光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
【課題】干渉縞が発生せず外観が良好であり、更に、光学特性や基材とハードコート層との密着性に優れ、硬度が高い光学積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる光学積層体。
【解決手段】光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置においては、反射防止性能、帯電防止性能、ハードコート性や防汚性等の種々の性能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
【０００３】
上記光学積層体は、透明基材上に種々の機能層を積層してなるものである。このため、透明基材上に、例えばハードコートを形成させた場合、透明基材表面の反射光とハードコート表面の反射光とが干渉して、膜厚のムラに起因して干渉縞と呼ばれるムラ模様が現れ、外観が損なわれるという問題点が生じていた。
【０００４】
そのような干渉縞の発生を防ぐために、例えば、透明基材上にハードコート層を形成する場合、上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物に、上記透明基材に浸透して膨潤又は溶解させることができる溶剤を使用することが知られている（特許文献１〜２）。このような溶剤を含む樹脂組成物を使用することで、透明基材とハードコート層との界面を実質上無くし、干渉縞の発生を防ぐことができる。
【０００５】
しかし、近年の画像表示装置の高品質化に伴い、より高品位のものが求められていた。このため、上述した方法よりも更に高いレベルで干渉縞を抑制することが要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１３１００７号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑みて、干渉縞が発生せず外観が良好であり、更に、光学特性や基材とハードコート層との密着性に優れ、硬度が高い光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％であることが好ましい。
また、上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。
上記表面処理コロイダルシリカは、表面に紫外線反応性官能基を有することが好ましい。
また、上記コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３５〜６０質量％であることが好ましい。
また、上記コロイダルシリカは、ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状であることが好ましい。
上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体において、上記ハードコート層は、更に、帯電防止剤、防汚剤、防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の光透過性基材と反対側面上に、更に、帯電防止層、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、防眩層、上記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、上記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されていることが好ましい。
【０００９】
本発明はまた、光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１０】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体である。
このため、光透過性基材に対して浸透性を有する溶剤（光透過性基材に浸透して基材を溶解又は膨潤させる溶剤、以下、「浸透性溶剤」という。）を使用することなく、干渉縞の発生が抑制され、かつ、密着性や硬度に優れる光学積層体とすることができる。
ここで、本明細書において、上記浸透性溶剤とは、より詳細には以下の要件を満たす溶剤を意味する。
すなわち、溶剤に樹脂成分としてペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを溶解させた樹脂組成物を調製し、該樹脂組成物をトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に乾燥膜厚７μｍとなるように塗布した場合において、上記樹脂組成物の固形分が３０％であるとき、ＴＡＣ基材に形成される浸透層（樹脂成分とＴＡＣ成分との渾然一体層）の膜厚が３μｍ以上となり、上記樹脂組成物の固形分が４０〜５０％であるとき、上記浸透層の膜厚が１μｍ以上となる溶剤を意味する。
このような浸透性溶剤としては、上記浸透層の膜厚の要件を満たす溶剤であれば特に限定されるものではないが、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、塩化メチレン等が挙げられる。
【００１１】
本発明の光学積層体は、浸透性溶剤を使用せずに干渉縞の発生を防ぐために、光透過性基材とハードコート層の屈折率の差がほとんどないようにしたものである。しかし、単に屈折率が同じ樹脂層を重ねた場合であっても、その界面において光干渉が発生し、干渉縞が発生してしまう。本発明の光学積層体では、所定量の特定の樹脂と所定量のコロイダルシリカと特定の溶剤とを含む組成物を使用して、基材との屈折率差がほとんどないハードコート層を形成することにより、基材とハードコート層の界面において光干渉が発生せず、干渉縞による外観の低下が起こらないという結果が得られたものである。このような積層体が得られる原因としては、以下のことが考えられる。
【００１２】
すなわち、コロイダルシリカを添加せずにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを硬化させてハードコート層を形成した場合、層の最表面から深部までの架橋密度にばらつきがあり、ハードコート層は見かけ上傾斜した屈折率を有することになると考えられる。このため、トリアセチルセルロースからなる光透過性基材との屈折率差が発生して、干渉縞を発生しうると考えられる。
一方、本発明のようにコロイダルシリカを所定量添加すると、硬化時の樹脂の架橋反応が遅くなり緩やかな硬化反応が進行し得る。このため層内の屈折率の傾斜が少ないハードコート層を形成することができ、その結果、光透過性基材とハードコート層との屈折率差も小さくなり、干渉縞の発生を防止することができると推察される。
このようにして得られた本発明の光学積層体の断面及びその一部を拡大した概略図の一例を図１に示す。本発明の光学積層体は、図１に示すように、下層の光透過性基材２と、その上に設けられ、コロイダルシリカを含有するハードコート層１との界面が視覚的に認識されるにもかかわらず、干渉縞の発生を防止し得るものである。
【００１３】
本発明の光学積層体はまた、上述した特定の成分を特定量含む組成物を使用してハードコート層を形成するものであるため、浸透性溶剤を使用しなくても、基材とハードコート層との密着性に優れ、かつ、硬度にも優れるものとすることができたものである。
【００１４】
本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースである。トリアセチルセルロースを材料として形成される光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、更に機械的強度に優れる。
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。上記光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００１５】
本発明の光学積層体は、ハードコート層を有する。
上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層である。
上記ハードコート層は、特定の成分を含むハードコート層形成用組成物を使用して、上記トリアセチルセルロースを材料として形成される光透過性基材上に形成されるため、基材との界面において干渉縞が発生せず、また基材とハードコート層との密着性や硬度に優れる光学積層体を得ることができる。
【００１６】
上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを含む。上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを含むことにより、光透過性基材に浸透しない溶剤を使用した場合であっても基材とハードコート層との密着性を良好にすることができる。また、硬度が高い光学積層体とすることができる。
【００１７】
上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとしては、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性やエチレンオキシド（ＥＯ）変性やカプロラクトン（ＣＬ）変性等の変性化合物であってもよいが、硬度を充分に向上させることができる点においては、変性化合物でないペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１８】
上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上である。上記ハードコート層形成用組成物は、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他のバインダー樹脂を含んでいてもよい。この場合にペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが、上記２５質量％未満であると、光透過性基材とハードコート層との密着性が低下し、また所望の硬度を得ることができない。上記配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％であることが好ましい。
【００１９】
上記ハードコート層形成用組成物は、コロイダルシリカを含む。
コロイダルシリカを含むことにより、ハードコート層の屈折率を好適に調整することができ、干渉縞の発生を防止することができる。更に、光学積層体の硬度（鉛筆硬度）を高めて、耐擦傷性を向上させることができる。また、表面に微細な凹凸が形成できるため、光学積層体同士の貼り付きを防止することもできる。
【００２０】
上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。上記表面処理コロイダルシリカとしては、表面に紫外線反応性官能基を有するコロイダルシリカが挙げられる。上記紫外線反応性官能基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような紫外線反応性官能基を表面に有するコロイダルシリカとしては、例えば、シリカ微粒子の表面に上記紫外線反応性官能基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等により得ることができる。上記シランカップリング剤としては特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３（商品名、いずれも、信越化学工業社製）等が挙げられる。
【００２１】
上記コロイダルシリカの平均粒子径は、５〜２００ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ未満であると、均一な粒子径のコロイダルシリカの製造が困難となる。また粒子同士の凝集が大きくなるおそれもある。また、塗工液の粘度が高くなり塗工性が悪化するおそれがある。２００ｎｍを超えると、ヘイズが向上し光透過率も低下するため好ましくない。上記コロイダルシリカの平均粒子径のより好ましい下限は１０ｎｍ、より好ましい上限は１００ｎｍである。
