光学フィルムの製造方法、位相差フィルム及び偏光板
【課題】塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を流延してなる光学フィルムの製造方法であって、溶液流延法における乾燥条件、乾燥設備を最適化することにより、透明性及び光学的等方性に優れ、かつ、塩素系溶媒の含有量を低減した光学フィルムを提供する。
【解決手段】温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥することにより、解決する光学フィルム。
【解決手段】温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥することにより、解決する光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ等の自発光型表示装置等の画像表示装置に用いることができる透明性を有する光学フィルムの製造方法に関するものである。さらに本発明は、それからなる位相差フィルム、偏光板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示特性を向上させるために種々の光学シート及びフィルムが必要とされている。例えば、バックライトの光をパネル全体に拡散させる拡散フィルム、拡散された光を集光させるプリズムシート、液晶の位相差を光学補償し、斜め方向の視野角を改善する位相差フィルム、偏光子を保護する偏光子保護フィルム、液晶パネル表面の外光の反射を抑制する反射防止フィルムが挙げられる。
【０００３】
光学シート及びフィルムの製造方法としては、主に、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂等に用いられる溶液流延法、あるいは、シクロオレフィン系樹脂や、アクリル系樹脂で用いられる溶融流延法が挙げられる（例えば、特許文献１、２及び３）。２つの流延方法は、一長一短であり、それぞれに適した製膜法が選ばれる。溶融流延法は、厚膜のフィルムやシートの生産、及び大量生産に適しているが、膜厚の精度の観点から、薄膜の生産、切替ロス及び洗浄の煩雑さの観点から、少量多品種の切替生産には適していない。一方、溶液流延法は、溶融流延法では不向きな薄膜の生産、少量多品種の生産に適しており、また、溶媒に溶解すれば製膜が可能という点でも簡便に用いられる製膜方法である。セルロース系樹脂及びポリカーボネート樹脂は、溶解性に優れた低沸点の溶媒として、塩化メチレン等の塩素系溶媒を好んで使用している。しかしながら、近年環境保護の側面から、廃棄焼却時に有害な塩化水素ガスやダイオキシン等の発生の可能性がある塩素系化合物を低減、あるいは使用しない動きが見られ、塩素系溶媒を用いた溶液流延法からなるフィルムの塩素系溶媒及び塩素濃度を低減させる技術確立が必要となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３９８８５
【特許文献２】特開２００７−２４１１５１
【特許文献３】特開２００３−２６６５２０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願は、前記課題を解決するために見出されたものであり、塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を流延してなる光学フィルムの製造方法であって、溶液流延法における乾燥条件を最適化することにより、透明性及び光学的等方性に優れ、塩素系溶媒の含有量を低減した光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、下記の１〜９に関するものである。
１．塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、乾燥してなる光学フィルムの製造方法であって、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
２．前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
３．乾燥工程（１）において、入口側の乾燥炉の温度（Ｔ１）と、出口側の乾燥炉の温度（Ｔ２）が、下記一般式（１）の関係を満たす条件により乾燥することを特徴とする光学フィルムの製造方法；
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
４．前記支持体が、プラスチックフィルムであることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
５．前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートからなることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
６．前記セルロース系樹脂が、セルロースエーテルからなることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
７．前記セルロース系樹脂が、下記一般式（２）及び（３）を満たすセルロースアシレート８０〜９９重量％と、下記一般式（４）を満たすセルロースエーテル１〜２０重量部からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法；
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
（ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す）。
８．前記製造方法により得られた光学フィルムを延伸することを特徴とする位相差フィルム。
９．前記製造方法により得られた光学フィルムを少なくとも１層含んでなることを特徴とする偏光板。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、塩素系溶媒を含む樹脂溶液を流延してなる光学フィルムを製造するにあたり、溶液流延法における乾燥条件、乾燥設備を最適化することにより、生産性を維持しながら、塩素系溶媒の含有量を低減し、透明性及び等方性に優れた光学フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の光学フィルムの製造方法は、塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とするものである。
【０００９】
まず、乾燥工程（１）の説明を行う。乾燥工程（１）は第１乾燥装置を使用する。第１乾燥装置は温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる。入口側の乾燥炉は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥させることを特徴とし、さらに好ましくは、露点−２０℃以下の除湿エアーにより乾燥させることを特徴とするものである。露点が０℃より高いエアーが乾燥炉内に供給されると、塩化メチレンのような塩素系溶媒では、フィルム乾燥時の気化熱によりフィルムの熱が奪われることになり、その結果、フィルムの温度は下がり、フィルム近傍の水分が結露するため、フィルムが白化する場合がある。一方、出口側の乾燥炉は、入口側の乾燥炉で水分によるフィルム白化が発生しない程度に乾燥されていれば、除湿エアーを供給する必要はない。なお、フィルムは溶液流延され、入口側の乾燥炉、次に出口側の乾燥炉という順に乾燥される。
【００１０】
第１乾燥装置は下記一般式（１）であることが好ましい。
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
【００１１】
前記のように、入口側の乾燥炉では除湿エアーにより乾燥する必要がある一方、出口側の乾燥炉では乾燥させすぎると支持体から剥離するということが問題となる場合がある。これらの課題を解決するために、入口側の乾燥炉では、温度を高く、出口側の乾燥炉では、温度を低く設定することが好ましい。具体的には、（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃であることが好ましく、ラインスピードをさらに早くするためには、（Ｔ１）−（Ｔ２）≧３０℃であることがさらに好ましい。（Ｔ１）は５０〜１２０℃であることが好ましく、さらに６０〜１１０℃であることが生産性と外観欠陥低減のために好ましい。第１乾燥装置の入口側の温度制御可能な乾燥炉の数は、１ゾーン以上、５ゾーン以下であることが好ましい。入口側の乾燥炉が１ゾーンの場合、流延後すぐに高温環境下にさらされることになり、気泡等の外観欠陥が発生しやすいため、徐々に昇温し、乾燥することが好ましい。つまり、温度制御可能な炉の数は２つ以上、３つ以下であることが好ましい。４つ以上の場合、乾燥炉及び除湿設備の投資費用が高くなるため、好ましくない。２つ以上設置した場合、流延後すぐの炉では温度を低く設定し、その後昇温することが好ましい。一方、Ｔ２は２０〜８０℃であることが好ましく、さらに、３０〜７０℃であることが好ましい。第１乾燥装置の出口側の温度制御可能な炉の数は、１ゾーン以上、５ゾーン以下であることが好ましい。ここでいう温度は、乾燥炉内の雰囲気温度を指し、支持体の下側（流延の反対側）の雰囲気温度を測定すればよく、支持体から３〜３０ｃｍ程度の位置を測定すればよい。金属ベルト等、支持体の下側の雰囲気温度が測定できない場合は、支持体の上側の雰囲気温度を測定すればよい。
