光活性組成中の発色団含有有機分子の電子的励起をクエンチする方法
【課題】
【解決手段】ＵＶ吸収性分子からの光安定化電子的励起状態エネルギー（特に一重項状態エネルギー）は、フェニル環の１つまたは両方の上にアルコキシラジカル（好適には４（パラ）位にあるもの）（本明細書中、以下メトキシクリレン）を有する化学式（Ｉ）および（Ｖ）のａ−シアノジフェニルアクリラート化合物に容易に転移する（によって受け入れられる）ことが分かっている。
ここで、Ｒ１およびＲ２のうち少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２アルコキシラジカルであり、好適にはＣ１−Ｃ８であり、より好適にはＣ１−Ｃ４であり、最も好適にはメトキシであり、アルコキシラジカルでないＲ１またはＲ２はいずれも水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ２４アルキル基であり、好適にはＣ１２−Ｃ２４であり、より好適にはＣ２０である。
ここで、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となる。
【解決手段】ＵＶ吸収性分子からの光安定化電子的励起状態エネルギー（特に一重項状態エネルギー）は、フェニル環の１つまたは両方の上にアルコキシラジカル（好適には４（パラ）位にあるもの）（本明細書中、以下メトキシクリレン）を有する化学式（Ｉ）および（Ｖ）のａ−シアノジフェニルアクリラート化合物に容易に転移する（によって受け入れられる）ことが分かっている。
ここで、Ｒ１およびＲ２のうち少なくとも１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２アルコキシラジカルであり、好適にはＣ１−Ｃ８であり、より好適にはＣ１−Ｃ４であり、最も好適にはメトキシであり、アルコキシラジカルでないＲ１またはＲ２はいずれも水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ２４アルキル基であり、好適にはＣ１２−Ｃ２４であり、より好適にはＣ２０である。
ここで、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光活性組成中の発色団含有ＵＶ吸収性有機分子の電子的励起状態（単数または複数）をクエンチする方法に関する。より詳細には、（好適には、フェニル環の１つの上の（あるいは双方のフェニル環上の））アルコキシラジカルを有するα−シアノ−β、βジフェニルアクリレート（クリレン）は、励起状態エネルギー（一重項および場合によっては三重項状態も）を受け入れることにより発色団の励起状態をクエンチし、これにより前記ＵＶ吸収性分子をその基底状態に戻して、前記発色団が例えば紫外線（ＵＶ）光からより多くの光子を吸収できるようにし、これにより、光活性組成中のＵＶ吸収性発色団含有有機分子（特に、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））を光安定化することが分かっている。
【背景技術】
【０００２】
発色団含有有機分子によって紫外線光が吸収されると、初期に占有していた低エネルギー軌道からのより高いエネルギーの以前に占有されていない軌道への発色団部分中の電子が励起される。前記吸収された光子のエネルギーは、電子の活性化に用いられ、また、前記吸収された光子のエネルギーにより、電子がより高いエネルギー軌道へと「ジャンプ」する（Ｔｕｒｒｏ、Ｍｏｄｅｒｎ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９９１を参照）。２つの励起電子状態は、ＵＶ光吸収により生成される電子軌道構成から導出される。１つの状態において、電子スピンは、対であり（逆並列）、他方の状態において、電子スピンは不対である（並列）。対にされたスピンの状態からはスピン磁気モーメントは発生しないが、不対スピンの状態からは純スピン磁気モーメントが発生する。対にされたスピンの状態からは、磁界の存在下で単一の状態が保持され、一重項状態と呼ばれる。不対スピンの状態は磁界と相互作用し、３つの量子化状態に分割され、三重項状態と呼ばれる。
【０００３】
電子励起状態において、発色団含有有機分子は、多数の既知の経路を介して劣化しがちであるため、さらなるＵＶ光をほとんど吸収できなくなる。十分なＵＶ保護を得るために電子的に励起された発色団含有有機分子を光安定化するには、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学反応を受ける前に基底状態に戻す必要がある。既知の光安定化日焼け止め添加剤には、例えば、励起三重項状態エネルギーのクエンチが可能な、本譲受人の米国特許第６，１１３，９３１号、６，２８４，９１６号、６，５１８，４５１号、および６，５５１，６０５号（これら全てを参考のため援用する）のオクトクリレン、メチルベンジリデンカンファー、およびナフタレンジカルボン酸のエステルまたはポリエステルがある。驚くべきことに、アルコキシクリレン（特にメトキシクリレン）は、発色団含有有機分子（特にブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））を電子的に励起一重項状態および励起三重項状態双方からその基底状態へと戻し、これによりＵＶ吸収性有機分子を光安定化させることが分かった。
【０００４】
Ｄｅｆｌａｎｄｒｅの米国５，５７６，３５４号は一般的には、少なくとも１重量％のα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートを含む化粧品用日焼け止め組成を開示している。α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートは、前記組成が脂肪相（例えば、グリセロールステアレート、イソプロピルミリステート）を含みかつα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートのジベンゾイルメタン誘導体に対するモル比が少なくとも０．８である場合、ジベンゾイルメタン誘導体（例えば、Ｐａｒｓｏｌ１７８９（アヴォベンゾン））を光安定化させる。前記’３５４特許中で好適とされまた上記例において開示されている化合物として、オクトクリレンがある。オクトクリレンは、アルコキシラジカル（単数または複数）（ＵＶＩＮＵＬＮ５３９）；β、β−ビス（４−メトキシフェニル）アクリレート（シアン基を含まない）およびアルコキシラジカル（単数または複数）を含まないα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートを含まない。
【０００５】
本譲受人の係属中の出願（シリアル番号第１０／２４１，３８８号、１０／３６１，２２３号、および１０／７８６５，７９３号）に記載のように、α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物（例えば、オクトクリレン）は、前記エネルギーを動力学的に高速異性化の形態で放散させることにより、励起光活性化合物の励起三重項状態エネルギーをクエンチする（受け入れる）ことが知られている。このプロセスを以下に示す。
【０００６】
【化１】
【０００７】
ここで、前記α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物（構造Ａとして上記に示したオクトクリレン）は、光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーを受け入れ、前記アクリレートのα位置およびβ位置においてジラジカル（構造Ａ＊として上記に示す）を形成し、これにより、前記二重結合が一重結合に変換され、前記フェニル基の自由回転が可能となる。この回転は高速で発生し、前記光活性化合物からのα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物によって受け入れられた任意の励起三重項状態エネルギーを効率的に放散させる。
【０００８】
オクトクリレンは光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーをクエンチする（受け入れる）ことで、ジベンゾイルメタン誘導体（Ｄｅｆｌａｎｄｒｅらの米国特許第５，５７６，３５４号（同文献を参考のため援用する）の例１、４、６および８中に示すようなもの）を一定レベルまで光安定化させるものの、光活性組成分野において、オクトクリレンでは不可能な、光活性化合物からの一重項励起状態エネルギーを（および好適には三重項励起状態エネルギーも）クエンチする（受け入れる）１つ以上の化合物を発見する必要が存在している。
【０００９】
極めて驚くべきことに、アルコキシ置換α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート（アルコキシクリレン）は、ＵＶ吸収性化合物の量と比較してローディング量が極めて低い場合においても、ＵＶ吸収性有機分子の電子励起一重項状態エネルギー（例えば、米国特許第５，５７６，３５４号のジベンゾイルメタン誘導体）をクエンチすることが分かっている。
【００１０】