上記平均粒子径は、本発明の光学積層体の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定して得られる値である。上記コロイダルシリカの平均粒子径は、インク中で分散した状態であっても、硬化後のハードコート層内においても、同じ数値を示すのである。
【００２２】
また、上記コロイダルシリカは、上記ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状であることが好ましい。
本発明の光学積層体では、上記ハードコート層形成用組成物におけるコロイダルシリカの形態は、単粒子状、又は、異形粒子状のいずれかであってもよいが、形成するハードコート層のケン化耐性及び鉛筆硬度が良好になることから、より好ましくは異形粒子状である。
ここで、「異形粒子状」とは、３〜２０個の球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態を意味する。このような異形粒子状のコロイダルシリカは、上述した表面処理コロイダルシリカであることで容易に形成することができる。
上記異形粒子状のコロイダルシリカは、球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態なため、鉛筆硬度試験等のような外部からの押込力がかかった際、つぶれにくい頑丈な性質を持っている。また、異形粒子状のコロイダルシリカは、表面面積が広く、またその形状から、上記ペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとの接着力が強くなる利点がある。そのため、異形粒子状のコロイダルシリカは、剥がれにくくケン化耐性等が向上する。更に、異形粒子状のコロイダルシリカは、該異形粒子状のコロイダルシリカ同士がランダムに絡み合うために、物理的にも頑丈になる。
また、単粒子状シリカでも、粒子径が大きくなると（例えば、平均粒径が３０ｎｍ以上）、鉛筆硬度試験等のような外部からの大きな押込力がかかった際、つぶれにくく頑丈となり、また、剥がれにくくなり、ケン化耐性も良好となる。
更に、単粒子状シリカの粒子径が小さくなった場合であっても（例えば、平均粒径が３０ｎｍ未満）、ハードコート層表面付近の硬度が増すため、耐ＳＷ性が良化する結果も得られる。
【００２３】
上記コロイダルシリカの市販品としては、例えば、ＩＰＡＳＴ、ＩＰＡＳＴＳ、ＩＰＡＳＴＭＳ、ＩＰＡＳＴＬ、ＩＰＡＳＴＺＬ、ＩＰＡＳＴＵＰ、ＭＩＢＫＳＴＤ１、ＭＩＢＫＳＴＬ、ＭＩＢＫＳＴＭＳ（いずれも、商品名、日産化学社製）等が挙げられる。
【００２４】
上記コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％に対して、３０〜７０質量％である。
本発明では、上述したようにハードコート層形成用組成物に上記浸透性溶剤を用いない。この場合、形成するハードコート層と光透過性基材との界面において干渉縞が出やすい環境となる。しかしながら、上記コロイダルシリカの配合量を３０質量％以上とすることで、形成するハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率との差を小さくすることができ、光透過性基材とハードコート層との界面における干渉縞の発生を好適に防止することができる。また、ハードコート層の硬度の低下も好適に防止することができる。一方、上記配合量が７０質量％を超えると、相対的にハードコート層中のバインダー樹脂量が不足し、形成するハードコート層の光透過性基材に対する密着性が低下するおそれがある。上記コロイダルシリカの配合量の好ましい範囲は、３５〜６０質量％である。
【００２５】
上記ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有し、上記溶剤は、光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤（以下、「非浸透性溶剤」という。）からなる。
上記非浸透性溶剤とは、その溶剤を含む組成物を塗工する光透過性基材に対して、浸透せず、湿潤性や膨潤性を発現しない溶剤である。本発明では、非浸透性溶剤と、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカとを含むハードコート層形成用組成物を使用してハードコート層を形成することにより、光透過性基材を溶解又は膨潤させることなく、干渉縞の発生を防ぎ、基材とハードコート層の密着性を高めることができる。
ただし、上記非浸透性溶剤を用いたとしても、厳密には非浸透性溶剤を含む組成物が光透過性基材に僅かに浸透した層（以下、「浸透層」という。）が形成されることもある。上記浸透層が形成される場合、本発明の光学積層体においては、該浸透層の厚さは、０．７０μｍ以下であることが好ましい。０．７０μｍを超えると、鉛筆硬度が低下することがある。
なお、従来、干渉縞の発生を防ぐことを目的に用いられていた浸透性溶剤を用いた場合、上記浸透層の厚さは１．０μｍを超えるものとなる。
【００２６】
上記非浸透性溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
なお、上記プロパノールとしては、例えば、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
また、上記ブタノールとしては、例えば、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられる。
【００２７】
上記非浸透性溶剤の配合量は、ハードコート層形成用組成物中樹脂固形分１００質量部に対して、５０〜３００質量部であることが好ましい。５０質量部未満であると、樹脂の粘度が高くなり、塗工性が悪化するおそれがある。３００質量部を超えると、所定の膜厚が得られなくなり、硬度が低下するおそれがある。
【００２８】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述したペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コロイダルシリカ並びに非浸透性溶剤の他に、本発明の効果を阻害しない程度に、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、防眩剤、帯電防止剤、防汚剤、その他の樹脂等を挙げることができる。
【００２９】
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュアー１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュアー９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、防眩剤、帯電防止剤、防汚剤その他の樹脂は、一般に光学積層体において使用される公知のものを使用するとよい。
上記ハードコート層形成用組成物は、なかでも、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。形成されるハードコート層が、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することとなり、上記ハードコート層に帯電防止性能、防汚性能、防眩性能を付与することができるからである。
【００３０】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を混合分散することにより得ることができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等の公知の方法を使用することができる。
【００３１】
上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層である。
上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物を光透過性基材上に塗布して被膜を形成し、そして上記被膜を必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
【００３２】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３３】
上記ハードコート層の層厚みは、０．０５〜３０μｍであることが好ましい。０．０５μｍ未満であると、塗工斑が出て外観が悪くなるだけでなく、硬度がでないおそれがある。また３０μｍを超えると、フィルム自身にクラックが入ったり、巻き取りも困難なだけでなく、コスト的にも高くなってしまう。またヘイズ値が上昇し、光透過率が下がるおそれがある。上記層厚みは、０．１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜２０μｍであることが更に好ましい。上記ハードコート層の層厚みが２μｍ未満であると、鉛筆硬度が低下する恐れがある。一方、上記ハードコート層の層厚みが２０μｍを超えると、上記ハードコート層の水蒸気透過率が低下する傾向にある。上記ハードコート層の水蒸気透過率が低下すると、上記光透過性基材の底面と偏光素子とを接着剤を用いて接合し偏光板とした際に、該接着剤に含まれる溶剤（水、有機溶剤等）が抜け難くなるという問題が生じることがある。また、上記層厚みが２０μｍを超えると、カール、クラックが入り易くなるため、好ましくない。またコスト高にもなってしまう。更に、上記層厚みが２０μｍを超えると、ＵＶ硬化の際、ハードコート層の深部にまで、ＵＶが到達しにくくなり、ハードコート層の深部が硬化不良となり、形成するハードコート層の密着性が悪化することが起こりうる。
なお、上記層厚みは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
【００３４】
上記ハードコート層は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）で「２Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。そのような層を有することにより、光学積層体の硬度や耐擦傷性等を高めることができる。
【００３５】
本発明の光学積層体は、ハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率とが非常に近い値を有する。このため、これらの界面における光干渉の発生を抑制し、干渉縞の発生を抑制することができる。このような光学積層体は、上述したようにトリアセチルセルロースを材料とした光透過性基材上に、上述の特定の成分を使用してハードコート層を形成することで得ることができる。なお、上記ハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率とが非常に近い値を有するとは、上記光透過性基材の屈折率と、上記ハードコート層の屈折率との差が０．０２以下であることをいう。
【００３６】
本発明の光学積層体は、光透過性基材及びハードコート層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、帯電防止層、低屈折率層、防眩層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、上記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、上記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されていてもよい。
上記帯電防止層、低屈折率層、防眩層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層は、一般に使用される公知の低屈折率剤、帯電防止剤、防眩剤、高屈折率剤、中屈折率剤、防汚剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。また、上記第二のハードコート層は、上述したハードコート層と同様の方法で上記ハードコート層の上面又は上記帯電防止層等を介して形成するとよい。また、上記他のハードコート層は、従来公知の光学積層体に用いられるハードコート層を公知の方法で上記ハードコート層の上面又は上記帯電防止層等を介して形成するとよい。