【００１２】
次に乾燥工程（２）の説明を行う。本発明の製造方法は、前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことが好ましい。
【００１３】
乾燥工程（２）は第２乾燥装置を使用する。第１乾燥装置は支持体と一緒に乾燥するが、第２乾燥装置は支持体から剥離し、フィルムのみを乾燥させることが特徴である。第２乾燥装置でのフィルムの乾燥は、フロート法、テンター法またはロール搬送法等によって搬送しながら、乾燥することができる。搬送方法に限定はないが、フロート法の場合、フィルム自体が複雑な応力を受け、光学的特性の不均一が生じやすい。また、テンター法の場合、フィルム両端を支えているピンまたはクリップの距離により、溶剤乾燥に伴うフィルムの幅収縮と自重を支えるための張力を均衡させる必要があるが、張力が過大であると厚み方向の複屈折が生じやすく、張力が過小であると、フィルムの自重を支えられずにフィルムに弛みが生じる場合がある。一方、ロール搬送法の場合、安定なフィルム搬送のための張力は原則的にフィルムの流れ方向（ＭＤ方向）にかかるため、応力の方向を一定にしやすく、面内、厚み方向ともに複屈折も生じにくい。また、ロールの位置を乾燥炉内の上下に配置することにより、乾燥炉をコンパクトとしても、乾燥炉内に滞留する時間（距離）を長くすることが可能となる。従って、フィルムの乾燥には、ロール搬送法を用いることが最も好ましい。第２乾燥装置では、ＭＤ方向に張力をかけながら乾燥するため、樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥することが好ましく、正面レターデーションをより小さくするためには、樹脂のＴｇより３５℃以上低い温度で乾燥することがさらに好ましい。
【００１４】
また、第１乾燥装置及び第２乾燥装置の乾燥時間は下記一般式（５）の関係を示すことが好ましい。
【００１５】
１．０≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦５．０ （５）
（ＨＴ１は第１乾燥装置の乾燥時間、ＨＴ２は第２乾燥装置の乾燥時間）
【００１６】
第１及び第２乾燥装置の乾燥時間とは、フィルムが乾燥装置内に滞在する時間のことを指す。乾燥時間は、乾燥炉中のフィルム長さとラインスピードの商から求められる。つまり、塩素系溶媒の含有量をより小さくするためには、乾燥炉中のフィルム長さを長く、ラインスピードを遅くすればよいということが分かる。しかしながら、乾燥炉中のフィルム長さを長くすると、その分大型設備が必要となることが問題となり、ラインスピードを遅くするのは生産性の観点から問題である。一方、生産効率の観点から考えると、第１乾燥装置のラインスピードと第２乾燥装置のラインスピードは同程度であることが好ましい。例えば、第２乾燥装置のラインスピードを速くしすぎても、第１乾燥装置のラインスピードが遅く、その結果、第１乾燥装置で生産されるフィルムが少なく、第２乾燥装置で乾燥させるフィルムがなくなってしまうため、ラインスピードと相関のあるＨＴ１とＨＴ２のバランスをとった生産条件を設定する必要がある。一方、第２乾燥装置は、前記したようにロール搬送法を適用できるため、乾燥炉内のフィルム長さを長くすることができる。従って、同じラインスピードでも乾燥時間ＨＴ２を長くすることができるため、
１．０≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦５．０ （５）
であることが好ましく、さらに、
１．５≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦３．０ （６）
であることが生産性の観点から好ましい。
【００１７】
第１乾燥装置及び第２乾燥装置で乾燥した本発明の塩素系溶媒の含有量は、８００ｐｐｍで以下である。さらに５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。環境面からは、フィルムに含有する溶媒量だけでなく、含塩素量の低減が重要であり、含塩素量は５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３００ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。また、これら塩素系溶媒の含有量は、残存していると徐々に揮発し、長期使用時の位相差変動の要因となるため、上記範囲内であることが好ましい。
【００１８】
本発明には塩素系溶媒が使用される。塩素系溶媒は樹脂の溶解性が高く、塩素系溶媒自体の引火点が非常に高いという特徴があるため、溶液流延法に好適に使用される。これらのバランスに優れ、かつ、低沸点で乾燥効率が優れるという観点から塩化メチレンが使用される。塩化メチレンは単独で使用しても併用で使用してもかまわない。溶媒の回収の観点からは塩化メチレン１００％で使用することが好ましい。塩化メチレンだけでは十分な溶解性を得られない場合には、その他溶媒を使用してもかまわない。併用する溶媒は生産性の観点から、沸点が１００℃以下の溶媒が好適に使用される。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチルやプロピオン酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール溶媒などが使用可能である。これら溶媒を併用する場合、混合溶媒として非危険物として取り扱うことができる範囲であることが好ましく、具体的には、７０重量％以上の塩化メチレンからなることが好ましい。また、本発明で言う溶媒とは乾燥工程や延伸工程においてフィルムにかかる最大温度よりも沸点が低い溶剤の事を指し、乾燥工程や延伸工程における最大温度より沸点が高い液体は可塑剤と言う。
【００１９】
本発明の光学フィルムはセルロース系樹脂が使用される。偏光子保護フィルムに使用する場合には光学的等方性に優れ、また、位相差フィルムに使用する場合には逆波長分散特性（波長が大きくなるにつれて、位相差が大きくなる特性）を示す点において、セルロースアシレートが好適に使用される。本発明のセルロースアシレートとは、セルロースの２，３，６位に、炭素数２〜４のアシル基が置換されたものをいう。置換されるアシル基は単独の置換基（例えば、炭素数３のプロピオニル基のみ）であってもかまわないし、併用の置換基（例えば、炭素数２のアセチル基と炭素数４のブチリル基の併用）であってもかまわない。また、全部の位置にアシル基が置換されている必要はなく、セルロース由来のヒドロキシル基があってもかまわない。
【００２０】
また、塩素系溶媒への溶解性の観点及び入手性の観点から、セルロースアセテートプロピオネートあるいはセルロースアセテートブチレートが好適に使用される。偏光子保護フィルム等に一般的に使用されているトリアセチルセルロースは塩化メチレン単独で溶解せず、エタノール等のアルコールを併用しなければ、溶解させることができないため、溶媒の回収を考えると、塩化メチレン単独で溶解するセルロースアセテートプロピオネートあるいはセルロースアセテートブチレートが好適に使用される。これらの樹脂は単独で使用しても、併用してもかまわない。具体的には、下記（２）及び（３）式を満たすセルロースアシレートを含むことを特徴とする。
【００２１】
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
【００２２】
ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計を示す。アシル基の置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に記載の方法にて定量することができる。アシル基は、炭素数３のプロピオニル基、または炭素数４のブチリル基が工業的に容易に得られるため好ましい。特にプロピオニル基を用いた場合は、臭気の点で好ましい。本発明において（２）式が意味するところは、次の通りである。ＤＳａｃ＋ＤＳａｙを２．２０以上２．９０以下とすることにより、延伸した際に、延伸方向に遅相軸を有する位相差フィルムを作成することができる。また得られる位相差フィルムは長波長側ほど正面レターデーションが大きくなる（逆波長分散性）。ＤＳａｃ＋ＤＳａｙが２．９０よりも大きいと、延伸方向と直交する方向に遅相軸を有する位相差フィルムが得られるため好ましくない。またＤＳａｃ＋ＤＳａｙが２．２０よりも小さいと、水酸基が増えることにより、特に耐湿熱環境下での特性変化が起こるため、好ましくない場合がある。従って、ＤＳａｃ＋ＤＳａｙは、２．２０以上２．９０以下の値であることが好ましい。さらに、ＤＳａｃ＋ＤＳａｙは、２．５０以上２．９０以下の値であることが好ましい。また、溶解性の観点から、ＤＳｐｒは２．５０以上２．９０以下の値であることが好ましい。
【００２３】
上述した、逆波長分散性の観点から言えば、セルロースの水酸基は、アセチル基で置換してもプロピオニル基で置換しても目的を達成できる。しかしながら、溶液流延法で厚み精度の良いフィルムを製膜するためには、高濃度溶液の調製が可能であることが好まれる。このような観点から、アセチル置換度（ＤＳａｃ）の高いセルロースアシレートよりも、炭素数３または炭素数４のアシル基の置換度（ＤＳａｙ）の高いセルロースアシレートの方が有機溶剤に対する溶解性が高く、特に塩化メチレンを用いる場合においては顕著な差が認められる。従って、ＤＳａｙは高い方が好ましく、すなわち、セルロースアシレートは（３）式である、ＤＳｐｒ／ＤＳａｃ≧２を満足することが好ましく、さらに、ＤＳｐｒ／ＤＳａｃ≧４を満足することが好ましい。