前記光安定化電子的励起状態エネルギー（特に、ＵＶ吸収性分子からの一重項状態エネルギー）は、前記化学式（Ｉ）を有するフェニル環のうちの１つまたは両方上の４（パラ）位（以下メトキシクリレン）中のアルコキシラジカルを有するα−シアノジフェニルアクリラート化合物に容易に転移する（によって受け入れられる）ことが、分かっている。
【００１１】
【化２】
【００１２】
ここで、Ｒ１およびＲ２のうち１つまたは両方は、直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルコキシラジカル（好適にはＣ１−Ｃ８、より好適にはメトキシ）であり、非アルコキシラジカルＲ１またはＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルキル基（好適にはＣ２−Ｃ２０）である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、４．５％オクチルドセジルメトキシクリレン（Ｃ２ＯＭＣ）および２．７５％オクトクリレン（ＯＣ）によって得られた例１〜３の日焼け止め組成の光安定性を示すグラフ（３５ＭＥＤのＵＶ照射時）であり、ＵＶ照射前の光安定性との比較と、光安定化剤を含まない組成との比較とを示す。
【図２】図２は、例４の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【図３】図３は、例５の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【図４】図４は、例６の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書中、範囲は、「約」または「およそ」の後に続く特定値から「約」または「およそ」の後に続く別の特定値までとして示され得る。このような範囲が示される場合、別の実施形態は、特定の値からおよび／または他方の特定の値までを含む。同様に、「約」という先行詞によって近似値として値が示された場合、前記特定の値は別の実施形態を形成することが理解される。
【００１５】
本明細書中、「アルコキシ」という用語は、化学式Ｏ−Ｒを有するフェニル環のうち１つまたは両方のパラ位置からの基を示す。化学式Ｏ−Ｒにおいて、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキル基であり、好適にはＲ＝Ｃ１〜Ｃ８、より好適にはＣ２〜Ｃ２０、最も好適には−Ｏ−ＣＨ３（メトキシ）である。前記アルコキシラジカルの酸素原子は、前記フェニル環のうち１つまたは両方のパラ炭素原子（好適には、好適には化学式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）を有する前記フェニルのうち１つのみ）に共有結合する。
【００１６】
【化３】
ここで、Ｒ３は上記にて定義した通りである。
【００１７】
本明細書中用いられるような「クリレン」という用語は、α−シアノ−β、β−ジフェニルプロパン酸エステルを含む色素体部分を示す。本明細書中用いられるような「シアノ」という用語は、−Ｃ≡Ｎ基（「−ＣＮ」とも示す）を示す。
【００１８】
光活性組成（例えば日焼け止め組成）は一般的には、化粧品用途に受け入れられているキャリア（必要に応じて添加剤（例えば、皮膚軟化剤、安定剤、乳化剤ならびにこれらの組み合わせ）を含む）中にＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ光活性化合物を含む。これらの添加剤を用いて、１つ以上の光活性化合物と、溶媒または１つ以上の有機溶媒および水を含む溶媒組み合わせとを含む組成から、乳剤（水中油型または油中水型）中のＵＶフィルタ組成を作製することができる。作製時、好適には前記乳剤は水中油型乳剤であり、その油相は、主に前記ＵＶフィルタ化合物（単数または複数）および１つ以上の有機溶媒の混合物から形成される。
【００１９】
典型的な光活性組成は１つ以上の光活性化合物を含み、前記光活性化合物（単数または複数）は、ＵＶ照射を吸収することで、素地（例えば、ヒトの皮膚、樹脂、フィルム）をＵＶ照射の有害な影響から保護するように機能する。前記吸収プロセスにより光活性化合物は励起状態に達し、前記励起状態は、前記光活性化合物の基底状態と比較して、励起電子エネルギー（例えば、一重項状態エネルギーまたは三重項状態エネルギー）の存在によって特徴付けられる。光活性化合物が励起状態に達した後は、前記励起光活性化合物がその過剰エネルギー（例えば、一重項および／または三重項エネルギー）を放散する際の経路が複数存在する。しかし、これらの経路のうち多くは、前記光活性化合物が持つＵＶ照射をさらに吸収する能力に悪影響を与える。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子は、ＵＶ吸収剤（特に、アヴォベンゾン、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））からの電子一重項励起状態エネルギーを受け入れる。前記アルコキシクリレンはまた、日焼け止め組成中の他のＵＶ吸収性化合物をクエンチする電子一重項状態エネルギーを提供することができるのに加え、極めて有効なＵＶＡ吸収剤でもある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子は、１つ以上のさらなる電子一重項励起状態クエンチ化合物（例えばオキシベンゾン）と組み合わされると、特に効果的である。本明細書中記載のアルコキシクリレン分子ならびにオクチルメトキシシンナメートおよびアヴォベンゾンを含む日焼け止め組成において、特に驚くべき光安定化が達成される。
【００２０】
光活性化合物とは、光に対して光電的に反応するものである。本明細書中開示される組成および光安定化方法において、光活性化合物は、ＵＶ照射に対して光電的に反応するものである。例えば、光活性化合物光分解によりＵＶ照射に光電的に反応する光活性化合物含有組成は全て、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子を含むことにより、大きな恩恵を受ける。本明細書中記載のアルコキシクリレンは、Ｓｈａａｔｈ，Ｎａｄｉｍ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ ＵＶ ｆｉｌｔｅｒｓ、(c)２００７（同文献を参考のため援用する）に記載されている任意の単一の光活性化合物またはその組み合わせと組み合わされた場合、有用な光安定化剤および／または光活性化合物となる。全てのＵＶフィルタは、ＵＶ照射に晒された際に電子一重項励起状態に達するため、光安定性が問題となる。
【００２１】
以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子により光安定化されると理論付けられる。本明細書中記載のアルコキシクリレンは、以下のもの全てを含み、任意の２つ以上の組み合わせを含み、以下のカテゴリー（特定例を含む）から選択された化合物を含む：ｐ−アミノ安息香酸、その塩およびその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニル酸塩（ｏ−アミノ安息香酸塩、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、およびシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサラート）、グリセリル、およびジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチルおよびベンジルエステル、アルファ−フェニル桂皮酸ニトリル、ブチルシンナモイルピルビン酸塩）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトサルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、およびテレフタリリデンジカンフルスルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルエスクレチン、ダフネチン、および前記グルコシド、エスクリンおよびダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルホン酸塩（２−ナフトール−３、６−ジスルホンおよび２−ナフトール−６、８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−およびｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、多様なアリールベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレイン酸塩、およびタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−またはメトキシ置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、およびベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルシノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、および４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）。
