本発明において低酸素濃度とは、酸素濃度の上限が５％であり、酸素濃度０％を含むものである。
また、脱ガス処理として、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理を挙げることができる。
また、脱ガス処理として、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理を挙げることができる。
さらに、脱ガス処理として、凍結乾燥処理を挙げることができる。
【００１１】
上述の処理方法は、いずれかを単独で行ってもよく、２種以上の処理方法を組み合わせてもよい。このような脱ガス処理を施すことにより、本発明で製造される光学フィルタは、水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガス発生が極めて少なく、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥発生が抑制された有機ＥＬ装置の製造を可能とする。
図１は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図１に示される光学フィルタ１は、透明基材２と、この透明基材２の一方の面に、三原色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂからなるカラーフィルタ層３と、着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス４を備えている。
本発明に使用可能な透明基材２としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００１２】
上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、例えば、有機ＥＬ表示装置用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
また、透明基材２の厚さは、通常、５０μｍ〜２．０ｍｍ程度とすることができる。
【００１３】
このような透明基材２は、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタを製造する場合には、水蒸気や酸素等のガスバリア性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基材２に、水蒸気や酸素等のガスバリア層を形成してもよい。このようなガスバリア層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
本発明で形成するカラーフィルタ層３は、入射光を色補正したり、色純度を高めるものであるり、光学フィルタを使用する表示装置に応じて適宜設定することができ、上述の例では、三原色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂからなるものであるが、これに限定されるものではない。また、カラーフィルタ層の形成に使用する材料は、特に限定されず、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。さらに、カラーフィルタ層３の厚みは、使用する材料、入射光の光学特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、０．５〜１０μｍ程度の範囲で設定することができる。
また、本発明の光学フィルタの製造方法では、カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、上述のような脱ガス処理を施してもよい。
【００１４】
図２は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図２に示される光学フィルタ１１は、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
【００１５】
平坦化層１５の形成は、樹脂材料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布し、硬化させることにより行うことができる。平坦化層の材料としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、４−メチルペンテン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレナフタレート樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、マレイン酸樹脂等の透明樹脂材が挙げられる。さらには、ポリシロキサンオリゴマー等からなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマー等と有機ポリマー等とからなる有機−無機ハイブリッド材料を挙げることもできる。
【００１６】
尚、光学フィルタ１１における透明基材１２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層１３の形成、平坦化層１５形成後の脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１の作製と同様に行うことができる。
また、本発明の光学フィルタの製造方法では、カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、上述のような脱ガス処理を施してもよい。
【００１７】
図３は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図３に示される光学フィルタ２１は、透明基材２２と、この透明基材２２の一方の面に、三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂからなるカラーフィルタ層２３と、着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス２４と、カラーフィルタ層２３上に配設された色変換蛍光体層２６と、この色変換蛍光体層２６を被覆する平坦化層２５を備えている。
色変換蛍光体層２６は、入射光を所望の色の蛍光に変換するための層であり、図示例では、有機ＥＬ素子で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂからなっている。そして、赤色変換蛍光体層２６Ｒ、緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色変換ダミー層２６Ｂが、カラーフィルタ層２３の三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｒに対応した位置に形成されている。
【００１８】
色変換蛍光体層２６の形成は、例えば、蛍光色素を単体で使用し、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成することができる。
【００１９】
上記の青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【００２０】
また、青色変換ダミー層２６Ｂは、有機ＥＬ素子で発光された青色光をそのまま透過するものであり、赤色変換蛍光体層２６Ｒ、緑色変換蛍光体層２６Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層に使用することができる。
【００２１】
このような色変換蛍光体層２６の厚みは、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、各色の色変換蛍光体層間で厚みが異なるように形成してもよい。
尚、光学フィルタ２１における透明基材２２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層２３の形成、平坦化層２５の形成、および、脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１，１１の作製と同様に行うことができる。
上述のような本発明の光学フィルタの製造方法では、水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガス発生が極めて少ない光学フィルタの製造が可能であるが、ガス発生防止の効果を更に高めるために、脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成してもよい。また、本発明の光学フィルタの製造方法では、脱ガス処理を施した後、あるいは、上記の透明バリア層を形成した後に、無機アンカー層を形成してもよい。
【００２２】
図４は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図４に示される光学フィルタ３１は、透明基材３２と、この透明基材３２の一方の面に、三原色の着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂからなるカラーフィルタ層３３と、着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス３４と、カラーフィルタ層３３を被覆する平坦化層３５、透明バリア層３７、無機アンカー層３８を備えている。
透明バリア層３７としては、電気絶縁性の無機酸化物膜を設けることが好ましく、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化鉛、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウム等の１種あるいは２種以上の酸化物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方式により形成することができる。形成する透明バリア層の厚みは、バリア性と透明性とを考慮して０．０１〜１μｍの範囲で適宜設定することができる。このような透明バリア層は、上記のような無機酸化物膜からなる２層以上の多層構成であってもよく、また、窒化珪素等の窒化物を副成分として含有したものであってもよい。
【００２３】
また、無機アンカー層３８は、本発明により製造された光学フィルタ上に、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の透明導電膜を成膜する場合において、透明導電膜の密着性を向上させる作用をなす。このような無機アンカー層としては、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、酸窒化珪素、窒化珪素等の１種あるいは２種以上を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方式により形成することができる。形成する無機アンカー層の厚みは、透明性を考慮して０．００５〜１μｍの範囲で適宜設定することができる。
【００２４】
尚、光学フィルタ３１における透明基材３２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層３３の形成、平坦化層３５の形成、および、脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１，１１の作製と同様に行うことができる。
本発明の光学フィルタの製造方法は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、ブラックマトリックス４，１４，２４，３４を形成しないものであってもよい。
【００２５】
［光学フィルタの判別方法］
本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタが有機ＥＬ表示装置に使用可能な程度にガス発生が抑制されたものであるか否かを判別するものである。
このような本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、この積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するものである。