【００２４】
また、塩素系溶媒への優れた溶解性を示すという観点から、セルロースエーテルも好適に使用することができる。例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。位相差フィルムとして使用する場合、低波長分散特性（光の波長によって、位相差値が変化しない）、さらに、優れた位相差発現性の観点から、エチルセルロースが好適に使用される。エチルセルロースのエトキシル基の置換度は、多くなればなるほど、疎水性が高くなり、少なくなればなるほど、水酸基が多くなるため、水への親和性が高くなる。つまり、エトキシル置換度が低いエチルセルロースは水への親和性が高くなるため、耐湿熱環境での位相差等の特性変化が大きくなる。一方、エトキシル置換度が高くなればなるほど、位相差発現性が悪くなるため、エトキシル置換度は、
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
であることが好ましく、位相差発現性と耐湿熱環境の安定性のバランスから、
２．２≦ＤＳｅｔ≦２．５ （７）
であることが特に好ましい。ここで、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す。
【００２５】
セルロースアシレートとセルロースエーテルは単独で使用してもよく、併用してもかまわない。併用する場合、セルロースエーテルとセルロースアシレートの含有量は、セルロースエーテルとセルロースアシレートの合計を１００重量％とすると、特に制限はないが、狙いの波長分散値、位相差発現性に合わせて、好適に組み合わせることができ、逆波長分散特性を有するためには、セルロースアシレート８０〜９９重量％、セルロースエーテル１〜２０重量％であることが好ましく、さらに、薄膜の逆波長分散フィルムとするためには、セルロースアシレート８５〜９７重量％、セルロースエーテル３〜１５重量％であることが好ましい。
【００２６】
使用する樹脂の分子量は特に制限はなく、フィルム化したときに十分な靭性を付与できていればよい。例えば、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのようなセルロースアシレート、エチルセルロースのようなセルロースエーテルの場合、数平均分子量３０，０００〜１５０，０００（ポリスチレン換算）のものが好適に使用される。分子量が３０，０００より小さいと、フィルムが脆くなるため、好ましくない。また、分子量が１５０，０００より大きいと、溶媒への溶解性が悪く、溶解時間がかかり、また、樹脂溶液の固形分濃度が低くなりすぎるため、溶剤使用量が多くなるため、製造上好ましくない。
【００２７】
また、フィルム化の際に、必要に応じて少量の可塑剤、熱安定剤、紫外線安定剤や離形剤等の添加剤を加えてもよい。得られたフィルムが脆い場合、延伸などの加工特性を改善する目的で可塑剤を加えることは有効である。可塑剤は、乾燥工程、延伸工程においてフィルムにかかる最大温度より沸点が高いもので、使用する樹脂及び溶媒に相溶すれば特に限定されるものではない。ただし、可塑剤を多く含有すると、ブリードアウトの原因となるため、添加量は全固形分の５重量％以内であることが好ましい。また芳香環が多い可塑剤はリターデーション上昇剤として作用してしまい、所望の光学特性が得難くなる場合があるため、可塑剤の光学特性を考慮した処方設計とする必要がある。
【００２８】
溶液流延法によりフィルム化する際、樹脂を溶媒に溶解したのち、支持体にキャストし、乾燥してフィルムとする。溶液の好ましい粘度は１.０Ｐａ・ｓ以上１０.０Ｐａ・ｓ以下、さらに好ましくは１.５Ｐａ・ｓ以上５.０Ｐａ・ｓ以下である。
【００２９】
本発明では前記樹脂溶液を支持体に流延してフィルム化する。支持体としては、ステンレス鋼などのエンドレスベルトや、ポリイミドフィルム、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等のようなプラスチックフィルム等が挙げられる。使用する樹脂によっては、支持体との密着性が強すぎる場合、弱すぎる場合がある。支持体をプラスチックフィルムとした場合、支持体の表面処理（例えば、易接着コーティングやコロナ処理等）により、フィルムとの密着性を制御することができるため、特に好適に使用することができる。支持体として用いられるプラスチックフィルムの厚みは特に制限されないが、５０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以上、２５０μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以上、２００μｍ以下であることがさらに好ましい。支持体が上記範囲より薄いと、自己支持性が低くなくなるため、溶液を流延した際に弛みが生じ、得られる光学フィルムにも弛みが生じやすくなる。また、支持体が上記範囲より厚いと、支持体の柔軟性が失われ、ハンドリング性に劣る他、支持体のコストが増大するといった問題がある。また、支持体として用いられるフィルムは、その強度を保つために、二軸延伸されたものであることが好ましい。前記の要件を満たす支持体として、具体的には、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステルからなるフィルムや、ポリイミドかなるフィルムおよびこれらの二軸延伸品等が挙げられる。特に溶液流延法に適した広幅のものを安価に入手でき、かつセルロース系樹脂と適宜な剥離性を有することから二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。
【００３０】
本発明の光学フィルムの厚みは、フィルム自体の支持性、位相差フィルムとして使用するときの位相差、波長分散等の光学特性を狙いの値とするために、適宜決定される。２０μｍから２００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍから１００μｍである。さらに、延伸後に逆波長分散に優れ、かつ、λ／４板としての位相差を発現させるためには、４０μｍから１００μｍであることが好ましい。フィルムの光線透過率は８５％以上が好ましく、より好ましくは、９０％以上である。
【００３１】
また、本発明の光学フィルムを延伸することにより、液晶ディスプレイ等に使用される位相差フィルムに好適に使用される。延伸方法としては２本のニップロールの周速比を変化させて延伸する縦一軸延伸、テンタークリップにより光学フィルムの端部をクリップし拡縮する横延伸等の一軸延伸が挙げられる。横延伸時は、縦方向が拘束されているため、実質的には二軸延伸となっているため、特開５−１１１１１に示されているような延伸を行うことにより、横方向に光学的に一軸な位相差フィルムを得ることができる。また、これらの組み合わせにより二軸延伸も可能である。さらに、特開平５−１５７９１１号公報に示されるような特殊な二軸延伸を施し、フィルム厚み方向の屈折率を大きくすることも可能である。また、円偏光板として使用する場合は、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸をある角度（例えば４５°）に積層する必要がある。通常は、位相差フィルムを遅相軸を４５°となるように長尺のフィルムをカットする必要があるが、特開２００２−２２９４４に示されるような斜め延伸を行うことにより、ロールトゥロールで積層することができる。
【００３２】
一般には延伸倍率は１．０１倍から４倍であり、延伸温度はガラス転移温度Ｔｇに対して、（Ｔｇ−３０）℃以上、（Ｔｇ＋３０）℃以下が好ましい範囲である。特に好ましい延伸温度は（Ｔｇ−２０）℃以上、（Ｔｇ＋２０）℃以下までの範囲であり、さらに好ましくは（Ｔｇ−１０）℃以上、（Ｔｇ＋１５℃）以下である。ただし、ここでいう延伸温度とは、延伸を実施する炉内の温度がすべてこの温度で均一なければならないということを意味するのではなく、延伸を実施する炉内の最高温度を表しており、炉内の他の点が前記温度範囲から外れていてもよい。また、ガラス転移温度は示差熱分析法（ＤＳＣ）を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１２１に記載の方法にて測定することができる。延伸温度が前記範囲より低いと、延伸時にフィルムが破断したり、ヘイズが上昇する傾向がある。また、前記範囲より高いと、十分な位相差を得ることができない傾向にある。この温度範囲よりとすることにより、延伸時のフィルム白化を防止でき、また、得られた位相差フィルムの位相差のバラツキを小さくすることができる。
【００３３】
本発明により得られる位相差フィルムの実用に際しては、例えば位相差フィルムの片面又は両面に粘着層を設けたものや、その粘着層を介して偏光フィルム、および／または、等方性の透明な樹脂層やガラス層等からなる保護層を接着積層したものなどの２層又は３層以上の積層体からなる適宜な形態の光学部材、特に光学補償板として適用することもできる。特に本発明の位相差フィルムと偏光板を積層することで、光学補償偏光板とすることができる。中でも、本発明の位相差フィルムと偏光板をロール・ツゥー・ロールで積層してなる光学補償偏光板は、低コスト、高生産性を有するため好ましい構成である。また、本発明の光学フィルムは偏光子保護フィルムとして、位相差フィルムは偏光子保護兼用の位相差フィルムとして、偏光子と直接積層して好適に用いられる。また、本発明の位相差フィルムは、偏光板の吸収軸と略４５°に積層して、円偏光板としての機能を付与することができる。特に、ポリカーボネートのような正常分散（Ｒ０（４５０）／Ｒ０（５５０）＞１．０５、Ｒ０（λ）は波長λｎｍで測定したときの正面レターデーション）を示す位相差フィルムは、円偏光板を通した反射光の着色があるが、例えば、セルロースアシレートを用いると、逆波長分散特性を発現し、略λ／４の位相差値に設定すると、反射光の着色を抑制することができる。