【００２２】
以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子により、特に光安定化されるべきである：２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメート、４、４’−ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、オクチルジメチルｐ−アミノ安息香酸塩、ジガロイル三オレイン酸塩、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸塩、２−エチルヘキシルサリシレート、グリセロールｐ−アミノ安息香酸塩、３、３、５−トリメチルシクロヘキシルサリシレート、およびこれらの組み合わせ。
【００２３】
本明細書中開示される光活性組成は、好適には１つ以上のＵＶ−Ａ光活性化合物および１つ以上のＵＶ−Ｂ光活性化合物を含む多様な光活性化合物を含むことができる。好適には、日焼け止め組成は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエートおよび塩およびその誘導体、ならびに上記の組み合わせからなる群から選択された光活性化合物を含む。
【００２４】
ＵＶＡ照射（約３２０ｎｍ〜約４００ｎｍ）は、皮膚（特に、薄く色づいた皮膚または敏感な皮膚）へのダメージの一因となることが知られている。本明細書中開示される日焼け止め組成は好適には、ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適には、本明細書中開示される日焼け止め組成は、ジベンゾイルメタン誘導体ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適なジベンゾイルメタン誘導体を挙げると、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチルジベンゾイルメタン、２、５−ジメチルジベンゾイルメタン、４、４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４’−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル４’−メトキシジベンゾイルメタン、２、６−ジメチル４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせ。
【００２５】
米国内で市販される製品の場合、好適な化粧品用途として受け入れ可能な光活性化合物および濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセントとして報告されている）を挙げると、アミノ安息香酸（パラアミノ安息香酸およびＰＡＢＡとも呼ばれる、１５％以下）、アヴォベンゾン（ブチルメトキシジベンゾイルメタンとも呼ばれる、３％以下）、シノキサート（２エトキシエチルｐメトキシシンナメートとも呼ばれる、３％以下）、ジオキシベンゾン（ベンゾフェノン８とも呼ばれる、３％以下）、ホモサラート（３、３、５−トリメチルシクロヘキシルサリシレートとも呼ばれる、１５％以下）、メンチルアントラニル酸塩（メンチル２アミノ安息香酸塩とも呼ばれる、５％以下）、オクトクリレン（２エチルヘキシル２シアノ３、３ジフェニルアクリレートとも呼ばれる、１０％以下）、オクチルメトキシシンナメート（７．５％以下）、オクチルサリシレート（２エチルヘキシルサリシレートとも呼ばれる、５％以下）、オキシベンゾン（ベンゾフェノン３とも呼ばれる、６％以下）、パジマートＯ（オクチルジメチルＰＡＢＡとも呼ばれる、８％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（水溶性、４％以下）、スリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる、１０％以下）、二酸化チタン（２５％以下）、トロラミンサリチル塩（トリエタノールアミンサリシレートとも呼ばれる、１２％以下）、および酸化亜鉛（２５％以下）がある。
【００２６】
他の好適な化粧品用途に受け入れ可能な光活性化合物および好適な濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセント）を挙げると、ジエタノールアミンメトキシシンナメート（１０％以下）、エチル−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸塩（５％以下）、グリセリルアミノ安息香酸塩（３％以下）、４イソプロピルジベンゾイルメタン（５％以下）、４メチルベンジリデンカンファー（６％以下）、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸（１０％以下）、およびスリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる、１０％以下）がある。
【００２７】
欧州連合内で市販される製品の場合、好適な化粧品用途に受け入れ可能な光活性化合物および好適な濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセントとして報告される）を挙げると、ＰＡＢＡ（５％以下）、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート（６％以下）、ホモサラート（１０％以下）、ベンゾフェノン３（１０％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（８％以下、酸として示される）、テレフタリデンジショウノウスルホン酸（１０％以下、酸として示される）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（５％以下）、ベンジリデンカンファースルホン酸（６％以下、酸として示される）、オクトクリレン（１０％以下、酸として示される）、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（６％以下）、エチルヘキシルメトキシシンナメート（１０％以下）、ＰＥＧ２５ＰＡＢＡ（１０％以下）、イソアミルｐメトキシシンナメート（１０％以下）、エチルヘキシルトリアゾン（５％以下）、ドラマトリアゾールトリエルオキサン（１５％以下）、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（１０％以下）、４メチルベンジリデンカンファー（４％以下）、３ベンジリデンカンファー（２％以下）、エチルヘキシルサリシレート（５％以下）、エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（８％以下）、ベンゾフェノン４（５％、酸として示される）、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下）、二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート（１０％以下、酸として示される）、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェノールトリアジン（１０％以下）、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍまたはビソクトリゾールとも呼ばれる）、およびビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓまたはベモトリジノールとも呼ばれる）がある。
【００２８】
上記したＵＶフィルタは全て、市販されている。例えば、適切な市販されている有機ＵＶフィルタは、以下の表１中の商標名および供給業者により、特定される。
【００２９】
【表１】
【００３０】
本発明の譲受人に譲渡された米国特許第６，４８５，７１３号および６，５３７，５２９号（本明細書中、同文献の開示内容を参考のため援用する）中に、例えば組成の油相に極性溶媒を付加することにより、日焼け止め組成中の光活性化合物の光安定性を増加させる組成および方法についての記載がある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン（例えばメトキシクリレン）を含む日焼け止め組成の油相の極性を増加させることにより、オクトクリレンと比較して、前記日焼け止め組成の安定性が驚くほど増加する。本明細書中記載される日焼け止め組成において、好適には、前記組成の油相中に１つ以上の高極性溶媒が存在する。好適には、前記日焼け止め組成中には、前記組成の油相の誘電率を少なくとも約７（好適には少なくとも約８）に増加させるために、十分な量の極性溶媒が存在する。前記油相中に高極性溶媒があってもなくても、本明細書中記載のメトキシクリレン分子は、オクトクリレンと比較して、予期しない光安定性を生み出す。
【００３１】
光活性化合物は、例えば３０ＭＥＤ照射後に、或る波長または対象波長範囲（例えば、光活性化合物がピーク吸光度（例えば、アヴォベンゾンの場合３５０−３７０ｎｍ）を有する波長）において、その元々の吸光度の少なくとも約９０％を保持するような場合、安定したものとみなすことができる。同様に、日焼け止め組成は、複数の光活性化合物および日焼け止め組成を含むことができ、全体として、例えば３０ＭＥＤ照射後に、１つ以上の対象波長において（例えば、主要光活性化合物のピーク吸光度波長においてまたはその近隣において）、その元々の吸光度の少なくとも約９０％を保持するような場合、安定したものとみなすことができる。