本発明の光学積層体の具体的な層構成としては、例えば、上記ハードコート層の上に、他のハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層、低屈折率層、帯電防止層及び低屈折率層、又は、防汚層を形成したものが挙げられる。
【００３７】
本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
【００３８】
本発明の光学積層体のヘイズは、１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。
本発明の光学積層体が防眩層を有する場合は、上記ヘイズは、積層体全体で８０％未満であってもよい。上記防眩層は、内部拡散によるヘイズと、最表面の凹凸形状によるヘイズからなってよく、内部拡散によるヘイズは、３．０％以上７９％未満であることが好ましく、１０％以上５０％未満であることがより好ましい。最表面のヘイズは、１％以上３５％未満であることが好ましく、１％以上２０％未満であることがより好ましく、１％以上１０％未満であることが更に好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
【００３９】
本発明の光学積層体の硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることが更に好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００４０】
本発明の光学積層体を製造する方法としては、光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有し、上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる、方法を挙げることができる。このため、上述の浸透性溶剤を使用することなく、干渉縞が発生せず外観に優れ、硬度が高く、基材とハードコート層との密着性に優れる光学積層体を製造することができる。
上記ハードコート層を形成する方法としては、上述のハードコート層形成用組成物を使用して、ハードコート層を形成する方法と同様の方法を挙げることができる。
このような光学積層体の製造方法も本発明の一つである。
【００４１】
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
【００４２】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００４３】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００４４】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００４５】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００４６】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００４７】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００４８】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００４９】
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、干渉縞が発生せず外観が良好であり、密着性や硬度に優れたものである。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の光学積層体の断面の概略図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００５１】
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００５２】
以下の製造例１〜３１に示した配合によってハードコート層形成用組成物１〜３１を調製した。
＜製造例１ ハードコート層形成用組成物１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５３】
＜製造例２ ハードコート層形成用組成物２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ７０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ３０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５４】
＜製造例３ ハードコート層形成用組成物３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ７０質量部
【００５５】
＜製造例４ ハードコート層形成用組成物４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ４０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬社製；ＴＭＰＴＡ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５６】
＜製造例５ ハードコート層形成用組成物５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴＭＳ、平均粒子径２０ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５７】
＜製造例６ ハードコート層形成用組成物６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ（Ｌ）、平均粒子径４０ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５８】
＜製造例７ ハードコート層形成用組成物７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（荒川化学社製；ＢＳ９０６、コロイダルシリカ４０％含有、平均粒子径５０ｎｍ） １００質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ＩＰＡ １００質量部
【００５９】
＜製造例８ ハードコート層形成用組成物８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（モメンティブ社製；ＸＲ３９−Ｃ３７９６、固形分中にコロイダルシリカ（平均粒子径２０ｎｍ）を７０％含有し、ペンタエリスリトールトリアクリレートを３０％含有する） １００質量部（固形換算）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ＩＰＡ １００質量部
【００６０】
＜製造例９ ハードコート層形成用組成物９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６１】
＜製造例１０ ハードコート層形成用組成物１０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＺＬ、平均粒子径８０ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６２】
＜製造例１１ ハードコート層形成用組成物１１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６３】
＜製造例１２ ハードコート層形成用組成物１２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００６４】
＜製造例１３ ハードコート層形成用組成物１３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＵＰ、平均一次粒径７ｎｍ、平均連結数４個、平均二次粒径２５ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ４質量部
【００６５】
＜製造例１４ ハードコート層形成用組成物１４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
６３質量部（固形換算２５質量部相当）
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） ８３質量部（固形換算２５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ５４質量部
ノルマルブタノール ４質量部
【００６６】
＜製造例１５ ハードコート層形成用組成物１５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１５０質量部（固形換算６０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ４０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ６０質量部
【００６７】
＜製造例１６ ハードコート層形成用組成物１６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
８８質量部（固形換算３５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ６５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ９７質量部
【００６８】
＜製造例１７ ハードコート層形成用組成物１７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００６９】
＜製造例１８ ハードコート層形成用組成物１８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００７０】
＜製造例１９ ハードコート層形成用組成物１９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
ポリマーアクリレート（荒川化学社製、ビームセットＤＫ１、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤） １３質量部（固形換算１０質量部相当）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７１】
＜製造例２０ ハードコート層形成用組成物２０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
ウレタンアクリレート（日本合成社製、ＵＶ１７００Ｂ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７２】
＜製造例２１ ハードコート層形成用組成物２１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
トリメチロールプロパン（日本化薬社製、ＴＭＰＴＡ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７３】
＜製造例２２ ハードコート層形成用組成物２２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ２、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；アクリル系シランカップリング剤（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５１０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００７４】
＜製造例２３ ハードコート層形成用組成物２３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ３４質量部