【００３４】
前記偏光板として使用されるものは特に限定されず、適宜なものを用いることができる。例えば、偏光フィルムとしてはポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムのような親水性高分子フィルムにヨウ素及び／ 又は二色性染料を吸着させて延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物のようなポリエン配向フィルム等からなるもの等があげられる。偏光フィルムの配向方法は特に限定されないが、一般には、フィルムを長手方向および／ または幅方向に延伸したものが用いられる。前記偏光フィルムが、フィルム長手方向に延伸を行ったものである場合は、偏光板の透過軸と位相差フィルムの遅相軸が略平行となり、偏光フィルムが幅方向に延伸を行ったものである場合は、偏光板の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸が略平行となる。これらはいずれも好ましい構成であるが、生産性の観点から、偏光フィルムはフィルム長手方向に延伸を行ってなるものがより好ましい。
【００３５】
偏光板、特に偏光フィルムは、その片側又は両側に透明保護層を有するものであってもよい。また偏光板は、反射層を有する反射型のものであってもよい。反射型の偏光板は、視認側（表示側） からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化をはかりやすいなどの利点を有する。
【００３６】
前記の透明保護層は、ポリマーの塗布層や保護フィルムの積層物などとして適宜に形成でき、その形成には透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーなどが好ましく用いられる。その例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、あるいは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。透明保護層は、微粒子の含有によりその表面が微細凹凸構造に形成されていてもよい。特に、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いる場合は、接着性を上昇させるために、フィルム表面をケン化処理して用いることもできる。さらにまた、本発明の位相差フィルムを偏光フィルムの透明保護層と用いることで、光学補償偏光板を形成することもできる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３８】
(測定及び評価方法)
本明細書に記載の特性値等は、以下の評価法によって得られたものである。
【００３９】
（１）乾燥途中での支持体からの剥離
第１乾燥装置での乾燥中に、フィルムが支持体から剥がれないものを○、部分的に剥がれるものを△、完全に剥がれるものを×とした。
【００４０】
（２）フィルム外観
第１乾燥装置での乾燥後のフィルム外観を観察した。目視で白化していないものを○、一部分が白化しているものを△、全面に白化しているもの×とした。
【００４１】
（３）正面リターデーション測定
フィルムの略中央部より５０ｍｍ角のサンプルを切り出し、シンテック社製ＯＰＴＩＰＲＯにより、５９０ｎｍでの正面リターデーションを測定した。
【００４２】
（４）フィルム中の塩化メチレン含有量の測定
フィルムの略中央部より１０ｍｍ角のサンプルを切り出し、1ｗｔ％の濃度でジオキサンに溶解し、この溶液中の塩化メチレン濃度をガスクロマトグラフィーにて測定を行った。ガスクロマトグラフィーの装置は、Ｈｐ６８９０ｓｅｒｉｅｓ ＧＣ Ｓｙｓｔｅｍ、ＨＰ６８９０ｓｅｒｉｅｓ ＡｕｔｏＳａｍｐｌｅｒ（ＨＥＷＬＥＴＴ ＰＡＣＫＡＲＤ製)、ＨＧ−２５００（ＧＬ Ｓｃｔｅａｃｅｓ製)、ＫＡＰＳＥＬ−ＣＯＮ Ｙｅ−３Ｒ（八重崎空圧製）を使用し、カラムは１２３−７０３２（Ｊ＆Ｗ製）を用いた。サンプルの注入量は２μｌ、注入口の温度は２２５℃、圧力は９．５ｐｓｉとした。オーブンの初期温度は３５℃とし、５分間保持した後、昇温速度２０℃／分で１５５℃まで昇温した。キャリアガスはＨｅとし、圧力９．５ｐｓｉ、流量２．２ｍｌ／分とした。検出器はＦＩＤで、Ｈ2流量４０ｍｌ／分、ＡＩＲ流量４５０ｍｌ／分とした。
【００４３】
（５）ガラス転移温度の測定
セイコー電子工業製示差走査熱量計ＤＳＣ２２０Ｃにより、ＪＩＳ Ｋ−７１２１に記載の方法にて測定した。
【００４４】
（溶液１の調製）
アセチル基の置換度が０．１、プロピオニル基の置換度が２．７であるセルロースアセテートプロピオネート（イーストマンケミカル製セルロースエステルＣＡＰ４８２−２０）を１００重量部、塩化メチレンを６７０重量部含む溶液を調製した。これを溶液１とした。
【００４５】
（溶液２の調整）
アセチル基の置換度が０．１、プロピオニル基の置換度が２．７であるセルロースアセテートプロピオネート（イーストマンケミカル製、ＣＡＰ４８２−２０）を９０重量部、エトキシル基の置換度が２．３であるエチルセルロース（ダウケミカル製、ＭＥＤ−７０）を１０重量部、塩化メチレンを６７０重量部含む溶液を調製した。これを溶液２とした。
【００４６】
（溶液３の調整）
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン成分を有するポリカーボネート（三菱エンジニアリングプラスチック製、ユーピロンＫ４１００）を１００重量部、塩化メチレンを４００重量部含む溶液を調整した。これを溶液３とした。
【００４７】
（実施例１〜６、比較例１〜５）
溶液１を２３℃、湿度２５％の環境下で、流れ方向に１×１０6Ｎ／ｍ2の応力を付与した状態の厚み１２５μｍのＰＥＴ（東レ製、Ｕ４２６）支持体上に、乾燥後の厚みが８０μｍとなるようにコンマコーターと支持体のギャップを設定し、連続的に流延した。表１のように設定された第１乾燥装置により、流延された溶液を支持体とともに乾燥させ、１次乾燥フィルムとした。このときのフィルム外観及び乾燥後の支持体からの剥離の有無に関して、表１に示した。その後、１次乾燥フィルムをＰＥＴより剥離し、流れ方向に１×１０5Ｎ／ｍ2の応力を付与した状態で、表２のように設定された第２乾燥装置により乾燥させ、評価用フィルムを得た。フィルム中の塩化メチレン含有量、正面レターデーション及びガラス転移温度を表２に示した。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ等の自発光型表示装置等の画像表示装置に用いることができる透明性を有する光学フィルムの製造方法に関するものである。さらに本発明は、それからなる位相差フィルム、偏光板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示特性を向上させるために種々の光学シート及びフィルムが必要とされている。例えば、バックライトの光をパネル全体に拡散させる拡散フィルム、拡散された光を集光させるプリズムシート、液晶の位相差を光学補償し、斜め方向の視野角を改善する位相差フィルム、偏光子を保護する偏光子保護フィルム、液晶パネル表面の外光の反射を抑制する反射防止フィルムが挙げられる。
【０００３】
光学シート及びフィルムの製造方法としては、主に、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂等に用いられる溶液流延法、あるいは、シクロオレフィン系樹脂や、アクリル系樹脂で用いられる溶融流延法が挙げられる（例えば、特許文献１、２及び３）。２つの流延方法は、一長一短であり、それぞれに適した製膜法が選ばれる。溶融流延法は、厚膜のフィルムやシートの生産、及び大量生産に適しているが、膜厚の精度の観点から、薄膜の生産、切替ロス及び洗浄の煩雑さの観点から、少量多品種の切替生産には適していない。一方、溶液流延法は、溶融流延法では不向きな薄膜の生産、少量多品種の生産に適しており、また、溶媒に溶解すれば製膜が可能という点でも簡便に用いられる製膜方法である。セルロース系樹脂及びポリカーボネート樹脂は、溶解性に優れた低沸点の溶媒として、塩化メチレン等の塩素系溶媒を好んで使用している。しかしながら、近年環境保護の側面から、廃棄焼却時に有害な塩化水素ガスやダイオキシン等の発生の可能性がある塩素系化合物を低減、あるいは使用しない動きが見られ、塩素系溶媒を用いた溶液流延法からなるフィルムの塩素系溶媒及び塩素濃度を低減させる技術確立が必要となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３９８８５
【特許文献２】特開２００７−２４１１５１