【００２６】
加熱条件が２２０℃未満、あるいは、３時間未満であると、重量減少率が正確に測定されず、確実な良品の判別が困難となる。また、上記の加熱条件よりも厳しい条件では、重量減少が過大に測定され、本来良品と判別されるべきものが不良とされ好ましくない。
尚、上述のような本発明の光学フィルタの製造方法においては、本発明の判別方法による判別の時期は、脱ガス処理が終了した後であり、例えば、無機アンカー層や透明バリア層を形成する場合には、これらの形成工程前に行う。
上述のような本発明の判別方法は、有機ＥＬ表示装置に使用可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別することができ、有機ＥＬ素子の形成工程後の欠陥品発生を防止することができる。
【００２７】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、この光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるものである。
図５は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施形態を示す概略構成図である。図５に示される有機ＥＬ表示装置４１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ１１と、有機ＥＬ素子４２とを備えている。
光学フィルタ１１は、上述の図２に示されるものと同様の構成であり、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
【００２８】
有機ＥＬ素子４２は、光学フィルタ１１の透明基材１２と反対側に配設されたものであり、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。図示例では、有機ＥＬ素子４２は、１対の第１電極層４４、第２電極層４５と、この第１電極層４４、第２電極層４５間に挟持された有機ＥＬ発光層４３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。また、有機ＥＬ素子４２がアクティブマトリックス駆動方式である場合には、第１電極層４４を共通電極とし、第２電極層４５を画素電極とし、この画素電極が信号線、走査線、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とともに、電極配線パターンを構成するようにする。尚、第１電極層４４を画素電極とし、第２電極層４５を共通電極としてもよい。
【００２９】
有機ＥＬ素子４２を構成する有機ＥＬ発光層４３は、三原色の有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂが所定のパターンで配列したものである。これらの有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂの位置は、カラーフィルタ層１３の三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｒに対応したものとなっている。
尚、本発明では、有機ＥＬ発光層４３を構成する三原色の有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂの各パターン、および、第２電極層４５の各パターンが、隔壁４６（図５に鎖線で示す）により離間されているものであってもよい。このような隔壁４６を設けることにより、製造工程にて隔壁４６をパターニング手段として利用して有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂと第２電極層４５とを形成することができる。
図６は、本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図６に示される有機ＥＬ表示装置５１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ１１と、有機ＥＬ素子５２とを備えている。
【００３０】
光学フィルタ１１は、上述の図２に示されるものと同様の構成であり、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
有機ＥＬ素子５２は、光学フィルタ１１の透明基材１２と反対側に配設されたものであり、有機ＥＬ表示５２を構成する有機ＥＬ発光層５３は白色発光である。この有機ＥＬ素子５２は、図示例では、１対の第１電極層５４、第２電極層５５と、この第１電極層５４、第２電極層５５間に挟持された有機ＥＬ発光層５３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。しかし、有機ＥＬ素子５２は、上述の有機ＥＬ素子４２と同様に、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。
【００３１】
図７は、本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図７に示される有機ＥＬ表示装置６１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ２１と、有機ＥＬ素子６２とを備えている。
光学フィルタ２１は、上述の図３に示されるものと同様の構成であり、透明基材２２と、この透明基材２２の一方の面に、三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂからなるカラーフィルタ層２３と、着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス２４と、カラーフィルタ層２３上に配設された色変換蛍光体層２６、平坦化層２５を備えている。色変換蛍光体層２６は、有機ＥＬ素子６２で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂからなるものであり、これらがカラーフィルタ層２３の三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｒに対応した位置に形成されている。
【００３２】
有機ＥＬ素子６２は、光学フィルタ２１の透明基材２２と反対側に配設されたものであり、有機ＥＬ表示６２を構成する有機ＥＬ発光層６３は青色発光である。この有機ＥＬ素子６２は、図示例では、１対の第１電極層６４、第２電極層６５と、この第１電極層６４、第２電極層６５間に挟持された有機ＥＬ発光層６３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。しかし、有機ＥＬ素子６２は、上述の有機ＥＬ素子４２と同様に、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ表示装置４１，５１において、光学フィルタ１１の代わりに上述の光学フィルタ１，３１を使用するものであってもよい。また、有機ＥＬ表示装置６１において、光学フィルタ２１が、透明バリア層、無機アンカー層を有するものであってもよい。
【００３３】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置の各構成部材について説明する。
上述の有機ＥＬ表示装置４１，５１，６１を構成する光学フィルタ１１，２１は、上述の本発明の製造方法において説明したので、ここでの説明は省略する。
本発明の有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ素子４２，５２，６２は、上述のように、１対の電極層と、この電極層間に位置する発光層とを少なくとも有し、その駆動方式は、パッシブマトリックス、アクティブマトリックスのいずれであってもよい。
第１電極層４４，５４，６４は透明電極層であり、その材料としては、通常の有機ＥＬ表示装置に使用されるものであれば特に限定されず、上述の電極層３２と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。この第１電極層４４，５４，６４が正孔を注入するための電極である場合、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。また、第１電極層４４，５４，６４は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、その厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
【００３４】
第２電極層４５，５５，６５は、有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を介して第１電極層４４，５４，６４に直交するように配設されたものであり、その材料としては、通常の有機ＥＬ表示装置に使用されるものであれば特に限定されず、上述の第１電極層４４，５４，６４と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。この第２電極層４５，５５，６５が電子を注入するための電極である場合、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような第２電極層４５，５５，６５はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、第２電極層４５，５５，６５の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
【００３５】
尚、有機ＥＬ素子４２，５２，６２がアクティブマトリックス駆動方式である場合には、第１電極層４４と第２電極層４５の一方、第１電極層５４と第２電極層５５の一方、第１電極層６４と第２電極層６５の一方を画素電極とし、他方を共通電極とする。そして、画素電極が信号線、走査線、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とともに、電極配線パターンを構成するようにする。
有機ＥＬ素子４２，５２，６２を構成する有機ＥＬ発光層４３，５３，６３は、例えば、電極層４４，５４，６４側から正孔注入層、発光層、および電子注入層が積層された構造、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００３６】
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する発光層は、上述の図５に示す実施形態では、赤色発光、緑色発光、青色発光の三原色であるが、有機ＥＬ表示装置の使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。また、図６に示す有機ＥＬ発光層５３では白色発光、図７に示される有機ＥＬ発光層６３では青色発光とする。
【００３７】
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する発光層に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００３８】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００３９】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
特に、図７に示される有機ＥＬ素子６２において、有機ＥＬ発光層６３に使用する青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【００４０】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【００４１】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【００４２】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００４３】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
【００４４】