【００７５】
＜製造例２４ ハードコート層形成用組成物２４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ３４質量部
【００７６】
＜製造例２５ ハードコート層形成用組成物２５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１００質量部（固形換算４０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ５０質量部
ポリマーアクリレート（荒川化学社製、ビームセットＤＫ１、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤） １３質量部（固形換算１０質量部相当）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ３７質量部
防汚剤（ＤＩＣ社製、メガファックＲＳ７１） 固形換算０．６質量部相当
【００７７】
＜製造例２６ ハードコート層形成用組成物２６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ９５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００７８】
＜製造例２７ ハードコート層形成用組成物２７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ９５質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００７９】
＜製造例２８ ハードコート層形成用組成物２８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ７０質量部
【００８０】
＜製造例２９ ハードコート層形成用組成物２９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ウレタンアクリレート（日本合成社製；ＵＶ６３００Ｂ） ４９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） １質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００８１】
＜製造例３０ ハードコート層形成用組成物３０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
６３質量部（固形換算２５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ７５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール １１２質量部
【００８２】
＜製造例３１ ハードコート層形成用組成物３１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１８８質量部（固形換算７５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３７質量部
【００８３】
（実施例１）
＜光学積層体の製造＞
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム；富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、１５ｇ／ｃｍ２（乾燥時）のハードコート層を形成し、これにより光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体を調製した。
【００８４】
実施例２〜２５、比較例ｌ〜６
実施例１においてハードコート層形成用組成物１の代わりにハードコート層形成用組成物２〜３１を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜２５及び比較例１〜６の光学積層体を製造した。
【００８５】
実施例、比較例で得られた光学積層体を以下の方法により評価した。結果を表１に示した。
【００８６】
（評価１：鉛筆硬度）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度４Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて測定した。
【００８７】
（評価２：耐ＳＷ性）
作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を、＃００００番のスチールウールを用いて、摩擦荷重を変化させ、１０往復摩擦し、その後の塗膜の傷、剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
◎：１０００ｇ／ｃｍ２荷重で、傷なし、塗膜の剥がれなし
○：７００ｇ／ｃｍ２で傷なし、塗膜の剥がれなし（１０００ｇ／ｃｍ２では傷又は塗膜の剥がれあり）
×：７００ｇ／ｃｍ２で傷又は塗膜の剥がれがあった
【００８８】
（評価３：密着性）
上記密着性は、クロスカット碁盤目試験により行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比で下記の基準に基づいて評価した。
○：９５／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜９４／１００
×：５０／１００未満
【００８９】
（評価４：干渉縞の発生の有無）
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を下記の基準にて評価した。
○：干渉縞の発生はなかった。
×：干渉縞の発生があった。
【００９０】
（評価５：ヘイズ）
ヘイズ値（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：１．０％以下
×：１．０％より大きい
【００９１】
（評価６：全光線透過率）
全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：９０％以上
×：９０％未満
【００９２】
（評価７：耐ケン化性）
作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を、５５度に保たれた、ケン化液（２規定の水酸化ナトリウム水溶液）に入れ、２分浸漬させる。その後、充分に水洗した後、７０度で５分乾燥させる。評価２の耐ＳＷ性試験を行って、下記の基準にて評価した。
○：傷なし、塗膜の剥がれなし
×：傷または塗膜の剥がれがあった
【００９３】
【表１】
【００９４】
表１より、実施例の光学積層体は、いずれも干渉縞が発生せず、光学特性、基材とハードコート層との密着性、及び、硬度のすべてにおいて優れたものであった。一方、比較例の光学積層体は、すべての項目に優れるものはなかった。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００９６】
１ ハードコート層
２ 光透過性基材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置においては、反射防止性能、帯電防止性能、ハードコート性や防汚性等の種々の性能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
【０００３】
上記光学積層体は、透明基材上に種々の機能層を積層してなるものである。このため、透明基材上に、例えばハードコートを形成させた場合、透明基材表面の反射光とハードコート表面の反射光とが干渉して、膜厚のムラに起因して干渉縞と呼ばれるムラ模様が現れ、外観が損なわれるという問題点が生じていた。
【０００４】
そのような干渉縞の発生を防ぐために、例えば、透明基材上にハードコート層を形成する場合、上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物に、上記透明基材に浸透して膨潤又は溶解させることができる溶剤を使用することが知られている（特許文献１〜２）。このような溶剤を含む樹脂組成物を使用することで、透明基材とハードコート層との界面を実質上無くし、干渉縞の発生を防ぐことができる。
【０００５】
しかし、近年の画像表示装置の高品質化に伴い、より高品位のものが求められていた。このため、上述した方法よりも更に高いレベルで干渉縞を抑制することが要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１３１００７号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑みて、干渉縞が発生せず外観が良好であり、更に、光学特性や基材とハードコート層との密着性に優れ、硬度が高い光学積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％であることが好ましい。
また、上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。
上記表面処理コロイダルシリカは、表面に紫外線反応性官能基を有することが好ましい。
また、上記コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３５〜６０質量％であることが好ましい。
また、上記コロイダルシリカは、ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状であることが好ましい。
上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体において、上記ハードコート層は、更に、帯電防止剤、防汚剤、防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の光透過性基材と反対側面上に、更に、帯電防止層、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、防眩層、上記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、上記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されていることが好ましい。
【０００９】
本発明はまた、光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
本発明は、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明は、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１０】
本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなることを特徴とする光学積層体である。
このため、光透過性基材に対して浸透性を有する溶剤（光透過性基材に浸透して基材を溶解又は膨潤させる溶剤、以下、「浸透性溶剤」という。）を使用することなく、干渉縞の発生が抑制され、かつ、密着性や硬度に優れる光学積層体とすることができる。
ここで、本明細書において、上記浸透性溶剤とは、より詳細には以下の要件を満たす溶剤を意味する。
すなわち、溶剤に樹脂成分としてペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを溶解させた樹脂組成物を調製し、該樹脂組成物をトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に乾燥膜厚７μｍとなるように塗布した場合において、上記樹脂組成物の固形分が３０％であるとき、ＴＡＣ基材に形成される浸透層（樹脂成分とＴＡＣ成分との渾然一体層）の膜厚が３μｍ以上となり、上記樹脂組成物の固形分が４０〜５０％であるとき、上記浸透層の膜厚が１μｍ以上となる溶剤を意味する。
このような浸透性溶剤としては、上記浸透層の膜厚の要件を満たす溶剤であれば特に限定されるものではないが、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、塩化メチレン等が挙げられる。