【特許文献３】特開２００３−２６６５２０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願は、前記課題を解決するために見出されたものであり、塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を流延してなる光学フィルムの製造方法であって、溶液流延法における乾燥条件を最適化することにより、透明性及び光学的等方性に優れ、塩素系溶媒の含有量を低減した光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、下記の１〜９に関するものである。
１．塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、乾燥してなる光学フィルムの製造方法であって、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
２．前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
３．乾燥工程（１）において、入口側の乾燥炉の温度（Ｔ１）と、出口側の乾燥炉の温度（Ｔ２）が、下記一般式（１）の関係を満たす条件により乾燥することを特徴とする光学フィルムの製造方法；
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
４．前記支持体が、プラスチックフィルムであることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
５．前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートからなることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
６．前記セルロース系樹脂が、セルロースエーテルからなることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
７．前記セルロース系樹脂が、下記一般式（２）及び（３）を満たすセルロースアシレート８０〜９９重量％と、下記一般式（４）を満たすセルロースエーテル１〜２０重量部からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法；
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
（ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す）。
８．前記製造方法により得られた光学フィルムを延伸することを特徴とする位相差フィルム。
９．前記製造方法により得られた光学フィルムを少なくとも１層含んでなることを特徴とする偏光板。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、塩素系溶媒を含む樹脂溶液を流延してなる光学フィルムを製造するにあたり、溶液流延法における乾燥条件、乾燥設備を最適化することにより、生産性を維持しながら、塩素系溶媒の含有量を低減し、透明性及び等方性に優れた光学フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の光学フィルムの製造方法は、塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とするものである。
【０００９】
まず、乾燥工程（１）の説明を行う。乾燥工程（１）は第１乾燥装置を使用する。第１乾燥装置は温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる。入口側の乾燥炉は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥させることを特徴とし、さらに好ましくは、露点−２０℃以下の除湿エアーにより乾燥させることを特徴とするものである。露点が０℃より高いエアーが乾燥炉内に供給されると、塩化メチレンのような塩素系溶媒では、フィルム乾燥時の気化熱によりフィルムの熱が奪われることになり、その結果、フィルムの温度は下がり、フィルム近傍の水分が結露するため、フィルムが白化する場合がある。一方、出口側の乾燥炉は、入口側の乾燥炉で水分によるフィルム白化が発生しない程度に乾燥されていれば、除湿エアーを供給する必要はない。なお、フィルムは溶液流延され、入口側の乾燥炉、次に出口側の乾燥炉という順に乾燥される。
【００１０】
第１乾燥装置は下記一般式（１）であることが好ましい。
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
【００１１】
前記のように、入口側の乾燥炉では除湿エアーにより乾燥する必要がある一方、出口側の乾燥炉では乾燥させすぎると支持体から剥離するということが問題となる場合がある。これらの課題を解決するために、入口側の乾燥炉では、温度を高く、出口側の乾燥炉では、温度を低く設定することが好ましい。具体的には、（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃であることが好ましく、ラインスピードをさらに早くするためには、（Ｔ１）−（Ｔ２）≧３０℃であることがさらに好ましい。（Ｔ１）は５０〜１２０℃であることが好ましく、さらに６０〜１１０℃であることが生産性と外観欠陥低減のために好ましい。第１乾燥装置の入口側の温度制御可能な乾燥炉の数は、１ゾーン以上、５ゾーン以下であることが好ましい。入口側の乾燥炉が１ゾーンの場合、流延後すぐに高温環境下にさらされることになり、気泡等の外観欠陥が発生しやすいため、徐々に昇温し、乾燥することが好ましい。つまり、温度制御可能な炉の数は２つ以上、３つ以下であることが好ましい。４つ以上の場合、乾燥炉及び除湿設備の投資費用が高くなるため、好ましくない。２つ以上設置した場合、流延後すぐの炉では温度を低く設定し、その後昇温することが好ましい。一方、Ｔ２は２０〜８０℃であることが好ましく、さらに、３０〜７０℃であることが好ましい。第１乾燥装置の出口側の温度制御可能な炉の数は、１ゾーン以上、５ゾーン以下であることが好ましい。ここでいう温度は、乾燥炉内の雰囲気温度を指し、支持体の下側（流延の反対側）の雰囲気温度を測定すればよく、支持体から３〜３０ｃｍ程度の位置を測定すればよい。金属ベルト等、支持体の下側の雰囲気温度が測定できない場合は、支持体の上側の雰囲気温度を測定すればよい。
【００１２】
次に乾燥工程（２）の説明を行う。本発明の製造方法は、前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことが好ましい。
【００１３】
乾燥工程（２）は第２乾燥装置を使用する。第１乾燥装置は支持体と一緒に乾燥するが、第２乾燥装置は支持体から剥離し、フィルムのみを乾燥させることが特徴である。第２乾燥装置でのフィルムの乾燥は、フロート法、テンター法またはロール搬送法等によって搬送しながら、乾燥することができる。搬送方法に限定はないが、フロート法の場合、フィルム自体が複雑な応力を受け、光学的特性の不均一が生じやすい。また、テンター法の場合、フィルム両端を支えているピンまたはクリップの距離により、溶剤乾燥に伴うフィルムの幅収縮と自重を支えるための張力を均衡させる必要があるが、張力が過大であると厚み方向の複屈折が生じやすく、張力が過小であると、フィルムの自重を支えられずにフィルムに弛みが生じる場合がある。一方、ロール搬送法の場合、安定なフィルム搬送のための張力は原則的にフィルムの流れ方向（ＭＤ方向）にかかるため、応力の方向を一定にしやすく、面内、厚み方向ともに複屈折も生じにくい。また、ロールの位置を乾燥炉内の上下に配置することにより、乾燥炉をコンパクトとしても、乾燥炉内に滞留する時間（距離）を長くすることが可能となる。従って、フィルムの乾燥には、ロール搬送法を用いることが最も好ましい。第２乾燥装置では、ＭＤ方向に張力をかけながら乾燥するため、樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥することが好ましく、正面レターデーションをより小さくするためには、樹脂のＴｇより３５℃以上低い温度で乾燥することがさらに好ましい。
【００１４】
また、第１乾燥装置及び第２乾燥装置の乾燥時間は下記一般式（５）の関係を示すことが好ましい。
【００１５】
１．０≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦５．０ （５）
（ＨＴ１は第１乾燥装置の乾燥時間、ＨＴ２は第２乾燥装置の乾燥時間）
【００１６】
第１及び第２乾燥装置の乾燥時間とは、フィルムが乾燥装置内に滞在する時間のことを指す。乾燥時間は、乾燥炉中のフィルム長さとラインスピードの商から求められる。つまり、塩素系溶媒の含有量をより小さくするためには、乾燥炉中のフィルム長さを長く、ラインスピードを遅くすればよいということが分かる。しかしながら、乾燥炉中のフィルム長さを長くすると、その分大型設備が必要となることが問題となり、ラインスピードを遅くするのは生産性の観点から問題である。一方、生産効率の観点から考えると、第１乾燥装置のラインスピードと第２乾燥装置のラインスピードは同程度であることが好ましい。例えば、第２乾燥装置のラインスピードを速くしすぎても、第１乾燥装置のラインスピードが遅く、その結果、第１乾燥装置で生産されるフィルムが少なく、第２乾燥装置で乾燥させるフィルムがなくなってしまうため、ラインスピードと相関のあるＨＴ１とＨＴ２のバランスをとった生産条件を設定する必要がある。一方、第２乾燥装置は、前記したようにロール搬送法を適用できるため、乾燥炉内のフィルム長さを長くすることができる。従って、同じラインスピードでも乾燥時間ＨＴ２を長くすることができるため、