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。
【００４５】
（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
【００４６】
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
【００４７】
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
（正孔注入材料）
フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００４８】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
【００４９】
（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層の形成は、グラビアオフセット印刷やスクリーン印刷法等の印刷方法、フォトマスクを介した真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
上述の本発明の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００５０】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
＜光学フィルタの作製＞
透明基材として、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子（株）製）を準備した。
（ブラックマトリックスの形成）
上記の透明基材上に、スパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成した。この酸化窒化複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像を行ってレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして酸化窒化複合クロムをエッチングして、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部が、短辺方向に１００μｍピッチ、長辺方向に３００μｍピッチでマトリックス状に配列したブラックマトリックスを形成した。
【００５１】
（カラーフィルタ層の形成）
まず、赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を調製した。すなわち、赤色着色剤として縮合アゾ系顔料（チバガイギー社製 クロモフタルレッドＢＲＮ）、緑色着色剤としてフタロシアニン系顔料緑色顔料（東洋インキ（株）製 リオノールグリーン２Ｙ−３０１）、および、青色着色剤としてアントラキノン系顔料（チバガイギー社製 クロモフタルブルーＡ３Ｒ）を準備した。これらの着色剤を用い、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（１０％水溶液）を用い、ポリビニルアルコール水溶液１０重量部に対し、各着色剤を１重量部の割合で配合して、十分に混合分散させ、得られた溶液１００重量部に１重量部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を得た。
【００５２】
次に、上記の３種の着色層用感光性塗料を用いて各色の着色層を成膜してカラーフィルタ層を形成した。すなわち、上記のブラックマトリックスを形成した透明基材全面に、赤色着色層用の感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。その後、所定の着色層用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（２３０℃、３０分間）を行って、帯状（幅８５μｍ）の赤色着色層（厚み１．５μｍ）を、その幅方向がブラックマトリックスの短辺方向となり、ブラックマトリックスの開口配列上となるように、３００μｍピッチで形成した。
【００５３】
同様に、緑色着色層の感光性塗料を用いて、帯状（幅８５μｍ）の緑色着色層（厚み１．５μｍ）を、上記の赤色着色層の延設方向と平行にブラックマトリックスの開口配列上となるように、それぞれ３００μｍピッチで形成した。隣接する赤色着色層と緑色着色層のピッチは１００μｍとした。さらに、青色着色層の感光性塗料を用いて、帯状（幅８５μｍ）の青色着色層（厚み１．５μｍ）を、上記の赤色着色層の延設方向と平行に赤色着色層と緑色着色層の中間領域（ブラックマトリックスの開口配列上）に、それぞれ３００μｍピッチで形成した。これにより、着色層の延設方向と直角方向の３００μｍ幅内に、帯状（幅８５μｍ）の赤色着色層、緑色着色層、青色着色層が１００μｍピッチで配設され、この３００μｍ単位が繰り返えされてなる着色層が形成された。
【００５４】
（平坦化層の形成）
アクリレート系光硬化性樹脂（ＪＳＲ（株）製 ＪＵＰＣ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して平坦化層用塗布液を調製した。この平坦化層用塗布液を、スピンコート法によりカラーフィルタ層上に塗布し、プリベーク（１２０℃、３分間）を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光、現像を行い、次いで、ポストベーク（２３０℃、３０分間）を行って、カラーフィルタ層を被覆する平坦化層（厚み２μｍ）を形成した。
【００５５】
（脱ガス処理）
上述のように平坦化層の形成までを行った透明基材に対して、アルゴン雰囲気下にて２４０℃で４８時間の脱ガス処理を施した。
上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、透明基材上に上述のように形成した積層体を１０ｍｇ削り取り、理学電気（株）製 熱分析装置Thermo Plus2を用いて、窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は０．７６％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタを１ｍｍ×１ｍｍの寸法に切り出し、これを電子科学（株）製 高精度昇温脱離ガス分析装置を用いて、真空中で室温から２３０℃まで昇温（昇温速度６０℃／分）加熱し、２３０℃で３０分間保持した際の脱離したＨ2Ｏ分子を定量した。その結果、脱離したＨ2Ｏ分子数は６．２７Ｅ＋１６であった。
【００５６】
（無機アンカー層の形成）
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００５７】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（第１電極層の形成）
上記の光学フィルタの無機アンカー層上に、イオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、第１電極層である透明電極層を形成した。この透明電極層は、カラーフィルタ層の各着色層と平行に形成された幅８０μｍの帯状パターンであり、各着色層上に位置するものであった。
【００５８】
（補助電極の形成）
次に、上記の第１電極層を覆うように無機アンカー層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基材上からカラーフィルタ層上に乗り上げるように第１電極層上に形成されたストライプ状のパターンであり、幅１５μｍのうち５μｍが第１電極層上に位置し、幅方向の残りの部位は無機アンカー層上に位置するものであり、透明基材周縁部の端子部では幅が６０μｍのものとした。
【００５９】
（絶縁層と隔壁の形成）
アクリル系樹脂（新日鐵化学（株）製 Ｖ−２５９ＰＡ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して透明絶縁層用塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第１電極層（透明電極層）を覆うように無機アンカー層上に塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行った後、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行って絶縁層（厚み１μｍ）を形成した。この絶縁層は、第１電極層（透明電極層）と直角に交差する帯状パターン（幅２０μｍ）であり、ブラックマトリックスの遮光部上に位置するものであった。
次に、隔壁用塗料（日本ゼオン（株）製フォトレジスト ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン（株）製ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁を形成した。この隔壁は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
【００６０】
（白色有機ＥＬ素子層の形成）
次いで、上記の隔壁をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる白色有機ＥＬ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスクを介して２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁がマスクパターンとなり、各隔壁間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。
【００６１】
次に、上記と同様に、隔壁をマスクとして、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層を形成した。このとき、同時に、ルブレン（アルドリッチ（株）製）を少量含有させた。
次いで、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。
このようにして形成された白色有機ＥＬ素子層は、幅約２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁間に存在するものであり、隔壁の上部表面にも同様の層構成でダミー有機ＥＬ素子層が形成された。
【００６２】
（第２電極層の形成）
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたマスクを介して、上記の隔壁が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。
これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム／銀混合物からなる厚み２００ｎｍの第２電極層（背面電極層）が白色有機ＥＬ素子層上に形成された。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして白色有機ＥＬ素子層上に存在するものであり、隔壁の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。
その後、第２電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせて有機ＥＬ素子を封止し、有機ＥＬ表示装置を得た。
【００６３】
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置の第１電極層（透明電極層）と第２電極層（背面電極層）に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。
この発光部の任意の５ｍｍ×５ｍｍ領域を光学顕微鏡にて観察したところ、１０μｍ以上の大きさの非発光部位は観察されず、ダークエリア、ダークスポットによる不良発生がなく、また、シュリンクの発生もなく、高品質の三原色画像表示が可能であることが確認された。
【００６４】