【００１１】
本発明の光学積層体は、浸透性溶剤を使用せずに干渉縞の発生を防ぐために、光透過性基材とハードコート層の屈折率の差がほとんどないようにしたものである。しかし、単に屈折率が同じ樹脂層を重ねた場合であっても、その界面において光干渉が発生し、干渉縞が発生してしまう。本発明の光学積層体では、所定量の特定の樹脂と所定量のコロイダルシリカと特定の溶剤とを含む組成物を使用して、基材との屈折率差がほとんどないハードコート層を形成することにより、基材とハードコート層の界面において光干渉が発生せず、干渉縞による外観の低下が起こらないという結果が得られたものである。このような積層体が得られる原因としては、以下のことが考えられる。
【００１２】
すなわち、コロイダルシリカを添加せずにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを硬化させてハードコート層を形成した場合、層の最表面から深部までの架橋密度にばらつきがあり、ハードコート層は見かけ上傾斜した屈折率を有することになると考えられる。このため、トリアセチルセルロースからなる光透過性基材との屈折率差が発生して、干渉縞を発生しうると考えられる。
一方、本発明のようにコロイダルシリカを所定量添加すると、硬化時の樹脂の架橋反応が遅くなり緩やかな硬化反応が進行し得る。このため層内の屈折率の傾斜が少ないハードコート層を形成することができ、その結果、光透過性基材とハードコート層との屈折率差も小さくなり、干渉縞の発生を防止することができると推察される。
このようにして得られた本発明の光学積層体の断面及びその一部を拡大した概略図の一例を図１に示す。本発明の光学積層体は、図１に示すように、下層の光透過性基材２と、その上に設けられ、コロイダルシリカを含有するハードコート層１との界面が視覚的に認識されるにもかかわらず、干渉縞の発生を防止し得るものである。
【００１３】
本発明の光学積層体はまた、上述した特定の成分を特定量含む組成物を使用してハードコート層を形成するものであるため、浸透性溶剤を使用しなくても、基材とハードコート層との密着性に優れ、かつ、硬度にも優れるものとすることができたものである。
【００１４】
本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースである。トリアセチルセルロースを材料として形成される光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、更に機械的強度に優れる。
上記光透過性基材の厚みは、２０〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。上記光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００１５】
本発明の光学積層体は、ハードコート層を有する。
上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層である。
上記ハードコート層は、特定の成分を含むハードコート層形成用組成物を使用して、上記トリアセチルセルロースを材料として形成される光透過性基材上に形成されるため、基材との界面において干渉縞が発生せず、また基材とハードコート層との密着性や硬度に優れる光学積層体を得ることができる。
【００１６】
上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを含む。上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを含むことにより、光透過性基材に浸透しない溶剤を使用した場合であっても基材とハードコート層との密着性を良好にすることができる。また、硬度が高い光学積層体とすることができる。
【００１７】
上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとしては、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性やエチレンオキシド（ＥＯ）変性やカプロラクトン（ＣＬ）変性等の変性化合物であってもよいが、硬度を充分に向上させることができる点においては、変性化合物でないペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１８】
上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上である。上記ハードコート層形成用組成物は、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他のバインダー樹脂を含んでいてもよい。この場合にペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが、上記２５質量％未満であると、光透過性基材とハードコート層との密着性が低下し、また所望の硬度を得ることができない。上記配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％であることが好ましい。
【００１９】
上記ハードコート層形成用組成物は、コロイダルシリカを含む。
コロイダルシリカを含むことにより、ハードコート層の屈折率を好適に調整することができ、干渉縞の発生を防止することができる。更に、光学積層体の硬度（鉛筆硬度）を高めて、耐擦傷性を向上させることができる。また、表面に微細な凹凸が形成できるため、光学積層体同士の貼り付きを防止することもできる。
【００２０】
上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。上記表面処理コロイダルシリカとしては、表面に紫外線反応性官能基を有するコロイダルシリカが挙げられる。上記紫外線反応性官能基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような紫外線反応性官能基を表面に有するコロイダルシリカとしては、例えば、シリカ微粒子の表面に上記紫外線反応性官能基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等により得ることができる。上記シランカップリング剤としては特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３（商品名、いずれも、信越化学工業社製）等が挙げられる。
【００２１】
上記コロイダルシリカの平均粒子径は、５〜２００ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ未満であると、均一な粒子径のコロイダルシリカの製造が困難となる。また粒子同士の凝集が大きくなるおそれもある。また、塗工液の粘度が高くなり塗工性が悪化するおそれがある。２００ｎｍを超えると、ヘイズが向上し光透過率も低下するため好ましくない。上記コロイダルシリカの平均粒子径のより好ましい下限は１０ｎｍ、より好ましい上限は１００ｎｍである。
上記平均粒子径は、本発明の光学積層体の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定して得られる値である。上記コロイダルシリカの平均粒子径は、インク中で分散した状態であっても、硬化後のハードコート層内においても、同じ数値を示すのである。
【００２２】
また、上記コロイダルシリカは、上記ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状であることが好ましい。
本発明の光学積層体では、上記ハードコート層形成用組成物におけるコロイダルシリカの形態は、単粒子状、又は、異形粒子状のいずれかであってもよいが、形成するハードコート層のケン化耐性及び鉛筆硬度が良好になることから、より好ましくは異形粒子状である。
ここで、「異形粒子状」とは、３〜２０個の球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態を意味する。このような異形粒子状のコロイダルシリカは、上述した表面処理コロイダルシリカであることで容易に形成することができる。
上記異形粒子状のコロイダルシリカは、球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態なため、鉛筆硬度試験等のような外部からの押込力がかかった際、つぶれにくい頑丈な性質を持っている。また、異形粒子状のコロイダルシリカは、表面面積が広く、またその形状から、上記ペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとの接着力が強くなる利点がある。そのため、異形粒子状のコロイダルシリカは、剥がれにくくケン化耐性等が向上する。更に、異形粒子状のコロイダルシリカは、該異形粒子状のコロイダルシリカ同士がランダムに絡み合うために、物理的にも頑丈になる。
また、単粒子状シリカでも、粒子径が大きくなると（例えば、平均粒径が３０ｎｍ以上）、鉛筆硬度試験等のような外部からの大きな押込力がかかった際、つぶれにくく頑丈となり、また、剥がれにくくなり、ケン化耐性も良好となる。
更に、単粒子状シリカの粒子径が小さくなった場合であっても（例えば、平均粒径が３０ｎｍ未満）、ハードコート層表面付近の硬度が増すため、耐ＳＷ性が良化する結果も得られる。
【００２３】
上記コロイダルシリカの市販品としては、例えば、ＩＰＡＳＴ、ＩＰＡＳＴＳ、ＩＰＡＳＴＭＳ、ＩＰＡＳＴＬ、ＩＰＡＳＴＺＬ、ＩＰＡＳＴＵＰ、ＭＩＢＫＳＴＤ１、ＭＩＢＫＳＴＬ、ＭＩＢＫＳＴＭＳ（いずれも、商品名、日産化学社製）等が挙げられる。
【００２４】
上記コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％に対して、３０〜７０質量％である。
本発明では、上述したようにハードコート層形成用組成物に上記浸透性溶剤を用いない。この場合、形成するハードコート層と光透過性基材との界面において干渉縞が出やすい環境となる。しかしながら、上記コロイダルシリカの配合量を３０質量％以上とすることで、形成するハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率との差を小さくすることができ、光透過性基材とハードコート層との界面における干渉縞の発生を好適に防止することができる。また、ハードコート層の硬度の低下も好適に防止することができる。一方、上記配合量が７０質量％を超えると、相対的にハードコート層中のバインダー樹脂量が不足し、形成するハードコート層の光透過性基材に対する密着性が低下するおそれがある。上記コロイダルシリカの配合量の好ましい範囲は、３５〜６０質量％である。
【００２５】
上記ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有し、上記溶剤は、光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤（以下、「非浸透性溶剤」という。）からなる。
上記非浸透性溶剤とは、その溶剤を含む組成物を塗工する光透過性基材に対して、浸透せず、湿潤性や膨潤性を発現しない溶剤である。本発明では、非浸透性溶剤と、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカとを含むハードコート層形成用組成物を使用してハードコート層を形成することにより、光透過性基材を溶解又は膨潤させることなく、干渉縞の発生を防ぎ、基材とハードコート層の密着性を高めることができる。
ただし、上記非浸透性溶剤を用いたとしても、厳密には非浸透性溶剤を含む組成物が光透過性基材に僅かに浸透した層（以下、「浸透層」という。）が形成されることもある。上記浸透層が形成される場合、本発明の光学積層体においては、該浸透層の厚さは、０．７０μｍ以下であることが好ましい。０．７０μｍを超えると、鉛筆硬度が低下することがある。
なお、従来、干渉縞の発生を防ぐことを目的に用いられていた浸透性溶剤を用いた場合、上記浸透層の厚さは１．０μｍを超えるものとなる。
【００２６】