【００３２】
メチルまたはエチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（メチルまたはエチルメトキシクリレンまたはメチルまたはエチルＭｅＯクリレン）の合成
【００３３】
【化４】
【００３４】
４−メトキシベンゾフェノン（ＭＷ＝１８２．２２ｇ／モル；５００ｇ；２．７４モル；１モル等量）およびシアノ酢酸メチル（ＭＷ＝９９．０９ｇ／モル；３６７．０６ｇ；３．７０モル；１．３５モル等量）を、メカニカルスターラーおよび窒素入口を取り付けた１Ｌの三つ口フラスコ中に配置した。これらのメカニカルスターラーおよび窒素入口により、反応混合物中を窒素が連続的に流れるようになっている（窒素は反応混合物中で泡立てられる）。次に、トルエン（１２００ｍｌ）および酢酸（２４０ｍｌ；トルエン／酢酸比＝５／１）を前記フラスコに追加し、その後、酢酸アンモニウムを追加する（ＭＷ＝７７．０９ｇ／モル；２１．１２ｇ；０．２７４モル、０．１モル等量；反応時間中、触媒をこの量で４回付加する）。その後、前記フラスコにディーン−スターク受器を取り付ける。ディーン−スターク受器を通じて、反応水が連続的に除去される。
【００３５】
コメント：
１．アリコートの前記反応混合物を取り出して、前記反応の完了率を確認する。
２．この反応から予期される水の量は４９．５ｍｌである。しかし、私は約１２０ｍｌの水相を収集した。これは、前記水が混合物（水／酢酸／トルエン）の形態で蒸留されたためである。
３．前記反応混合物からメチルアセテートが失われないようにするため、ディーン−スターク受器と前記フラスコとの間に短尺の充填カラムを配置するとよい。
【００３６】
ワークアップ
前記反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルを付加して全固形物を溶解させた後、粗混合物を水で数回洗浄して酢酸および塩を除去する。その後、前記溶媒を蒸留により前記反応混合物から除去する。粗固形生成物を熱メタノール（またはトルエン／メタノール混合物（ただし、好適な場合））から再結晶化させる。
【００３７】
コメント
最終生成物は、前記冷却反応混合物から結晶化し始めるため濾過することができるが、それでも極めて高酸性であるため、結晶を水／メタノール混合物で洗浄して、あらゆる酢酸および塩残留物を洗い落とすべきである。その後、このようにして得られた生成物を再結晶化させることができ、母液を水で洗浄し、乾燥させることができ、第２クロップの生成物を得ることができる。
アルキル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートの合成
【００３８】
【化５】
【００３９】
反応手順
メチル（またはエチル）２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（９００ｇ、３．０６モル；ＭＷ＝２９３．３２）、アルキルアルコール（３．８４モル；１．２５モル等量）、およびＴｅｇｏｋａｔ２５０（総バッチ重量の０．０３％）を２Ｌ三つ口丸底フラスコ中に配置し、１８５Ｃ（３６５Ｆ）に設定された温度まで加熱し、窒素によりこれを良好にパージして、充填カラムを備えた簡単な蒸留セットアップを介して、生成メタノール（またはエタノール）を除去する。
３時間後、ＧＣから、メチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートは所望の生成物へ完全に変換されたことが分かった。
【００４０】
ワークアップ
真空蒸留により、未反応のアルキルアルコールを完全に除去した。前記反応の温度を１１０Ｃ（２３０Ｆ）まで下げ、計算された量（総バッチ重量の２％）の前記ＳＳＰ（スズ除去剤）を付加した。前記生成物をこの温度で２時間攪拌した後、高温濾過した。少量のセリットを付加した直後に濾過を行って濾過を促進させた。セリットの使用により、濾過がより高効率かつ高速になった。
【００４１】
結果
生成物収率：化学量論量の９４％
最終生成物の純度：９９．８１％（エリアカウント、ＧＣ）
【００４２】
例
本明細書中記載のアルコキシクリレンの光安定性効果を示すために、記載の手順に従って以下の組成（表１）を作成した。「メトキシクリレン」として示される化合物は、以下の化学式（ＩＶ）を有した。
【００４３】
【化６】
【００４４】
【００４５】
先行技術のオクトクリレンと比較した、表１の日焼け止め組成（メトキシクリレンを含む）の驚くべき光安定性を、上記例１〜例３のデータのグラフである図１および例４〜例６に関する以下のＳＰＦ報告書のグラフに示す。
【００４６】
【表２】
【００４７】
表２中に示す手順に従って、さらなるメトキシクリレン分子を試験した。ここで、化学式（Ｉ）のメトキシクリレンの基Ｒ３はＲ３＝エチルヘキシル（化学式Ｖ）を有する。
【００４８】
【化７】
【００４９】
例４の日焼け止め組成のデータを図２のグラフに示し、例５の組成のデータを図３のグラフに示す。例４〜例６については、例６のデータ（図４のようなグラフ形態で示す）では、７％のエチルヘキシルメトキシクリレン（化学式Ｖ）および１．８％のオクトクリレン（例４）を８．８％のオクトクリレン（アルコキシクリレン無し）と比較している。図４のグラフおよび例４〜６に関する以下のＳＰＦ報告書に示すように、本明細書中記載のアルコキシクリレンは、オクトクリレンよりも予期しないほど良好な光安定化剤である。
【００５０】
【００５１】
化学式（Ｉ）〜（Ｖ）の簡単なエステルアルコキシクリレン化合物に加え、前記アルコキシクリレン部分を、ポリエステル分子上の１つ以上の末端部分（例えば、本譲受人の米国特許第７，２３５，５８７号（’５８７）（同文献を参考のため援用する）中に開示されているＤｉ（ＮＰＧクリレン）フメレートポリエステルのアルコキシ誘導体）として、化学式（ＶＩ）中に示すように付加することができる。
【００５２】
【化８】
【００５３】
ここで、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択される。Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択される。Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択される。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択される。ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、合計１、２、３または４になる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光活性組成中の発色団含有ＵＶ吸収性有機分子の電子的励起状態（単数または複数）をクエンチする方法に関する。より詳細には、（好適には、フェニル環の１つの上の（あるいは双方のフェニル環上の））アルコキシラジカルを有するα−シアノ−β、βジフェニルアクリレート（クリレン）は、励起状態エネルギー（一重項および場合によっては三重項状態も）を受け入れることにより発色団の励起状態をクエンチし、これにより前記ＵＶ吸収性分子をその基底状態に戻して、前記発色団が例えば紫外線（ＵＶ）光からより多くの光子を吸収できるようにし、これにより、光活性組成中のＵＶ吸収性発色団含有有機分子（特に、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））を光安定化することが分かっている。
【背景技術】
【０００２】
発色団含有有機分子によって紫外線光が吸収されると、初期に占有していた低エネルギー軌道からのより高いエネルギーの以前に占有されていない軌道への発色団部分中の電子が励起される。前記吸収された光子のエネルギーは、電子の活性化に用いられ、また、前記吸収された光子のエネルギーにより、電子がより高いエネルギー軌道へと「ジャンプ」する（Ｔｕｒｒｏ、Ｍｏｄｅｒｎ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９９１を参照）。２つの励起電子状態は、ＵＶ光吸収により生成される電子軌道構成から導出される。１つの状態において、電子スピンは、対であり（逆並列）、他方の状態において、電子スピンは不対である（並列）。対にされたスピンの状態からはスピン磁気モーメントは発生しないが、不対スピンの状態からは純スピン磁気モーメントが発生する。対にされたスピンの状態からは、磁界の存在下で単一の状態が保持され、一重項状態と呼ばれる。不対スピンの状態は磁界と相互作用し、３つの量子化状態に分割され、三重項状態と呼ばれる。
【０００３】