［実施例２］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、真空中（１．０×１０-1Torr）で２２０℃、４８時間とした他は、実施例と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は０．８９％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は６．８１Ｅ＋１６であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６５】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、１０μｍ以上の大きさの非発光部位は観察されず、ダークエリア、ダークスポットによる不良発生がなく、また、シュリンクの発生もなく、高品質の三原色画像表示が可能であることが確認された。
【００６６】
［比較例１］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理を施さない他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は１．７０％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は１．２７Ｅ＋１７であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６７】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、画素内に非発光部の成長が観察された。
【００６８】
［比較例２］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、大気中で２００℃、４８時間とした他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は１．２６％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は１．１９Ｅ＋１７であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６９】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、画素内に非発光部の成長が観察された。
【００７０】
［比較例３］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、大気中で２４０℃、４８時間とした他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
しかし、この光学フィルタは、平坦化層に黄変が生じており、実用に供し得ないものであった。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光表示装置を含む表示装置の製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図３】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図４】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００７３】
１，１１，２１，３１…光学フィルタ
２，１２，２２，３２…透明基材
３，１３，２３，３３…カラーフィルタ層
１５，２５，３５…平坦化層
２６…色変換蛍光体層
３７…透明バリア層
３８…無機アンカー層
４１，５１，６１…有機ＥＬ表示装置
４２，５２，６２…有機ＥＬ素子
４３，５３，６３…有機ＥＬ発光層
４４，５４，６４…第１電極層
４５，５５，６５…第２電極層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルタ、特に表示装置用の光学フィルタの製造方法と判別方法、および有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬ表示装置は、自発光により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体表示装置であること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光表示装置として実用化が進んでいる。
有機ＥＬ表示装置としては、例えば、（１）三原色の有機ＥＬ素子を各発光色毎に所定のパターンで配列する方式、（２）白色発光の有機ＥＬ素子を使用し、三原色のカラーフィルタ層を介して表示する方式、（３）青色発光の有機ＥＬ素子を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするＣＣＭ方式等が提案されている。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子から出た光が、例えば、カラーフィルタ層や色変換蛍光体層等を備えた光学フィルタを透過して、観察者に表示光として認識される。しかし、有機ＥＬ素子は、光学フィルタを構成するカラーフィルタ層や色変換蛍光体層等から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガスにより劣化して、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥を生じるという問題があった。
このような問題を解消するために、光学フィルタと有機ＥＬ素子との間にパッシベーション膜（バリア層）を介在させた有機ＥＬ表示装置が開発されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５−２７６４４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、光学フィルタに透明バリア層を形成することにより、有機ＥＬ表示装置の製造工程が煩雑となり、製造コストの低減に支障を来たすという問題があった。
一方、光学フィルタに透明バリア層を形成しない場合には、光学フィルタに有機ＥＬ素子を形成した後に、光学フィルタが不良品であり、表示装置全体が欠陥品となることが避けられなかった。これを防止するために、ガス発生に関して光学フィルタの良否の判別が必要であるが、従来は確実な判別方法がなかった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、表示装置への使用が可能な光学フィルタの製造方法と、表示装置への使用が可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別する方法と、信頼性が高い有機ＥＬ表示装置とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的を達成するために、本発明の光学フィルタの製造方法は、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、低酸素濃度下での加熱処理であるような構成とした。さらに、この低酸素濃度下での加熱処理は、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理の少なくとも１種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理の少なくとも１種であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理の少なくとも１種であるような構成とした。
【０００６】
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理は、凍結乾燥処理であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、無機アンカー層を形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成し、更に無機アンカー層を形成するような構成とした。
【０００７】
本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、該積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するような構成とした。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述の本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、該光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は白色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は青色の発光層であるような構成とした。
【０００８】
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記光学フィルタが位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記光学フィルタが位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであるような構成とした。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学フィルタの製造方法では、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥発生が抑制された有機ＥＬ装置を可能とする光学フィルタを製造することができ、これにより、有機ＥＬ装置の製造工程での透明バリア層の形成を不要とすることができ、また、本発明において脱ガス処理後に更に透明バリア層を形成する場合には、より高品質の光学フィルタの製造が可能となる。
また、本発明の判別方法では、ガス発生が極めて少なく有機ＥＬ表示装置に使用可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別することができ、有機ＥＬ素子の形成工程後の欠陥品発生を防止することができる。
さらに、本発明の有機ＥＬ表示装置は、構成部材から発生するガスによる有機ＥＬ素子の劣化が防止され、信頼性が高く、明瞭な表示が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［光学フィルタの製造方法］
本発明の光学フィルタの製造方法は、透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すものである。
脱ガス処理としては、低酸素濃度下での加熱処理とすることができ、この場合、例えば、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理を挙げることができる。尚、本発明において低酸素濃度とは、酸素濃度の上限が５％であり、酸素濃度０％を含むものである。
また、脱ガス処理として、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理を挙げることができる。
また、脱ガス処理として、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理を挙げることができる。
さらに、脱ガス処理として、凍結乾燥処理を挙げることができる。
【００１１】
上述の処理方法は、いずれかを単独で行ってもよく、２種以上の処理方法を組み合わせてもよい。このような脱ガス処理を施すことにより、本発明で製造される光学フィルタは、水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガス発生が極めて少なく、ダークエリア、ダークスポット、シュリンク等の欠陥発生が抑制された有機ＥＬ装置の製造を可能とする。
図１は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図１に示される光学フィルタ１は、透明基材２と、この透明基材２の一方の面に、三原色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂからなるカラーフィルタ層３と、着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス４を備えている。