上記非浸透性溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
なお、上記プロパノールとしては、例えば、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
また、上記ブタノールとしては、例えば、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられる。
【００２７】
上記非浸透性溶剤の配合量は、ハードコート層形成用組成物中樹脂固形分１００質量部に対して、５０〜３００質量部であることが好ましい。５０質量部未満であると、樹脂の粘度が高くなり、塗工性が悪化するおそれがある。３００質量部を超えると、所定の膜厚が得られなくなり、硬度が低下するおそれがある。
【００２８】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述したペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コロイダルシリカ並びに非浸透性溶剤の他に、本発明の効果を阻害しない程度に、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、防眩剤、帯電防止剤、防汚剤、その他の樹脂等を挙げることができる。
【００２９】
上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュアー１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュアー９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、樹脂固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、防眩剤、帯電防止剤、防汚剤その他の樹脂は、一般に光学積層体において使用される公知のものを使用するとよい。
上記ハードコート層形成用組成物は、なかでも、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。形成されるハードコート層が、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有することとなり、上記ハードコート層に帯電防止性能、防汚性能、防眩性能を付与することができるからである。
【００３０】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述した各種成分を混合分散することにより得ることができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等の公知の方法を使用することができる。
【００３１】
上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層である。
上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物を光透過性基材上に塗布して被膜を形成し、そして上記被膜を必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線照射により硬化させて形成することが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。
【００３２】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３３】
上記ハードコート層の層厚みは、０．０５〜３０μｍであることが好ましい。０．０５μｍ未満であると、塗工斑が出て外観が悪くなるだけでなく、硬度がでないおそれがある。また３０μｍを超えると、フィルム自身にクラックが入ったり、巻き取りも困難なだけでなく、コスト的にも高くなってしまう。またヘイズ値が上昇し、光透過率が下がるおそれがある。上記層厚みは、０．１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜２０μｍであることが更に好ましい。上記ハードコート層の層厚みが２μｍ未満であると、鉛筆硬度が低下する恐れがある。一方、上記ハードコート層の層厚みが２０μｍを超えると、上記ハードコート層の水蒸気透過率が低下する傾向にある。上記ハードコート層の水蒸気透過率が低下すると、上記光透過性基材の底面と偏光素子とを接着剤を用いて接合し偏光板とした際に、該接着剤に含まれる溶剤（水、有機溶剤等）が抜け難くなるという問題が生じることがある。また、上記層厚みが２０μｍを超えると、カール、クラックが入り易くなるため、好ましくない。またコスト高にもなってしまう。更に、上記層厚みが２０μｍを超えると、ＵＶ硬化の際、ハードコート層の深部にまで、ＵＶが到達しにくくなり、ハードコート層の深部が硬化不良となり、形成するハードコート層の密着性が悪化することが起こりうる。
なお、上記層厚みは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
【００３４】
上記ハードコート層は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）で「２Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。そのような層を有することにより、光学積層体の硬度や耐擦傷性等を高めることができる。
【００３５】
本発明の光学積層体は、ハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率とが非常に近い値を有する。このため、これらの界面における光干渉の発生を抑制し、干渉縞の発生を抑制することができる。このような光学積層体は、上述したようにトリアセチルセルロースを材料とした光透過性基材上に、上述の特定の成分を使用してハードコート層を形成することで得ることができる。なお、上記ハードコート層の屈折率と光透過性基材の屈折率とが非常に近い値を有するとは、上記光透過性基材の屈折率と、上記ハードコート層の屈折率との差が０．０２以下であることをいう。
【００３６】
本発明の光学積層体は、光透過性基材及びハードコート層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、帯電防止層、低屈折率層、防眩層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、上記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、上記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されていてもよい。
上記帯電防止層、低屈折率層、防眩層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層は、一般に使用される公知の低屈折率剤、帯電防止剤、防眩剤、高屈折率剤、中屈折率剤、防汚剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。また、上記第二のハードコート層は、上述したハードコート層と同様の方法で上記ハードコート層の上面又は上記帯電防止層等を介して形成するとよい。また、上記他のハードコート層は、従来公知の光学積層体に用いられるハードコート層を公知の方法で上記ハードコート層の上面又は上記帯電防止層等を介して形成するとよい。
本発明の光学積層体の具体的な層構成としては、例えば、上記ハードコート層の上に、他のハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層、低屈折率層、帯電防止層及び低屈折率層、又は、防汚層を形成したものが挙げられる。
【００３７】
本発明の光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
【００３８】
本発明の光学積層体のヘイズは、１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。
本発明の光学積層体が防眩層を有する場合は、上記ヘイズは、積層体全体で８０％未満であってもよい。上記防眩層は、内部拡散によるヘイズと、最表面の凹凸形状によるヘイズからなってよく、内部拡散によるヘイズは、３．０％以上７９％未満であることが好ましく、１０％以上５０％未満であることがより好ましい。最表面のヘイズは、１％以上３５％未満であることが好ましく、１％以上２０％未満であることがより好ましく、１％以上１０％未満であることが更に好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
【００３９】
本発明の光学積層体の硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることが更に好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００４０】
本発明の光学積層体を製造する方法としては、光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有し、上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる、方法を挙げることができる。このため、上述の浸透性溶剤を使用することなく、干渉縞が発生せず外観に優れ、硬度が高く、基材とハードコート層との密着性に優れる光学積層体を製造することができる。
上記ハードコート層を形成する方法としては、上述のハードコート層形成用組成物を使用して、ハードコート層を形成する方法と同様の方法を挙げることができる。
このような光学積層体の製造方法も本発明の一つである。
【００４１】
本発明の光学積層体は、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。
【００４２】
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材（トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００４３】
本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ等の非自発光型画像表示装置であっても、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ等の自発光型画像表示装置であってもよい。
【００４４】
上記非自発光型の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。
【００４５】
本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００４６】
上記自発光型画像表示装置であるＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
【００４７】
上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
【００４８】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００４９】
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、干渉縞が発生せず外観が良好であり、密着性や硬度に優れたものである。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の光学積層体の断面の概略図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００５１】
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００５２】
以下の製造例１〜３１に示した配合によってハードコート層形成用組成物１〜３１を調製した。
＜製造例１ ハードコート層形成用組成物１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５３】