１．０≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦５．０ （５）
であることが好ましく、さらに、
１．５≦（ＨＴ２）／（ＨＴ１）≦３．０ （６）
であることが生産性の観点から好ましい。
【００１７】
第１乾燥装置及び第２乾燥装置で乾燥した本発明の塩素系溶媒の含有量は、８００ｐｐｍで以下である。さらに５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。環境面からは、フィルムに含有する溶媒量だけでなく、含塩素量の低減が重要であり、含塩素量は５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３００ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。また、これら塩素系溶媒の含有量は、残存していると徐々に揮発し、長期使用時の位相差変動の要因となるため、上記範囲内であることが好ましい。
【００１８】
本発明には塩素系溶媒が使用される。塩素系溶媒は樹脂の溶解性が高く、塩素系溶媒自体の引火点が非常に高いという特徴があるため、溶液流延法に好適に使用される。これらのバランスに優れ、かつ、低沸点で乾燥効率が優れるという観点から塩化メチレンが使用される。塩化メチレンは単独で使用しても併用で使用してもかまわない。溶媒の回収の観点からは塩化メチレン１００％で使用することが好ましい。塩化メチレンだけでは十分な溶解性を得られない場合には、その他溶媒を使用してもかまわない。併用する溶媒は生産性の観点から、沸点が１００℃以下の溶媒が好適に使用される。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチルやプロピオン酸エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール溶媒などが使用可能である。これら溶媒を併用する場合、混合溶媒として非危険物として取り扱うことができる範囲であることが好ましく、具体的には、７０重量％以上の塩化メチレンからなることが好ましい。また、本発明で言う溶媒とは乾燥工程や延伸工程においてフィルムにかかる最大温度よりも沸点が低い溶剤の事を指し、乾燥工程や延伸工程における最大温度より沸点が高い液体は可塑剤と言う。
【００１９】
本発明の光学フィルムはセルロース系樹脂が使用される。偏光子保護フィルムに使用する場合には光学的等方性に優れ、また、位相差フィルムに使用する場合には逆波長分散特性（波長が大きくなるにつれて、位相差が大きくなる特性）を示す点において、セルロースアシレートが好適に使用される。本発明のセルロースアシレートとは、セルロースの２，３，６位に、炭素数２〜４のアシル基が置換されたものをいう。置換されるアシル基は単独の置換基（例えば、炭素数３のプロピオニル基のみ）であってもかまわないし、併用の置換基（例えば、炭素数２のアセチル基と炭素数４のブチリル基の併用）であってもかまわない。また、全部の位置にアシル基が置換されている必要はなく、セルロース由来のヒドロキシル基があってもかまわない。
【００２０】
また、塩素系溶媒への溶解性の観点及び入手性の観点から、セルロースアセテートプロピオネートあるいはセルロースアセテートブチレートが好適に使用される。偏光子保護フィルム等に一般的に使用されているトリアセチルセルロースは塩化メチレン単独で溶解せず、エタノール等のアルコールを併用しなければ、溶解させることができないため、溶媒の回収を考えると、塩化メチレン単独で溶解するセルロースアセテートプロピオネートあるいはセルロースアセテートブチレートが好適に使用される。これらの樹脂は単独で使用しても、併用してもかまわない。具体的には、下記（２）及び（３）式を満たすセルロースアシレートを含むことを特徴とする。
【００２１】
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
【００２２】
ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計を示す。アシル基の置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に記載の方法にて定量することができる。アシル基は、炭素数３のプロピオニル基、または炭素数４のブチリル基が工業的に容易に得られるため好ましい。特にプロピオニル基を用いた場合は、臭気の点で好ましい。本発明において（２）式が意味するところは、次の通りである。ＤＳａｃ＋ＤＳａｙを２．２０以上２．９０以下とすることにより、延伸した際に、延伸方向に遅相軸を有する位相差フィルムを作成することができる。また得られる位相差フィルムは長波長側ほど正面レターデーションが大きくなる（逆波長分散性）。ＤＳａｃ＋ＤＳａｙが２．９０よりも大きいと、延伸方向と直交する方向に遅相軸を有する位相差フィルムが得られるため好ましくない。またＤＳａｃ＋ＤＳａｙが２．２０よりも小さいと、水酸基が増えることにより、特に耐湿熱環境下での特性変化が起こるため、好ましくない場合がある。従って、ＤＳａｃ＋ＤＳａｙは、２．２０以上２．９０以下の値であることが好ましい。さらに、ＤＳａｃ＋ＤＳａｙは、２．５０以上２．９０以下の値であることが好ましい。また、溶解性の観点から、ＤＳｐｒは２．５０以上２．９０以下の値であることが好ましい。
【００２３】
上述した、逆波長分散性の観点から言えば、セルロースの水酸基は、アセチル基で置換してもプロピオニル基で置換しても目的を達成できる。しかしながら、溶液流延法で厚み精度の良いフィルムを製膜するためには、高濃度溶液の調製が可能であることが好まれる。このような観点から、アセチル置換度（ＤＳａｃ）の高いセルロースアシレートよりも、炭素数３または炭素数４のアシル基の置換度（ＤＳａｙ）の高いセルロースアシレートの方が有機溶剤に対する溶解性が高く、特に塩化メチレンを用いる場合においては顕著な差が認められる。従って、ＤＳａｙは高い方が好ましく、すなわち、セルロースアシレートは（３）式である、ＤＳｐｒ／ＤＳａｃ≧２を満足することが好ましく、さらに、ＤＳｐｒ／ＤＳａｃ≧４を満足することが好ましい。
【００２４】
また、塩素系溶媒への優れた溶解性を示すという観点から、セルロースエーテルも好適に使用することができる。例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。位相差フィルムとして使用する場合、低波長分散特性（光の波長によって、位相差値が変化しない）、さらに、優れた位相差発現性の観点から、エチルセルロースが好適に使用される。エチルセルロースのエトキシル基の置換度は、多くなればなるほど、疎水性が高くなり、少なくなればなるほど、水酸基が多くなるため、水への親和性が高くなる。つまり、エトキシル置換度が低いエチルセルロースは水への親和性が高くなるため、耐湿熱環境での位相差等の特性変化が大きくなる。一方、エトキシル置換度が高くなればなるほど、位相差発現性が悪くなるため、エトキシル置換度は、
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
であることが好ましく、位相差発現性と耐湿熱環境の安定性のバランスから、
２．２≦ＤＳｅｔ≦２．５ （７）
であることが特に好ましい。ここで、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す。
【００２５】
セルロースアシレートとセルロースエーテルは単独で使用してもよく、併用してもかまわない。併用する場合、セルロースエーテルとセルロースアシレートの含有量は、セルロースエーテルとセルロースアシレートの合計を１００重量％とすると、特に制限はないが、狙いの波長分散値、位相差発現性に合わせて、好適に組み合わせることができ、逆波長分散特性を有するためには、セルロースアシレート８０〜９９重量％、セルロースエーテル１〜２０重量％であることが好ましく、さらに、薄膜の逆波長分散フィルムとするためには、セルロースアシレート８５〜９７重量％、セルロースエーテル３〜１５重量％であることが好ましい。
【００２６】
使用する樹脂の分子量は特に制限はなく、フィルム化したときに十分な靭性を付与できていればよい。例えば、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのようなセルロースアシレート、エチルセルロースのようなセルロースエーテルの場合、数平均分子量３０，０００〜１５０，０００（ポリスチレン換算）のものが好適に使用される。分子量が３０，０００より小さいと、フィルムが脆くなるため、好ましくない。また、分子量が１５０，０００より大きいと、溶媒への溶解性が悪く、溶解時間がかかり、また、樹脂溶液の固形分濃度が低くなりすぎるため、溶剤使用量が多くなるため、製造上好ましくない。
【００２７】
また、フィルム化の際に、必要に応じて少量の可塑剤、熱安定剤、紫外線安定剤や離形剤等の添加剤を加えてもよい。得られたフィルムが脆い場合、延伸などの加工特性を改善する目的で可塑剤を加えることは有効である。可塑剤は、乾燥工程、延伸工程においてフィルムにかかる最大温度より沸点が高いもので、使用する樹脂及び溶媒に相溶すれば特に限定されるものではない。ただし、可塑剤を多く含有すると、ブリードアウトの原因となるため、添加量は全固形分の５重量％以内であることが好ましい。また芳香環が多い可塑剤はリターデーション上昇剤として作用してしまい、所望の光学特性が得難くなる場合があるため、可塑剤の光学特性を考慮した処方設計とする必要がある。