本発明に使用可能な透明基材２としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００１２】
上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、例えば、有機ＥＬ表示装置用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
また、透明基材２の厚さは、通常、５０μｍ〜２．０ｍｍ程度とすることができる。
【００１３】
このような透明基材２は、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタを製造する場合には、水蒸気や酸素等のガスバリア性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基材２に、水蒸気や酸素等のガスバリア層を形成してもよい。このようなガスバリア層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
本発明で形成するカラーフィルタ層３は、入射光を色補正したり、色純度を高めるものであるり、光学フィルタを使用する表示装置に応じて適宜設定することができ、上述の例では、三原色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂからなるものであるが、これに限定されるものではない。また、カラーフィルタ層の形成に使用する材料は、特に限定されず、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。さらに、カラーフィルタ層３の厚みは、使用する材料、入射光の光学特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、０．５〜１０μｍ程度の範囲で設定することができる。
また、本発明の光学フィルタの製造方法では、カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、上述のような脱ガス処理を施してもよい。
【００１４】
図２は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図２に示される光学フィルタ１１は、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
【００１５】
平坦化層１５の形成は、樹脂材料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布し、硬化させることにより行うことができる。平坦化層の材料としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、４−メチルペンテン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレナフタレート樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、マレイン酸樹脂等の透明樹脂材が挙げられる。さらには、ポリシロキサンオリゴマー等からなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマー等と有機ポリマー等とからなる有機−無機ハイブリッド材料を挙げることもできる。
【００１６】
尚、光学フィルタ１１における透明基材１２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層１３の形成、平坦化層１５形成後の脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１の作製と同様に行うことができる。
また、本発明の光学フィルタの製造方法では、カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、上述のような脱ガス処理を施してもよい。
【００１７】
図３は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図３に示される光学フィルタ２１は、透明基材２２と、この透明基材２２の一方の面に、三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂからなるカラーフィルタ層２３と、着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス２４と、カラーフィルタ層２３上に配設された色変換蛍光体層２６と、この色変換蛍光体層２６を被覆する平坦化層２５を備えている。
色変換蛍光体層２６は、入射光を所望の色の蛍光に変換するための層であり、図示例では、有機ＥＬ素子で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂからなっている。そして、赤色変換蛍光体層２６Ｒ、緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色変換ダミー層２６Ｂが、カラーフィルタ層２３の三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｒに対応した位置に形成されている。
【００１８】
色変換蛍光体層２６の形成は、例えば、蛍光色素を単体で使用し、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成することができる。
【００１９】
上記の青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【００２０】
また、青色変換ダミー層２６Ｂは、有機ＥＬ素子で発光された青色光をそのまま透過するものであり、赤色変換蛍光体層２６Ｒ、緑色変換蛍光体層２６Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層に使用することができる。
【００２１】
このような色変換蛍光体層２６の厚みは、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、各色の色変換蛍光体層間で厚みが異なるように形成してもよい。
尚、光学フィルタ２１における透明基材２２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層２３の形成、平坦化層２５の形成、および、脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１，１１の作製と同様に行うことができる。
上述のような本発明の光学フィルタの製造方法では、水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成分等のガス発生が極めて少ない光学フィルタの製造が可能であるが、ガス発生防止の効果を更に高めるために、脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成してもよい。また、本発明の光学フィルタの製造方法では、脱ガス処理を施した後、あるいは、上記の透明バリア層を形成した後に、無機アンカー層を形成してもよい。
【００２２】
図４は、このような本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。図４に示される光学フィルタ３１は、透明基材３２と、この透明基材３２の一方の面に、三原色の着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂからなるカラーフィルタ層３３と、着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス３４と、カラーフィルタ層３３を被覆する平坦化層３５、透明バリア層３７、無機アンカー層３８を備えている。
透明バリア層３７としては、電気絶縁性の無機酸化物膜を設けることが好ましく、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化鉛、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウム等の１種あるいは２種以上の酸化物を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方式により形成することができる。形成する透明バリア層の厚みは、バリア性と透明性とを考慮して０．０１〜１μｍの範囲で適宜設定することができる。このような透明バリア層は、上記のような無機酸化物膜からなる２層以上の多層構成であってもよく、また、窒化珪素等の窒化物を副成分として含有したものであってもよい。
【００２３】
また、無機アンカー層３８は、本発明により製造された光学フィルタ上に、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の透明導電膜を成膜する場合において、透明導電膜の密着性を向上させる作用をなす。このような無機アンカー層としては、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、酸窒化珪素、窒化珪素等の１種あるいは２種以上を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方式により形成することができる。形成する無機アンカー層の厚みは、透明性を考慮して０．００５〜１μｍの範囲で適宜設定することができる。
【００２４】
尚、光学フィルタ３１における透明基材３２は、上述の透明基材２と同様とすることができ、カラーフィルタ層３３の形成、平坦化層３５の形成、および、脱ガス処理は、上述の光学フィルタ１，１１の作製と同様に行うことができる。
本発明の光学フィルタの製造方法は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、ブラックマトリックス４，１４，２４，３４を形成しないものであってもよい。
【００２５】
［光学フィルタの判別方法］
本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタが有機ＥＬ表示装置に使用可能な程度にガス発生が抑制されたものであるか否かを判別するものである。
このような本発明の光学フィルタの判別方法は、光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、この積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別するものである。
【００２６】
加熱条件が２２０℃未満、あるいは、３時間未満であると、重量減少率が正確に測定されず、確実な良品の判別が困難となる。また、上記の加熱条件よりも厳しい条件では、重量減少が過大に測定され、本来良品と判別されるべきものが不良とされ好ましくない。
尚、上述のような本発明の光学フィルタの製造方法においては、本発明の判別方法による判別の時期は、脱ガス処理が終了した後であり、例えば、無機アンカー層や透明バリア層を形成する場合には、これらの形成工程前に行う。
上述のような本発明の判別方法は、有機ＥＬ表示装置に使用可能な光学フィルタであるか否かを確実に判別することができ、有機ＥＬ素子の形成工程後の欠陥品発生を防止することができる。
【００２７】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、この光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えるものである。
図５は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施形態を示す概略構成図である。図５に示される有機ＥＬ表示装置４１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ１１と、有機ＥＬ素子４２とを備えている。
光学フィルタ１１は、上述の図２に示されるものと同様の構成であり、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