＜製造例２ ハードコート層形成用組成物２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ７０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ３０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５４】
＜製造例３ ハードコート層形成用組成物３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ７０質量部
【００５５】
＜製造例４ ハードコート層形成用組成物４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ４０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬社製；ＴＭＰＴＡ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５６】
＜製造例５ ハードコート層形成用組成物５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴＭＳ、平均粒子径２０ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５７】
＜製造例６ ハードコート層形成用組成物６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ（Ｌ）、平均粒子径４０ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００５８】
＜製造例７ ハードコート層形成用組成物７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（荒川化学社製；ＢＳ９０６、コロイダルシリカ４０％含有、平均粒子径５０ｎｍ） １００質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ＩＰＡ １００質量部
【００５９】
＜製造例８ ハードコート層形成用組成物８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（モメンティブ社製；ＸＲ３９−Ｃ３７９６、固形分中にコロイダルシリカ（平均粒子径２０ｎｍ）を７０％含有し、ペンタエリスリトールトリアクリレートを３０％含有する） １００質量部（固形換算）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ＩＰＡ １００質量部
【００６０】
＜製造例９ ハードコート層形成用組成物９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６１】
＜製造例１０ ハードコート層形成用組成物１０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＺＬ、平均粒子径８０ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６２】
＜製造例１１ ハードコート層形成用組成物１１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００６３】
＜製造例１２ ハードコート層形成用組成物１２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００６４】
＜製造例１３ ハードコート層形成用組成物１３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＵＰ、平均一次粒径７ｎｍ、平均連結数４個、平均二次粒径２５ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ４質量部
【００６５】
＜製造例１４ ハードコート層形成用組成物１４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
６３質量部（固形換算２５質量部相当）
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） ８３質量部（固形換算２５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ５４質量部
ノルマルブタノール ４質量部
【００６６】
＜製造例１５ ハードコート層形成用組成物１５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１５０質量部（固形換算６０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ４０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ６０質量部
【００６７】
＜製造例１６ ハードコート層形成用組成物１６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
８８質量部（固形換算３５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ６５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ９７質量部
【００６８】
＜製造例１７ ハードコート層形成用組成物１７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００６９】
＜製造例１８ ハードコート層形成用組成物１８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ２５質量部
【００７０】
＜製造例１９ ハードコート層形成用組成物１９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
ポリマーアクリレート（荒川化学社製、ビームセットＤＫ１、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤） １３質量部（固形換算１０質量部相当）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７１】
＜製造例２０ ハードコート層形成用組成物２０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
ウレタンアクリレート（日本合成社製、ＵＶ１７００Ｂ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７２】
＜製造例２１ ハードコート層形成用組成物２１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１２５質量部（固形換算５０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ４０質量部
トリメチロールプロパン（日本化薬社製、ＴＭＰＴＡ） １０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ２５質量部
【００７３】
＜製造例２２ ハードコート層形成用組成物２２＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ２、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；アクリル系シランカップリング剤（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５１０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３４質量部
【００７４】
＜製造例２３ ハードコート層形成用組成物２３＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ３４質量部
【００７５】
＜製造例２４ ハードコート層形成用組成物２４＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、平均粒子径４４ｎｍ、固形分３０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３）） １６６質量部（固形換算５０質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ３４質量部
【００７６】
＜製造例２５ ハードコート層形成用組成物２５＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１００質量部（固形換算４０質量部相当）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製；ＤＰＨＡ） ５０質量部
ポリマーアクリレート（荒川化学社製、ビームセットＤＫ１、固形分７５％、ＭＩＢＫ溶剤） １３質量部（固形換算１０質量部相当）
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ３７質量部
防汚剤（ＤＩＣ社製、メガファックＲＳ７１） 固形換算０．６質量部相当
【００７７】
＜製造例２６ ハードコート層形成用組成物２６＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ９５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００７８】
＜製造例２７ ハードコート層形成用組成物２７＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ９５質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００７９】
＜製造例２８ ハードコート層形成用組成物２８＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ５０質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
メチルエチルケトン ７０質量部
【００８０】
＜製造例２９ ハードコート層形成用組成物２９＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日産化学社製；ＩＰＡＳＴ、平均粒子径１２ｎｍ、コロイダルシリカ） ５０質量部（固形換算）
ウレタンアクリレート（日本合成社製；ＵＶ６３００Ｂ） ４９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） １質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ７０質量部
【００８１】
＜製造例３０ ハードコート層形成用組成物３０＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
６３質量部（固形換算２５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ７５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール １１２質量部
【００８２】
＜製造例３１ ハードコート層形成用組成物３１＞
表面処理をしたシリカ微粒子（日揮触媒化成製、製品名ＤＰ１０３９ＳＩＶ；平均一次粒径２０ｎｍ、平均連結数３．５個、平均二次粒径５５ｎｍ、固形分４０％、コロイダルシリカ、溶剤；ＭＩＢＫ、表面処理剤；メタアクリル系シランカップリング剤（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業社製ＫＢＭ−５０３））
１８８質量部（固形換算７５質量部相当）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬社製；ＰＥＴ３０） ２５質量部
イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） ４質量部