【００２８】
溶液流延法によりフィルム化する際、樹脂を溶媒に溶解したのち、支持体にキャストし、乾燥してフィルムとする。溶液の好ましい粘度は１.０Ｐａ・ｓ以上１０.０Ｐａ・ｓ以下、さらに好ましくは１.５Ｐａ・ｓ以上５.０Ｐａ・ｓ以下である。
【００２９】
本発明では前記樹脂溶液を支持体に流延してフィルム化する。支持体としては、ステンレス鋼などのエンドレスベルトや、ポリイミドフィルム、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等のようなプラスチックフィルム等が挙げられる。使用する樹脂によっては、支持体との密着性が強すぎる場合、弱すぎる場合がある。支持体をプラスチックフィルムとした場合、支持体の表面処理（例えば、易接着コーティングやコロナ処理等）により、フィルムとの密着性を制御することができるため、特に好適に使用することができる。支持体として用いられるプラスチックフィルムの厚みは特に制限されないが、５０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以上、２５０μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以上、２００μｍ以下であることがさらに好ましい。支持体が上記範囲より薄いと、自己支持性が低くなくなるため、溶液を流延した際に弛みが生じ、得られる光学フィルムにも弛みが生じやすくなる。また、支持体が上記範囲より厚いと、支持体の柔軟性が失われ、ハンドリング性に劣る他、支持体のコストが増大するといった問題がある。また、支持体として用いられるフィルムは、その強度を保つために、二軸延伸されたものであることが好ましい。前記の要件を満たす支持体として、具体的には、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステルからなるフィルムや、ポリイミドかなるフィルムおよびこれらの二軸延伸品等が挙げられる。特に溶液流延法に適した広幅のものを安価に入手でき、かつセルロース系樹脂と適宜な剥離性を有することから二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。
【００３０】
本発明の光学フィルムの厚みは、フィルム自体の支持性、位相差フィルムとして使用するときの位相差、波長分散等の光学特性を狙いの値とするために、適宜決定される。２０μｍから２００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍから１００μｍである。さらに、延伸後に逆波長分散に優れ、かつ、λ／４板としての位相差を発現させるためには、４０μｍから１００μｍであることが好ましい。フィルムの光線透過率は８５％以上が好ましく、より好ましくは、９０％以上である。
【００３１】
また、本発明の光学フィルムを延伸することにより、液晶ディスプレイ等に使用される位相差フィルムに好適に使用される。延伸方法としては２本のニップロールの周速比を変化させて延伸する縦一軸延伸、テンタークリップにより光学フィルムの端部をクリップし拡縮する横延伸等の一軸延伸が挙げられる。横延伸時は、縦方向が拘束されているため、実質的には二軸延伸となっているため、特開５−１１１１１に示されているような延伸を行うことにより、横方向に光学的に一軸な位相差フィルムを得ることができる。また、これらの組み合わせにより二軸延伸も可能である。さらに、特開平５−１５７９１１号公報に示されるような特殊な二軸延伸を施し、フィルム厚み方向の屈折率を大きくすることも可能である。また、円偏光板として使用する場合は、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸をある角度（例えば４５°）に積層する必要がある。通常は、位相差フィルムを遅相軸を４５°となるように長尺のフィルムをカットする必要があるが、特開２００２−２２９４４に示されるような斜め延伸を行うことにより、ロールトゥロールで積層することができる。
【００３２】
一般には延伸倍率は１．０１倍から４倍であり、延伸温度はガラス転移温度Ｔｇに対して、（Ｔｇ−３０）℃以上、（Ｔｇ＋３０）℃以下が好ましい範囲である。特に好ましい延伸温度は（Ｔｇ−２０）℃以上、（Ｔｇ＋２０）℃以下までの範囲であり、さらに好ましくは（Ｔｇ−１０）℃以上、（Ｔｇ＋１５℃）以下である。ただし、ここでいう延伸温度とは、延伸を実施する炉内の温度がすべてこの温度で均一なければならないということを意味するのではなく、延伸を実施する炉内の最高温度を表しており、炉内の他の点が前記温度範囲から外れていてもよい。また、ガラス転移温度は示差熱分析法（ＤＳＣ）を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１２１に記載の方法にて測定することができる。延伸温度が前記範囲より低いと、延伸時にフィルムが破断したり、ヘイズが上昇する傾向がある。また、前記範囲より高いと、十分な位相差を得ることができない傾向にある。この温度範囲よりとすることにより、延伸時のフィルム白化を防止でき、また、得られた位相差フィルムの位相差のバラツキを小さくすることができる。
【００３３】
本発明により得られる位相差フィルムの実用に際しては、例えば位相差フィルムの片面又は両面に粘着層を設けたものや、その粘着層を介して偏光フィルム、および／または、等方性の透明な樹脂層やガラス層等からなる保護層を接着積層したものなどの２層又は３層以上の積層体からなる適宜な形態の光学部材、特に光学補償板として適用することもできる。特に本発明の位相差フィルムと偏光板を積層することで、光学補償偏光板とすることができる。中でも、本発明の位相差フィルムと偏光板をロール・ツゥー・ロールで積層してなる光学補償偏光板は、低コスト、高生産性を有するため好ましい構成である。また、本発明の光学フィルムは偏光子保護フィルムとして、位相差フィルムは偏光子保護兼用の位相差フィルムとして、偏光子と直接積層して好適に用いられる。また、本発明の位相差フィルムは、偏光板の吸収軸と略４５°に積層して、円偏光板としての機能を付与することができる。特に、ポリカーボネートのような正常分散（Ｒ０（４５０）／Ｒ０（５５０）＞１．０５、Ｒ０（λ）は波長λｎｍで測定したときの正面レターデーション）を示す位相差フィルムは、円偏光板を通した反射光の着色があるが、例えば、セルロースアシレートを用いると、逆波長分散特性を発現し、略λ／４の位相差値に設定すると、反射光の着色を抑制することができる。
【００３４】
前記偏光板として使用されるものは特に限定されず、適宜なものを用いることができる。例えば、偏光フィルムとしてはポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムのような親水性高分子フィルムにヨウ素及び／ 又は二色性染料を吸着させて延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物のようなポリエン配向フィルム等からなるもの等があげられる。偏光フィルムの配向方法は特に限定されないが、一般には、フィルムを長手方向および／ または幅方向に延伸したものが用いられる。前記偏光フィルムが、フィルム長手方向に延伸を行ったものである場合は、偏光板の透過軸と位相差フィルムの遅相軸が略平行となり、偏光フィルムが幅方向に延伸を行ったものである場合は、偏光板の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸が略平行となる。これらはいずれも好ましい構成であるが、生産性の観点から、偏光フィルムはフィルム長手方向に延伸を行ってなるものがより好ましい。
【００３５】
偏光板、特に偏光フィルムは、その片側又は両側に透明保護層を有するものであってもよい。また偏光板は、反射層を有する反射型のものであってもよい。反射型の偏光板は、視認側（表示側） からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化をはかりやすいなどの利点を有する。
【００３６】
前記の透明保護層は、ポリマーの塗布層や保護フィルムの積層物などとして適宜に形成でき、その形成には透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーなどが好ましく用いられる。その例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、あるいは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。透明保護層は、微粒子の含有によりその表面が微細凹凸構造に形成されていてもよい。特に、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いる場合は、接着性を上昇させるために、フィルム表面をケン化処理して用いることもできる。さらにまた、本発明の位相差フィルムを偏光フィルムの透明保護層と用いることで、光学補償偏光板を形成することもできる。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３８】
(測定及び評価方法)
本明細書に記載の特性値等は、以下の評価法によって得られたものである。
【００３９】
（１）乾燥途中での支持体からの剥離