【００２８】
有機ＥＬ素子４２は、光学フィルタ１１の透明基材１２と反対側に配設されたものであり、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。図示例では、有機ＥＬ素子４２は、１対の第１電極層４４、第２電極層４５と、この第１電極層４４、第２電極層４５間に挟持された有機ＥＬ発光層４３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。また、有機ＥＬ素子４２がアクティブマトリックス駆動方式である場合には、第１電極層４４を共通電極とし、第２電極層４５を画素電極とし、この画素電極が信号線、走査線、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とともに、電極配線パターンを構成するようにする。尚、第１電極層４４を画素電極とし、第２電極層４５を共通電極としてもよい。
【００２９】
有機ＥＬ素子４２を構成する有機ＥＬ発光層４３は、三原色の有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂが所定のパターンで配列したものである。これらの有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂの位置は、カラーフィルタ層１３の三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｒに対応したものとなっている。
尚、本発明では、有機ＥＬ発光層４３を構成する三原色の有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂの各パターン、および、第２電極層４５の各パターンが、隔壁４６（図５に鎖線で示す）により離間されているものであってもよい。このような隔壁４６を設けることにより、製造工程にて隔壁４６をパターニング手段として利用して有機ＥＬ発光層４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂと第２電極層４５とを形成することができる。
図６は、本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図６に示される有機ＥＬ表示装置５１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ１１と、有機ＥＬ素子５２とを備えている。
【００３０】
光学フィルタ１１は、上述の図２に示されるものと同様の構成であり、透明基材１２と、この透明基材１２の一方の面に、三原色の着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなるカラーフィルタ層１３と、着色層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス１４と、カラーフィルタ層１３を被覆する平坦化層１５を備えている。
有機ＥＬ素子５２は、光学フィルタ１１の透明基材１２と反対側に配設されたものであり、有機ＥＬ表示５２を構成する有機ＥＬ発光層５３は白色発光である。この有機ＥＬ素子５２は、図示例では、１対の第１電極層５４、第２電極層５５と、この第１電極層５４、第２電極層５５間に挟持された有機ＥＬ発光層５３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。しかし、有機ＥＬ素子５２は、上述の有機ＥＬ素子４２と同様に、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。
【００３１】
図７は、本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図７に示される有機ＥＬ表示装置６１は、本発明の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタ２１と、有機ＥＬ素子６２とを備えている。
光学フィルタ２１は、上述の図３に示されるものと同様の構成であり、透明基材２２と、この透明基材２２の一方の面に、三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂからなるカラーフィルタ層２３と、着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックス２４と、カラーフィルタ層２３上に配設された色変換蛍光体層２６、平坦化層２５を備えている。色変換蛍光体層２６は、有機ＥＬ素子６２で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層２６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層２６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層２６Ｂからなるものであり、これらがカラーフィルタ層２３の三原色の着色層２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｒに対応した位置に形成されている。
【００３２】
有機ＥＬ素子６２は、光学フィルタ２１の透明基材２２と反対側に配設されたものであり、有機ＥＬ表示６２を構成する有機ＥＬ発光層６３は青色発光である。この有機ＥＬ素子６２は、図示例では、１対の第１電極層６４、第２電極層６５と、この第１電極層６４、第２電極層６５間に挟持された有機ＥＬ発光層６３を備えたパッシブマトリックス駆動方式である。しかし、有機ＥＬ素子６２は、上述の有機ＥＬ素子４２と同様に、その駆動方式がパッシブマトリックス駆動方式、アクティブマトリックス駆動方式のいずれであってもよい。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ表示装置４１，５１において、光学フィルタ１１の代わりに上述の光学フィルタ１，３１を使用するものであってもよい。また、有機ＥＬ表示装置６１において、光学フィルタ２１が、透明バリア層、無機アンカー層を有するものであってもよい。
【００３３】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置の各構成部材について説明する。
上述の有機ＥＬ表示装置４１，５１，６１を構成する光学フィルタ１１，２１は、上述の本発明の製造方法において説明したので、ここでの説明は省略する。
本発明の有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ素子４２，５２，６２は、上述のように、１対の電極層と、この電極層間に位置する発光層とを少なくとも有し、その駆動方式は、パッシブマトリックス、アクティブマトリックスのいずれであってもよい。
第１電極層４４，５４，６４は透明電極層であり、その材料としては、通常の有機ＥＬ表示装置に使用されるものであれば特に限定されず、上述の電極層３２と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。この第１電極層４４，５４，６４が正孔を注入するための電極である場合、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。また、第１電極層４４，５４，６４は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、その厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
【００３４】
第２電極層４５，５５，６５は、有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を介して第１電極層４４，５４，６４に直交するように配設されたものであり、その材料としては、通常の有機ＥＬ表示装置に使用されるものであれば特に限定されず、上述の第１電極層４４，５４，６４と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。この第２電極層４５，５５，６５が電子を注入するための電極である場合、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような第２電極層４５，５５，６５はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、第２電極層４５，５５，６５の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
【００３５】
尚、有機ＥＬ素子４２，５２，６２がアクティブマトリックス駆動方式である場合には、第１電極層４４と第２電極層４５の一方、第１電極層５４と第２電極層５５の一方、第１電極層６４と第２電極層６５の一方を画素電極とし、他方を共通電極とする。そして、画素電極が信号線、走査線、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とともに、電極配線パターンを構成するようにする。
有機ＥＬ素子４２，５２，６２を構成する有機ＥＬ発光層４３，５３，６３は、例えば、電極層４４，５４，６４側から正孔注入層、発光層、および電子注入層が積層された構造、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【００３６】
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する発光層は、上述の図５に示す実施形態では、赤色発光、緑色発光、青色発光の三原色であるが、有機ＥＬ表示装置の使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。また、図６に示す有機ＥＬ発光層５３では白色発光、図７に示される有機ＥＬ発光層６３では青色発光とする。
【００３７】
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する発光層に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００３８】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００３９】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
特に、図７に示される有機ＥＬ素子６２において、有機ＥＬ発光層６３に使用する青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【００４０】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【００４１】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【００４２】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００４３】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
【００４４】
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。
【００４５】
（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
【００４６】
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
【００４７】
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
（正孔注入材料）
フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００４８】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
【００４９】
（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