ノルマルブタノール ３７質量部
【００８３】
（実施例１）
＜光学積層体の製造＞
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム；富士写真フィルム社製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、ハードコート層形成用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、１５ｇ／ｃｍ２（乾燥時）のハードコート層を形成し、これにより光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体を調製した。
【００８４】
実施例２〜２５、比較例ｌ〜６
実施例１においてハードコート層形成用組成物１の代わりにハードコート層形成用組成物２〜３１を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜２５及び比較例１〜６の光学積層体を製造した。
【００８５】
実施例、比較例で得られた光学積層体を以下の方法により評価した。結果を表１に示した。
【００８６】
（評価１：鉛筆硬度）
鉛筆硬度試験；鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度４Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて測定した。
【００８７】
（評価２：耐ＳＷ性）
作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を、＃００００番のスチールウールを用いて、摩擦荷重を変化させ、１０往復摩擦し、その後の塗膜の傷、剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
◎：１０００ｇ／ｃｍ２荷重で、傷なし、塗膜の剥がれなし
○：７００ｇ／ｃｍ２で傷なし、塗膜の剥がれなし（１０００ｇ／ｃｍ２では傷又は塗膜の剥がれあり）
×：７００ｇ／ｃｍ２で傷又は塗膜の剥がれがあった
【００８８】
（評価３：密着性）
上記密着性は、クロスカット碁盤目試験により行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比で下記の基準に基づいて評価した。
○：９５／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜９４／１００
×：５０／１００未満
【００８９】
（評価４：干渉縞の発生の有無）
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を下記の基準にて評価した。
○：干渉縞の発生はなかった。
×：干渉縞の発生があった。
【００９０】
（評価５：ヘイズ）
ヘイズ値（％）について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：１．０％以下
×：１．０％より大きい
【００９１】
（評価６：全光線透過率）
全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に従って測定し、下記の基準にて評価した。
○：９０％以上
×：９０％未満
【００９２】
（評価７：耐ケン化性）
作製したハードコートフィルム（上記光学積層体）を、５５度に保たれた、ケン化液（２規定の水酸化ナトリウム水溶液）に入れ、２分浸漬させる。その後、充分に水洗した後、７０度で５分乾燥させる。評価２の耐ＳＷ性試験を行って、下記の基準にて評価した。
○：傷なし、塗膜の剥がれなし
×：傷または塗膜の剥がれがあった
【００９３】
【表１】
【００９４】
表１より、実施例の光学積層体は、いずれも干渉縞が発生せず、光学特性、基材とハードコート層との密着性、及び、硬度のすべてにおいて優れたものであった。一方、比較例の光学積層体は、すべての項目に優れるものはなかった。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００９６】
１ ハードコート層
２ 光透過性基材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、
前記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、
前記コロイダルシリカの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、
前記溶剤は、前記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカである請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
表面処理コロイダルシリカは、表面に紫外線反応性官能基を有する請求項３記載の光学積層体。
【請求項５】
コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３５〜６０質量％である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【請求項６】
コロイダルシリカは、ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状である請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種である請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
【請求項８】
ハードコート層は、更に、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有する請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
【請求項９】
ハードコート層の光透過性基材と反対側面上に、更に、帯電防止層、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、防眩層、前記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、前記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されている請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体。
【請求項１０】
光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
前記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、
前記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、
前記コロイダルシリカの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、
前記溶剤は、前記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項１１】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８若しくは９記載の光学積層体、又は、請求項１１記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１】
光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、
前記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、
前記コロイダルシリカの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、
前記溶剤は、前記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中６０〜１００質量％である請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカである請求項１又は２記載の光学積層体。
【請求項４】
表面処理コロイダルシリカは、表面に紫外線反応性官能基を有する請求項３記載の光学積層体。
【請求項５】
コロイダルシリカの配合量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３５〜６０質量％である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【請求項６】
コロイダルシリカは、ハードコート層形成用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状である請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びメチルイソブチルケトンからなる群より選択される少なくとも一種である請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体。
【請求項８】
ハードコート層は、更に、帯電防止剤、防汚剤及び防眩剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有する請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の光学積層体。
【請求項９】
ハードコート層の光透過性基材と反対側面上に、更に、帯電防止層、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、防汚層、防眩層、前記ハードコート層と同種の第二のハードコート層、及び、前記ハードコート層と別種の他のハードコート層からなる群より選択される少なくとも一種が積層されている請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の光学積層体。
【請求項１０】
光透過性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法であって、
前記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層形成用組成物は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含み、
前記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及び／又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量％中２５質量％以上であり、
前記コロイダルシリカの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計１００質量％中３０〜７０質量％であり、
前記溶剤は、前記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
【請求項１１】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６、７、８若しくは９記載の光学積層体、又は、請求項１１記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−８５９８５（Ｐ２０１０−８５９８５Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１９９７２４（Ｐ２００９−１９９７２４）
【出願日】平成２１年８月３１日（２００９．８．３１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月３１日（２００９．８．３１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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