電子励起状態において、発色団含有有機分子は、多数の既知の経路を介して劣化しがちであるため、さらなるＵＶ光をほとんど吸収できなくなる。十分なＵＶ保護を得るために電子的に励起された発色団含有有機分子を光安定化するには、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学反応を受ける前に基底状態に戻す必要がある。既知の光安定化日焼け止め添加剤には、例えば、励起三重項状態エネルギーのクエンチが可能な、本譲受人の米国特許第６，１１３，９３１号、６，２８４，９１６号、６，５１８，４５１号、および６，５５１，６０５号（これら全てを参考のため援用する）のオクトクリレン、メチルベンジリデンカンファー、およびナフタレンジカルボン酸のエステルまたはポリエステルがある。驚くべきことに、アルコキシクリレン（特にメトキシクリレン）は、発色団含有有機分子（特にブチルメトキシジベンゾイルメタン（アヴォベンゾン）、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））を電子的に励起一重項状態および励起三重項状態双方からその基底状態へと戻し、これによりＵＶ吸収性有機分子を光安定化させることが分かった。
【０００４】
Ｄｅｆｌａｎｄｒｅの米国５，５７６，３５４号は一般的には、少なくとも１重量％のα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートを含む化粧品用日焼け止め組成を開示している。α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートは、前記組成が脂肪相（例えば、グリセロールステアレート、イソプロピルミリステート）を含みかつα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートのジベンゾイルメタン誘導体に対するモル比が少なくとも０．８である場合、ジベンゾイルメタン誘導体（例えば、Ｐａｒｓｏｌ１７８９（アヴォベンゾン））を光安定化させる。前記’３５４特許中で好適とされまた上記例において開示されている化合物として、オクトクリレンがある。オクトクリレンは、アルコキシラジカル（単数または複数）（ＵＶＩＮＵＬＮ５３９）；β、β−ビス（４−メトキシフェニル）アクリレート（シアン基を含まない）およびアルコキシラジカル（単数または複数）を含まないα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレートを含まない。
【０００５】
本譲受人の係属中の出願（シリアル番号第１０／２４１，３８８号、１０／３６１，２２３号、および１０／７８６５，７９３号）に記載のように、α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物（例えば、オクトクリレン）は、前記エネルギーを動力学的に高速異性化の形態で放散させることにより、励起光活性化合物の励起三重項状態エネルギーをクエンチする（受け入れる）ことが知られている。このプロセスを以下に示す。
【０００６】
【化１】
【０００７】
ここで、前記α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物（構造Ａとして上記に示したオクトクリレン）は、光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーを受け入れ、前記アクリレートのα位置およびβ位置においてジラジカル（構造Ａ＊として上記に示す）を形成し、これにより、前記二重結合が一重結合に変換され、前記フェニル基の自由回転が可能となる。この回転は高速で発生し、前記光活性化合物からのα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート化合物によって受け入れられた任意の励起三重項状態エネルギーを効率的に放散させる。
【０００８】
オクトクリレンは光活性化合物からの三重項励起状態エネルギーをクエンチする（受け入れる）ことで、ジベンゾイルメタン誘導体（Ｄｅｆｌａｎｄｒｅらの米国特許第５，５７６，３５４号（同文献を参考のため援用する）の例１、４、６および８中に示すようなもの）を一定レベルまで光安定化させるものの、光活性組成分野において、オクトクリレンでは不可能な、光活性化合物からの一重項励起状態エネルギーを（および好適には三重項励起状態エネルギーも）クエンチする（受け入れる）１つ以上の化合物を発見する必要が存在している。
【０００９】
極めて驚くべきことに、アルコキシ置換α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート（アルコキシクリレン）は、ＵＶ吸収性化合物の量と比較してローディング量が極めて低い場合においても、ＵＶ吸収性有機分子の電子励起一重項状態エネルギー（例えば、米国特許第５，５７６，３５４号のジベンゾイルメタン誘導体）をクエンチすることが分かっている。
【００１０】
前記光安定化電子的励起状態エネルギー（特に、ＵＶ吸収性分子からの一重項状態エネルギー）は、前記化学式（Ｉ）を有するフェニル環のうちの１つまたは両方上の４（パラ）位（以下メトキシクリレン）中のアルコキシラジカルを有するα−シアノジフェニルアクリラート化合物に容易に転移する（によって受け入れられる）ことが、分かっている。
【００１１】
【化２】
【００１２】
ここで、Ｒ１およびＲ２のうち１つまたは両方は、直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルコキシラジカル（好適にはＣ１−Ｃ８、より好適にはメトキシ）であり、非アルコキシラジカルＲ１またはＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルキル基（好適にはＣ２−Ｃ２０）である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、４．５％オクチルドセジルメトキシクリレン（Ｃ２ＯＭＣ）および２．７５％オクトクリレン（ＯＣ）によって得られた例１〜３の日焼け止め組成の光安定性を示すグラフ（３５ＭＥＤのＵＶ照射時）であり、ＵＶ照射前の光安定性との比較と、光安定化剤を含まない組成との比較とを示す。
【図２】図２は、例４の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【図３】図３は、例５の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【図４】図４は、例６の日焼け止め組成の３５ＭＥＤのＵＶ照射の前後の光安定性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書中、範囲は、「約」または「およそ」の後に続く特定値から「約」または「およそ」の後に続く別の特定値までとして示され得る。このような範囲が示される場合、別の実施形態は、特定の値からおよび／または他方の特定の値までを含む。同様に、「約」という先行詞によって近似値として値が示された場合、前記特定の値は別の実施形態を形成することが理解される。
【００１５】
本明細書中、「アルコキシ」という用語は、化学式Ｏ−Ｒを有するフェニル環のうち１つまたは両方のパラ位置からの基を示す。化学式Ｏ−Ｒにおいて、Ｒは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキル基であり、好適にはＲ＝Ｃ１〜Ｃ８、より好適にはＣ２〜Ｃ２０、最も好適には−Ｏ−ＣＨ３（メトキシ）である。前記アルコキシラジカルの酸素原子は、前記フェニル環のうち１つまたは両方のパラ炭素原子（好適には、好適には化学式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）を有する前記フェニルのうち１つのみ）に共有結合する。
【００１６】
【化３】
ここで、Ｒ３は上記にて定義した通りである。
【００１７】
本明細書中用いられるような「クリレン」という用語は、α−シアノ−β、β−ジフェニルプロパン酸エステルを含む色素体部分を示す。本明細書中用いられるような「シアノ」という用語は、−Ｃ≡Ｎ基（「−ＣＮ」とも示す）を示す。
【００１８】
光活性組成（例えば日焼け止め組成）は一般的には、化粧品用途に受け入れられているキャリア（必要に応じて添加剤（例えば、皮膚軟化剤、安定剤、乳化剤ならびにこれらの組み合わせ）を含む）中にＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ光活性化合物を含む。これらの添加剤を用いて、１つ以上の光活性化合物と、溶媒または１つ以上の有機溶媒および水を含む溶媒組み合わせとを含む組成から、乳剤（水中油型または油中水型）中のＵＶフィルタ組成を作製することができる。作製時、好適には前記乳剤は水中油型乳剤であり、その油相は、主に前記ＵＶフィルタ化合物（単数または複数）および１つ以上の有機溶媒の混合物から形成される。
【００１９】