有機ＥＬ発光層４３，５３，６３を構成する各層の形成は、グラビアオフセット印刷やスクリーン印刷法等の印刷方法、フォトマスクを介した真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
上述の本発明の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００５０】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
＜光学フィルタの作製＞
透明基材として、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子（株）製）を準備した。
（ブラックマトリックスの形成）
上記の透明基材上に、スパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成した。この酸化窒化複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像を行ってレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして酸化窒化複合クロムをエッチングして、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部が、短辺方向に１００μｍピッチ、長辺方向に３００μｍピッチでマトリックス状に配列したブラックマトリックスを形成した。
【００５１】
（カラーフィルタ層の形成）
まず、赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を調製した。すなわち、赤色着色剤として縮合アゾ系顔料（チバガイギー社製 クロモフタルレッドＢＲＮ）、緑色着色剤としてフタロシアニン系顔料緑色顔料（東洋インキ（株）製 リオノールグリーン２Ｙ−３０１）、および、青色着色剤としてアントラキノン系顔料（チバガイギー社製 クロモフタルブルーＡ３Ｒ）を準備した。これらの着色剤を用い、バインダー樹脂としてポリビニルアルコール（１０％水溶液）を用い、ポリビニルアルコール水溶液１０重量部に対し、各着色剤を１重量部の割合で配合して、十分に混合分散させ、得られた溶液１００重量部に１重量部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を得た。
【００５２】
次に、上記の３種の着色層用感光性塗料を用いて各色の着色層を成膜してカラーフィルタ層を形成した。すなわち、上記のブラックマトリックスを形成した透明基材全面に、赤色着色層用の感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。その後、所定の着色層用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（２３０℃、３０分間）を行って、帯状（幅８５μｍ）の赤色着色層（厚み１．５μｍ）を、その幅方向がブラックマトリックスの短辺方向となり、ブラックマトリックスの開口配列上となるように、３００μｍピッチで形成した。
【００５３】
同様に、緑色着色層の感光性塗料を用いて、帯状（幅８５μｍ）の緑色着色層（厚み１．５μｍ）を、上記の赤色着色層の延設方向と平行にブラックマトリックスの開口配列上となるように、それぞれ３００μｍピッチで形成した。隣接する赤色着色層と緑色着色層のピッチは１００μｍとした。さらに、青色着色層の感光性塗料を用いて、帯状（幅８５μｍ）の青色着色層（厚み１．５μｍ）を、上記の赤色着色層の延設方向と平行に赤色着色層と緑色着色層の中間領域（ブラックマトリックスの開口配列上）に、それぞれ３００μｍピッチで形成した。これにより、着色層の延設方向と直角方向の３００μｍ幅内に、帯状（幅８５μｍ）の赤色着色層、緑色着色層、青色着色層が１００μｍピッチで配設され、この３００μｍ単位が繰り返えされてなる着色層が形成された。
【００５４】
（平坦化層の形成）
アクリレート系光硬化性樹脂（ＪＳＲ（株）製 ＪＵＰＣ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して平坦化層用塗布液を調製した。この平坦化層用塗布液を、スピンコート法によりカラーフィルタ層上に塗布し、プリベーク（１２０℃、３分間）を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光、現像を行い、次いで、ポストベーク（２３０℃、３０分間）を行って、カラーフィルタ層を被覆する平坦化層（厚み２μｍ）を形成した。
【００５５】
（脱ガス処理）
上述のように平坦化層の形成までを行った透明基材に対して、アルゴン雰囲気下にて２４０℃で４８時間の脱ガス処理を施した。
上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、透明基材上に上述のように形成した積層体を１０ｍｇ削り取り、理学電気（株）製 熱分析装置Thermo Plus2を用いて、窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は０．７６％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタを１ｍｍ×１ｍｍの寸法に切り出し、これを電子科学（株）製 高精度昇温脱離ガス分析装置を用いて、真空中で室温から２３０℃まで昇温（昇温速度６０℃／分）加熱し、２３０℃で３０分間保持した際の脱離したＨ2Ｏ分子を定量した。その結果、脱離したＨ2Ｏ分子数は６．２７Ｅ＋１６であった。
【００５６】
（無機アンカー層の形成）
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００５７】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
（第１電極層の形成）
上記の光学フィルタの無機アンカー層上に、イオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、第１電極層である透明電極層を形成した。この透明電極層は、カラーフィルタ層の各着色層と平行に形成された幅８０μｍの帯状パターンであり、各着色層上に位置するものであった。
【００５８】
（補助電極の形成）
次に、上記の第１電極層を覆うように無機アンカー層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基材上からカラーフィルタ層上に乗り上げるように第１電極層上に形成されたストライプ状のパターンであり、幅１５μｍのうち５μｍが第１電極層上に位置し、幅方向の残りの部位は無機アンカー層上に位置するものであり、透明基材周縁部の端子部では幅が６０μｍのものとした。
【００５９】
（絶縁層と隔壁の形成）
アクリル系樹脂（新日鐵化学（株）製 Ｖ−２５９ＰＡ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈して透明絶縁層用塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第１電極層（透明電極層）を覆うように無機アンカー層上に塗布し、プリベーク（１００℃、３分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行った後、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行って絶縁層（厚み１μｍ）を形成した。この絶縁層は、第１電極層（透明電極層）と直角に交差する帯状パターン（幅２０μｍ）であり、ブラックマトリックスの遮光部上に位置するものであった。
次に、隔壁用塗料（日本ゼオン（株）製フォトレジスト ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン（株）製ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（２００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁を形成した。この隔壁は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
【００６０】
（白色有機ＥＬ素子層の形成）
次いで、上記の隔壁をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる白色有機ＥＬ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスクを介して２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁がマスクパターンとなり、各隔壁間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。
【００６１】
次に、上記と同様に、隔壁をマスクとして、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層を形成した。このとき、同時に、ルブレン（アルドリッチ（株）製）を少量含有させた。
次いで、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。
このようにして形成された白色有機ＥＬ素子層は、幅約２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁間に存在するものであり、隔壁の上部表面にも同様の層構成でダミー有機ＥＬ素子層が形成された。
【００６２】
（第２電極層の形成）
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたマスクを介して、上記の隔壁が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。
これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム／銀混合物からなる厚み２００ｎｍの第２電極層（背面電極層）が白色有機ＥＬ素子層上に形成された。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして白色有機ＥＬ素子層上に存在するものであり、隔壁の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。
その後、第２電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせて有機ＥＬ素子を封止し、有機ＥＬ表示装置を得た。
【００６３】
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置の第１電極層（透明電極層）と第２電極層（背面電極層）に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。
この発光部の任意の５ｍｍ×５ｍｍ領域を光学顕微鏡にて観察したところ、１０μｍ以上の大きさの非発光部位は観察されず、ダークエリア、ダークスポットによる不良発生がなく、また、シュリンクの発生もなく、高品質の三原色画像表示が可能であることが確認された。
【００６４】
［実施例２］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、真空中（１．０×１０-1Torr）で２２０℃、４８時間とした他は、実施例と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は０．８９％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は６．８１Ｅ＋１６であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６５】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、１０μｍ以上の大きさの非発光部位は観察されず、ダークエリア、ダークスポットによる不良発生がなく、また、シュリンクの発生もなく、高品質の三原色画像表示が可能であることが確認された。
【００６６】