第１乾燥装置での乾燥中に、フィルムが支持体から剥がれないものを○、部分的に剥がれるものを△、完全に剥がれるものを×とした。
【００４０】
（２）フィルム外観
第１乾燥装置での乾燥後のフィルム外観を観察した。目視で白化していないものを○、一部分が白化しているものを△、全面に白化しているもの×とした。
【００４１】
（３）正面リターデーション測定
フィルムの略中央部より５０ｍｍ角のサンプルを切り出し、シンテック社製ＯＰＴＩＰＲＯにより、５９０ｎｍでの正面リターデーションを測定した。
【００４２】
（４）フィルム中の塩化メチレン含有量の測定
フィルムの略中央部より１０ｍｍ角のサンプルを切り出し、1ｗｔ％の濃度でジオキサンに溶解し、この溶液中の塩化メチレン濃度をガスクロマトグラフィーにて測定を行った。ガスクロマトグラフィーの装置は、Ｈｐ６８９０ｓｅｒｉｅｓ ＧＣ Ｓｙｓｔｅｍ、ＨＰ６８９０ｓｅｒｉｅｓ ＡｕｔｏＳａｍｐｌｅｒ（ＨＥＷＬＥＴＴ ＰＡＣＫＡＲＤ製)、ＨＧ−２５００（ＧＬ Ｓｃｔｅａｃｅｓ製)、ＫＡＰＳＥＬ−ＣＯＮ Ｙｅ−３Ｒ（八重崎空圧製）を使用し、カラムは１２３−７０３２（Ｊ＆Ｗ製）を用いた。サンプルの注入量は２μｌ、注入口の温度は２２５℃、圧力は９．５ｐｓｉとした。オーブンの初期温度は３５℃とし、５分間保持した後、昇温速度２０℃／分で１５５℃まで昇温した。キャリアガスはＨｅとし、圧力９．５ｐｓｉ、流量２．２ｍｌ／分とした。検出器はＦＩＤで、Ｈ2流量４０ｍｌ／分、ＡＩＲ流量４５０ｍｌ／分とした。
【００４３】
（５）ガラス転移温度の測定
セイコー電子工業製示差走査熱量計ＤＳＣ２２０Ｃにより、ＪＩＳ Ｋ−７１２１に記載の方法にて測定した。
【００４４】
（溶液１の調製）
アセチル基の置換度が０．１、プロピオニル基の置換度が２．７であるセルロースアセテートプロピオネート（イーストマンケミカル製セルロースエステルＣＡＰ４８２−２０）を１００重量部、塩化メチレンを６７０重量部含む溶液を調製した。これを溶液１とした。
【００４５】
（溶液２の調整）
アセチル基の置換度が０．１、プロピオニル基の置換度が２．７であるセルロースアセテートプロピオネート（イーストマンケミカル製、ＣＡＰ４８２−２０）を９０重量部、エトキシル基の置換度が２．３であるエチルセルロース（ダウケミカル製、ＭＥＤ−７０）を１０重量部、塩化メチレンを６７０重量部含む溶液を調製した。これを溶液２とした。
【００４６】
（溶液３の調整）
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン成分を有するポリカーボネート（三菱エンジニアリングプラスチック製、ユーピロンＫ４１００）を１００重量部、塩化メチレンを４００重量部含む溶液を調整した。これを溶液３とした。
【００４７】
（実施例１〜６、比較例１〜５）
溶液１を２３℃、湿度２５％の環境下で、流れ方向に１×１０6Ｎ／ｍ2の応力を付与した状態の厚み１２５μｍのＰＥＴ（東レ製、Ｕ４２６）支持体上に、乾燥後の厚みが８０μｍとなるようにコンマコーターと支持体のギャップを設定し、連続的に流延した。表１のように設定された第１乾燥装置により、流延された溶液を支持体とともに乾燥させ、１次乾燥フィルムとした。このときのフィルム外観及び乾燥後の支持体からの剥離の有無に関して、表１に示した。その後、１次乾燥フィルムをＰＥＴより剥離し、流れ方向に１×１０5Ｎ／ｍ2の応力を付与した状態で、表２のように設定された第２乾燥装置により乾燥させ、評価用フィルムを得た。フィルム中の塩化メチレン含有量、正面レターデーション及びガラス転移温度を表２に示した。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、乾燥してなる光学フィルムの製造方法であって、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
乾燥工程（１）において、入口側の乾燥炉の温度（Ｔ１）と、出口側の乾燥炉の温度（Ｔ２）が、下記一般式（１）の関係を満たす条件により乾燥することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法；
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
【請求項４】
前記支持体が、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記セルロース系樹脂が、セルロースエーテルからなることを特徴とする請求項１〜５にいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記セルロース系樹脂が、下記一般式（２）及び（３）を満たすセルロースアシレート８０〜９９重量％と、下記一般式（４）を満たすセルロースエーテル１〜２０重量部からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法；
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
（ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す）。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により得られた光学フィルムを延伸することを特徴とする位相差フィルム。
【請求項９】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により得られた光学フィルムを少なくとも１層含んでなることを特徴とする偏光板。
【請求項１】
塩素系溶媒を含むセルロース系樹脂溶液を支持体に流延し、乾燥してなる光学フィルムの製造方法であって、温度調整可能な２ゾーン以上の乾燥炉からなる第１乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のフィルムが支持体に保持された状態で、入口側の乾燥炉が露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する乾燥工程（１）を含み、塩素系溶媒の含有量を８００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記セルロース系樹脂のフィルムを支持体から剥がした後、第２乾燥装置を使用し、セルロース系樹脂のＴｇより３０℃以上低い温度で乾燥する乾燥工程（２）を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
乾燥工程（１）において、入口側の乾燥炉の温度（Ｔ１）と、出口側の乾燥炉の温度（Ｔ２）が、下記一般式（１）の関係を満たす条件により乾燥することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法；
（Ｔ１）−（Ｔ２）≧２０℃ （１）
（３ゾーン以上の乾燥炉からなる場合、Ｔ１は露点０℃以下の除湿エアーにより乾燥する入口側の乾燥炉の最も出口側、Ｔ２は露点０℃以下の除湿エアーを使用しない出口側の乾燥炉の最も入口側の炉の温度を表す）。
【請求項４】
前記支持体が、プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロース系樹脂が、セルロースアシレートからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記セルロース系樹脂が、セルロースエーテルからなることを特徴とする請求項１〜５にいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記セルロース系樹脂が、下記一般式（２）及び（３）を満たすセルロースアシレート８０〜９９重量％と、下記一般式（４）を満たすセルロースエーテル１〜２０重量部からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法；
２．２０≦ＤＳａｃ＋ＤＳａｙ≦２.９０ （２）
ＤＳａｙ／ＤＳａｃ≧２ （３）
１．９≦ＤＳｅｔ≦２．６ （４）
（ＤＳａｃはセルロースアシレートのアセチル置換度、ＤＳａｙはセルロースアシレートの炭素数３または炭素数４のアシル基による置換度の合計、ＤＳｅｔはセルロースエーテルのエトキシル置換度を示す）。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により得られた光学フィルムを延伸することを特徴とする位相差フィルム。
【請求項９】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法により得られた光学フィルムを少なくとも１層含んでなることを特徴とする偏光板。
【公開番号】特開２０１１−５６７８７（Ｐ２０１１−５６７８７Ａ）
【公開日】平成２３年３月２４日（２０１１．３．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０８８０６（Ｐ２００９−２０８８０６）
【出願日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月２４日（２０１１．３．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１０日（２００９．９．１０）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
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