典型的な光活性組成は１つ以上の光活性化合物を含み、前記光活性化合物（単数または複数）は、ＵＶ照射を吸収することで、素地（例えば、ヒトの皮膚、樹脂、フィルム）をＵＶ照射の有害な影響から保護するように機能する。前記吸収プロセスにより光活性化合物は励起状態に達し、前記励起状態は、前記光活性化合物の基底状態と比較して、励起電子エネルギー（例えば、一重項状態エネルギーまたは三重項状態エネルギー）の存在によって特徴付けられる。光活性化合物が励起状態に達した後は、前記励起光活性化合物がその過剰エネルギー（例えば、一重項および／または三重項エネルギー）を放散する際の経路が複数存在する。しかし、これらの経路のうち多くは、前記光活性化合物が持つＵＶ照射をさらに吸収する能力に悪影響を与える。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子は、ＵＶ吸収剤（特に、アヴォベンゾン、オクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）、およびオクチルサリシレート（オクチサレート））からの電子一重項励起状態エネルギーを受け入れる。前記アルコキシクリレンはまた、日焼け止め組成中の他のＵＶ吸収性化合物をクエンチする電子一重項状態エネルギーを提供することができるのに加え、極めて有効なＵＶＡ吸収剤でもある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン分子は、１つ以上のさらなる電子一重項励起状態クエンチ化合物（例えばオキシベンゾン）と組み合わされると、特に効果的である。本明細書中記載のアルコキシクリレン分子ならびにオクチルメトキシシンナメートおよびアヴォベンゾンを含む日焼け止め組成において、特に驚くべき光安定化が達成される。
【００２０】
光活性化合物とは、光に対して光電的に反応するものである。本明細書中開示される組成および光安定化方法において、光活性化合物は、ＵＶ照射に対して光電的に反応するものである。例えば、光活性化合物光分解によりＵＶ照射に光電的に反応する光活性化合物含有組成は全て、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子を含むことにより、大きな恩恵を受ける。本明細書中記載のアルコキシクリレンは、Ｓｈａａｔｈ，Ｎａｄｉｍ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ ＵＶ ｆｉｌｔｅｒｓ、(c)２００７（同文献を参考のため援用する）に記載されている任意の単一の光活性化合物またはその組み合わせと組み合わされた場合、有用な光安定化剤および／または光活性化合物となる。全てのＵＶフィルタは、ＵＶ照射に晒された際に電子一重項励起状態に達するため、光安定性が問題となる。
【００２１】
以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子により光安定化されると理論付けられる。本明細書中記載のアルコキシクリレンは、以下のもの全てを含み、任意の２つ以上の組み合わせを含み、以下のカテゴリー（特定例を含む）から選択された化合物を含む：ｐ−アミノ安息香酸、その塩およびその誘導体（エチル、イソブチル、グリセリルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸）、アントラニル酸塩（ｏ−アミノ安息香酸塩、メチル、メンチル、フェニル、ベンジル、フェニルエチル、リナリル、テルピニル、およびシクロヘキセニルエステル）、サリシレート（オクチル、アミル、フェニル、ベンジル、メンチル（ホモサラート）、グリセリル、およびジプロピレングリコールエステル）、桂皮酸誘導体（メンチルおよびベンジルエステル、アルファ−フェニル桂皮酸ニトリル、ブチルシンナモイルピルビン酸塩）、ジヒドロキシ桂皮酸誘導体（ウンベリフェロン、メチルウンベリフェロン、メチルアセト−ウンベリフェロン）、カンファー誘導体（３ベンジリデン、４メチルベンジリデン、ポリアクリルアミドメチルベンジリデン、ベンザルコニウムメトサルフェート、ベンジリデンカンファースルホン酸、およびテレフタリリデンジカンフルスルホン酸）、トリヒドロキシ桂皮酸誘導体（エスクレチン、メチルエスクレチン、ダフネチン、および前記グルコシド、エスクリンおよびダフニン）、炭化水素（ジフェニルブタジエン、スチルベン）、ジベンザルアセトン、ベンザルアセトフェノン、ナフトールスルホン酸塩（２−ナフトール−３、６−ジスルホンおよび２−ナフトール−６、８−ジスルホン酸のナトリウム塩）、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−およびｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩、クマリン誘導体（７−ヒドロキシ、７−メチル、３−フェニル）、ジアゾール（２−アセチル−３−ブロモインダゾール、フェニルベンゾオキサゾール、メチルナフトオキサゾール、多様なアリールベンゾチアゾール）、キニーネ塩（重硫酸塩、硫酸塩、塩化物、オレイン酸塩、およびタンニン酸塩）、キノリン誘導体（８−ヒドロキシキノリン塩、２−フェニルキノリン）、ヒドロキシ−またはメトキシ置換ベンゾフェノン、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、およびベンゾフェノン（オキシベンゾン、スリソベンゾン、ジオキシベンゾン、ベンゾレゾルシノール、オクタベンゾン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エトクリレン、および４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン）。
【００２２】
以下のＵＶフィルタは、本明細書中記載のアルコキシクリレン分子により、特に光安定化されるべきである：２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメート、４、４’−ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、オクチルジメチルｐ−アミノ安息香酸塩、ジガロイル三オレイン酸塩、エチル４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸塩、２−エチルヘキシルサリシレート、グリセロールｐ−アミノ安息香酸塩、３、３、５−トリメチルシクロヘキシルサリシレート、およびこれらの組み合わせ。
【００２３】
本明細書中開示される光活性組成は、好適には１つ以上のＵＶ−Ａ光活性化合物および１つ以上のＵＶ−Ｂ光活性化合物を含む多様な光活性化合物を含むことができる。好適には、日焼け止め組成は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエートおよび塩およびその誘導体、ならびに上記の組み合わせからなる群から選択された光活性化合物を含む。
【００２４】
ＵＶＡ照射（約３２０ｎｍ〜約４００ｎｍ）は、皮膚（特に、薄く色づいた皮膚または敏感な皮膚）へのダメージの一因となることが知られている。本明細書中開示される日焼け止め組成は好適には、ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適には、本明細書中開示される日焼け止め組成は、ジベンゾイルメタン誘導体ＵＶ−Ａ光活性化合物を含む。好適なジベンゾイルメタン誘導体を挙げると、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチルジベンゾイルメタン、２、５−ジメチルジベンゾイルメタン、４、４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４’−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル４’−メトキシジベンゾイルメタン、２、６−ジメチル４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせ。
【００２５】
米国内で市販される製品の場合、好適な化粧品用途として受け入れ可能な光活性化合物および濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセントとして報告されている）を挙げると、アミノ安息香酸（パラアミノ安息香酸およびＰＡＢＡとも呼ばれる、１５％以下）、アヴォベンゾン（ブチルメトキシジベンゾイルメタンとも呼ばれる、３％以下）、シノキサート（２エトキシエチルｐメトキシシンナメートとも呼ばれる、３％以下）、ジオキシベンゾン（ベンゾフェノン８とも呼ばれる、３％以下）、ホモサラート（３、３、５−トリメチルシクロヘキシルサリシレートとも呼ばれる、１５％以下）、メンチルアントラニル酸塩（メンチル２アミノ安息香酸塩とも呼ばれる、５％以下）、オクトクリレン（２エチルヘキシル２シアノ３、３ジフェニルアクリレートとも呼ばれる、１０％以下）、オクチルメトキシシンナメート（７．５％以下）、オクチルサリシレート（２エチルヘキシルサリシレートとも呼ばれる、５％以下）、オキシベンゾン（ベンゾフェノン３とも呼ばれる、６％以下）、パジマートＯ（オクチルジメチルＰＡＢＡとも呼ばれる、８％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（水溶性、４％以下）、スリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる、１０％以下）、二酸化チタン（２５％以下）、トロラミンサリチル塩（トリエタノールアミンサリシレートとも呼ばれる、１２％以下）、および酸化亜鉛（２５％以下）がある。
【００２６】
他の好適な化粧品用途に受け入れ可能な光活性化合物および好適な濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセント）を挙げると、ジエタノールアミンメトキシシンナメート（１０％以下）、エチル−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノ安息香酸塩（５％以下）、グリセリルアミノ安息香酸塩（３％以下）、４イソプロピルジベンゾイルメタン（５％以下）、４メチルベンジリデンカンファー（６％以下）、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸（１０％以下）、およびスリソベンゾン（ベンゾフェノン４とも呼ばれる、１０％以下）がある。