［比較例１］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理を施さない他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は１．７０％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は１．２７Ｅ＋１７であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６７】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、画素内に非発光部の成長が観察された。
【００６８】
［比較例２］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、大気中で２００℃、４８時間とした他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
この光学フィルタについて、実施例１と同様にして、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］を測定した。その結果、重量減少は１．２６％であり、本発明の判別方法により、有機ＥＬ表示装置用の光学フィルタとして不良品であると判別された。
尚、上記の脱ガス処理が終了した光学フィルタについて、実施例１と同様にして、脱離したＨ2Ｏ分子を定量した結果、脱離Ｈ2Ｏ分子数は１．１９Ｅ＋１７であった。
次に、上記の光学フィルタの平坦化層上にスパッタリング法により、酸化シリコン膜を成膜して、無機アンカー層（厚み１５０Å）を形成した。
【００６９】
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
上記の光学フィルタを用いて、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の評価＞
上記の有機ＥＬ表示装置について、実施例１と同様の条件で、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色有機ＥＬ発光層を発光させた。そして、実施例１と同様に発光部を観察したところ、画素内に非発光部の成長が観察された。
【００７０】
［比較例３］
＜光学フィルタの作製＞
脱ガス処理の条件を、大気中で２４０℃、４８時間とした他は、実施例１と同様にして、光学フィルタを作製した。
しかし、この光学フィルタは、平坦化層に黄変が生じており、実用に供し得ないものであった。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光表示装置を含む表示装置の製造において有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図３】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図４】本発明の製造方法により製造された光学フィルタの一例を示す概略構成図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００７３】
１，１１，２１，３１…光学フィルタ
２，１２，２２，３２…透明基材
３，１３，２３，３３…カラーフィルタ層
１５，２５，３５…平坦化層
２６…色変換蛍光体層
３７…透明バリア層
３８…無機アンカー層
４１，５１，６１…有機ＥＬ表示装置
４２，５２，６２…有機ＥＬ素子
４３，５３，６３…有機ＥＬ発光層
４４，５４，６４…第１電極層
４５，５５，６５…第２電極層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記脱ガス処理は、低酸素濃度下での加熱処理であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
低酸素濃度下での加熱処理は、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記脱ガス処理は、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記脱ガス処理は、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記脱ガス処理は、凍結乾燥処理であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項８】
前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記脱ガス処理を施した後、無機アンカー層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成し、更に無機アンカー層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１２】
光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、該積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別することを特徴とする光学フィルタの判別方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、該光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１５】
前記発光層は白色の発光層であることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１６】
前記発光層は青色の発光層であることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１７】
前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１３乃至請求項１６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１８】
前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記光学フィルタが位置することを特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１９】
前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記光学フィルタが位置することを特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項２０】
前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１３乃至請求項１６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１】
透明基材上にカラーフィルタ層を形成し、その後、脱ガス処理を施すことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記脱ガス処理は、低酸素濃度下での加熱処理であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
低酸素濃度下での加熱処理は、不活性ガス雰囲気下での加熱処理、および、真空中での加熱処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記脱ガス処理は、熱風ブロー処理、マイクロ波照射処理、および、遠赤外線照射処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項５】
前記脱ガス処理は、シリコンオイル中での煮沸処理、有機溶剤中での煮沸処理、および、有機溶剤中での超音波洗浄処理の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項６】
前記脱ガス処理は、凍結乾燥処理であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項７】
前記カラーフィルタ層を被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項８】
前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を形成し、これを被覆するように平坦化層を積層形成し、その後、前記脱ガス処理を施すことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項９】
前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記脱ガス処理を施した後、無機アンカー層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記脱ガス処理を施した後、透明バリア層を形成し、更に無機アンカー層を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法。
【請求項１２】
光学フィルタの透明基材上の積層体を１０ｍｇ削り取り、該積層体を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間加熱し、重量減少率［（加熱前の重量−加熱後の重量）／加熱前の重量×１００］が１％以下の場合に、有機ＥＬ表示装置用として良品であると判別することを特徴とする光学フィルタの判別方法。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の光学フィルタの製造方法により製造された光学フィルタと、該光学フィルタの透明基材と反対側に、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１５】
前記発光層は白色の発光層であることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１６】
前記発光層は青色の発光層であることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１７】
前記有機ＥＬ素子がアクティブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１３乃至請求項１６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１８】
前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えた電極側に前記光学フィルタが位置することを特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１９】
前記アクティブマトリックス駆動方式を構成する対向した電極のうち、駆動素子を備えていない電極側に前記光学フィルタが位置することを特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項２０】
前記有機ＥＬ素子がパッシブマトリックス駆動方式のものであることを特徴とする請求項１３乃至請求項１６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−３１６５００（Ｐ２００７−３１６５００Ａ）
【公開日】平成１９年１２月６日（２００７．１２．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１４８１３８（Ｐ２００６−１４８１３８）
【出願日】平成１８年５月２９日（２００６．５．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１２月６日（２００７．１２．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年５月２９日（２００６．５．２９）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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