【００２７】
欧州連合内で市販される製品の場合、好適な化粧品用途に受け入れ可能な光活性化合物および好適な濃度（化粧品用日焼け止め組成合計の重量パーセントとして報告される）を挙げると、ＰＡＢＡ（５％以下）、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート（６％以下）、ホモサラート（１０％以下）、ベンゾフェノン３（１０％以下）、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（８％以下、酸として示される）、テレフタリデンジショウノウスルホン酸（１０％以下、酸として示される）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（５％以下）、ベンジリデンカンファースルホン酸（６％以下、酸として示される）、オクトクリレン（１０％以下、酸として示される）、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（６％以下）、エチルヘキシルメトキシシンナメート（１０％以下）、ＰＥＧ２５ＰＡＢＡ（１０％以下）、イソアミルｐメトキシシンナメート（１０％以下）、エチルヘキシルトリアゾン（５％以下）、ドラマトリアゾールトリエルオキサン（１５％以下）、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（１０％以下）、４メチルベンジリデンカンファー（４％以下）、３ベンジリデンカンファー（２％以下）、エチルヘキシルサリシレート（５％以下）、エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（８％以下）、ベンゾフェノン４（５％、酸として示される）、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下）、二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート（１０％以下、酸として示される）、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェノールトリアジン（１０％以下）、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍまたはビソクトリゾールとも呼ばれる）、およびビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（１０％以下、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓまたはベモトリジノールとも呼ばれる）がある。
【００２８】
上記したＵＶフィルタは全て、市販されている。例えば、適切な市販されている有機ＵＶフィルタは、以下の表１中の商標名および供給業者により、特定される。
【００２９】
【表１】
【００３０】
本発明の譲受人に譲渡された米国特許第６，４８５，７１３号および６，５３７，５２９号（本明細書中、同文献の開示内容を参考のため援用する）中に、例えば組成の油相に極性溶媒を付加することにより、日焼け止め組成中の光活性化合物の光安定性を増加させる組成および方法についての記載がある。本明細書中記載されるアルコキシクリレン（例えばメトキシクリレン）を含む日焼け止め組成の油相の極性を増加させることにより、オクトクリレンと比較して、前記日焼け止め組成の安定性が驚くほど増加する。本明細書中記載される日焼け止め組成において、好適には、前記組成の油相中に１つ以上の高極性溶媒が存在する。好適には、前記日焼け止め組成中には、前記組成の油相の誘電率を少なくとも約７（好適には少なくとも約８）に増加させるために、十分な量の極性溶媒が存在する。前記油相中に高極性溶媒があってもなくても、本明細書中記載のメトキシクリレン分子は、オクトクリレンと比較して、予期しない光安定性を生み出す。
【００３１】
光活性化合物は、例えば３０ＭＥＤ照射後に、或る波長または対象波長範囲（例えば、光活性化合物がピーク吸光度（例えば、アヴォベンゾンの場合３５０−３７０ｎｍ）を有する波長）において、その元々の吸光度の少なくとも約９０％を保持するような場合、安定したものとみなすことができる。同様に、日焼け止め組成は、複数の光活性化合物および日焼け止め組成を含むことができ、全体として、例えば３０ＭＥＤ照射後に、１つ以上の対象波長において（例えば、主要光活性化合物のピーク吸光度波長においてまたはその近隣において）、その元々の吸光度の少なくとも約９０％を保持するような場合、安定したものとみなすことができる。
【００３２】
メチルまたはエチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（メチルまたはエチルメトキシクリレンまたはメチルまたはエチルＭｅＯクリレン）の合成
【００３３】
【化４】
【００３４】
４−メトキシベンゾフェノン（ＭＷ＝１８２．２２ｇ／モル；５００ｇ；２．７４モル；１モル等量）およびシアノ酢酸メチル（ＭＷ＝９９．０９ｇ／モル；３６７．０６ｇ；３．７０モル；１．３５モル等量）を、メカニカルスターラーおよび窒素入口を取り付けた１Ｌの三つ口フラスコ中に配置した。これらのメカニカルスターラーおよび窒素入口により、反応混合物中を窒素が連続的に流れるようになっている（窒素は反応混合物中で泡立てられる）。次に、トルエン（１２００ｍｌ）および酢酸（２４０ｍｌ；トルエン／酢酸比＝５／１）を前記フラスコに追加し、その後、酢酸アンモニウムを追加する（ＭＷ＝７７．０９ｇ／モル；２１．１２ｇ；０．２７４モル、０．１モル等量；反応時間中、触媒をこの量で４回付加する）。その後、前記フラスコにディーン−スターク受器を取り付ける。ディーン−スターク受器を通じて、反応水が連続的に除去される。
【００３５】
コメント：
１．アリコートの前記反応混合物を取り出して、前記反応の完了率を確認する。
２．この反応から予期される水の量は４９．５ｍｌである。しかし、私は約１２０ｍｌの水相を収集した。これは、前記水が混合物（水／酢酸／トルエン）の形態で蒸留されたためである。
３．前記反応混合物からメチルアセテートが失われないようにするため、ディーン−スターク受器と前記フラスコとの間に短尺の充填カラムを配置するとよい。
【００３６】
ワークアップ
前記反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルを付加して全固形物を溶解させた後、粗混合物を水で数回洗浄して酢酸および塩を除去する。その後、前記溶媒を蒸留により前記反応混合物から除去する。粗固形生成物を熱メタノール（またはトルエン／メタノール混合物（ただし、好適な場合））から再結晶化させる。
【００３７】
コメント
最終生成物は、前記冷却反応混合物から結晶化し始めるため濾過することができるが、それでも極めて高酸性であるため、結晶を水／メタノール混合物で洗浄して、あらゆる酢酸および塩残留物を洗い落とすべきである。その後、このようにして得られた生成物を再結晶化させることができ、母液を水で洗浄し、乾燥させることができ、第２クロップの生成物を得ることができる。
アルキル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートの合成
【００３８】
【化５】
【００３９】
反応手順
メチル（またはエチル）２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアート（９００ｇ、３．０６モル；ＭＷ＝２９３．３２）、アルキルアルコール（３．８４モル；１．２５モル等量）、およびＴｅｇｏｋａｔ２５０（総バッチ重量の０．０３％）を２Ｌ三つ口丸底フラスコ中に配置し、１８５Ｃ（３６５Ｆ）に設定された温度まで加熱し、窒素によりこれを良好にパージして、充填カラムを備えた簡単な蒸留セットアップを介して、生成メタノール（またはエタノール）を除去する。
３時間後、ＧＣから、メチル２−シアノ−３−（４’−メトキシフェニル）−３−フェニルプロペノアートは所望の生成物へ完全に変換されたことが分かった。
【００４０】
ワークアップ
真空蒸留により、未反応のアルキルアルコールを完全に除去した。前記反応の温度を１１０Ｃ（２３０Ｆ）まで下げ、計算された量（総バッチ重量の２％）の前記ＳＳＰ（スズ除去剤）を付加した。前記生成物をこの温度で２時間攪拌した後、高温濾過した。少量のセリットを付加した直後に濾過を行って濾過を促進させた。セリットの使用により、濾過がより高効率かつ高速になった。
【００４１】
結果
生成物収率：化学量論量の９４％
最終生成物の純度：９９．８１％（エリアカウント、ＧＣ）
【００４２】
例
本明細書中記載のアルコキシクリレンの光安定性効果を示すために、記載の手順に従って以下の組成（表１）を作成した。「メトキシクリレン」として示される化合物は、以下の化学式（ＩＶ）を有した。
【００４３】
【化６】
【００４４】
【００４５】
先行技術のオクトクリレンと比較した、表１の日焼け止め組成（メトキシクリレンを含む）の驚くべき光安定性を、上記例１〜例３のデータのグラフである図１および例４〜例６に関する以下のＳＰＦ報告書のグラフに示す。
【００４６】
【表２】
【００４７】
表２中に示す手順に従って、さらなるメトキシクリレン分子を試験した。ここで、化学式（Ｉ）のメトキシクリレンの基Ｒ３はＲ３＝エチルヘキシル（化学式Ｖ）を有する。
【００４８】
【化７】
【００４９】
例４の日焼け止め組成のデータを図２のグラフに示し、例５の組成のデータを図３のグラフに示す。例４〜例６については、例６のデータ（図４のようなグラフ形態で示す）では、７％のエチルヘキシルメトキシクリレン（化学式Ｖ）および１．８％のオクトクリレン（例４）を８．８％のオクトクリレン（アルコキシクリレン無し）と比較している。図４のグラフおよび例４〜６に関する以下のＳＰＦ報告書に示すように、本明細書中記載のアルコキシクリレンは、オクトクリレンよりも予期しないほど良好な光安定化剤である。
【００５０】
【００５１】
化学式（Ｉ）〜（Ｖ）の簡単なエステルアルコキシクリレン化合物に加え、前記アルコキシクリレン部分を、ポリエステル分子上の１つ以上の末端部分（例えば、本譲受人の米国特許第７，２３５，５８７号（’５８７）（同文献を参考のため援用する）中に開示されているＤｉ（ＮＰＧクリレン）フメレートポリエステルのアルコキシ誘導体）として、化学式（ＶＩ）中に示すように付加することができる。
【００５２】
【化８】
【００５３】
ここで、ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択される。Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択される。Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択される。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択される。ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、合計１、２、３または４になる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光活性化合物および化学式（Ｉ）の化合物の混合物を含む光安定化された光活性組成であって、
前記光活性化合物は、ＵＶ照射に晒されると一重項励起状態となり、前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成中の前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチし、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることで、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、
Ｒ１およびＲ２のうち１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルコキシラジカルであり、前記アルコキシでないＲ１およびＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルキル基であることを特徴とする光安定化された光活性組成。
【請求項２】
Ｒ１はメトキシであり、Ｒ２は水素であることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３】
Ｒ２はメトキシであり、Ｒ１は水素であることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４】
Ｒ３はＣ１２〜Ｃ３０直鎖または分岐アルキルであることを特徴とする請求項２に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項５】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜２０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項６】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．５％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項７】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項８】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、３％〜８％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項７に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項９】
前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフチルスルホネートおよび塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体、ナフタレート誘導体、メトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ベンゾフェノン誘導体、１、３、５−トリアジン誘導体、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナートおよび塩およびその誘導体、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩、ジエチルアミノヒドロキシルベンゾイルおよびその誘導体、ならびに前記の組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１０】
前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１１】
シンナメートエステルをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１２】
前記シンナメートエステルは、２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメート、イソアミルｐ−メトキシシンナメート、およびその組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１３】
前記シンナメートエステルは２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメートであることを特徴とする請求項１２に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１４】
前記ジベンゾイルメタン誘導体はブチルメトキシジベンゾイルメタンを含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１５】
１〜１０重量％のナフタレンジカルボン酸エステルをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１６】
前記ナフタレンジカルボン酸エステルは、ジエチルヘキシル２、６−ナフタレンジカルボン酸エステルを含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１７】
サリシレートまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１８】
サリシレートまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１９】
ベンゾフェノンまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２０】
前記ベンゾフェノンは、０．１〜１０重量％のベンゾフェノン−３を含むことを特徴とする請求項１９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２１】
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２２】
ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２３】
前記光活性化合物は、１、３、５−トリアジン誘導体を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２４】
メチレンビス−ベンゾトリアゾイルテトラメチルブチルフェノールを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２５】
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシル安息香酸エステルを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２６】
二ナトリウムフェニルジベンジルイミダゾールスルホン酸を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２７】
２−（メチルベンジリデン）−カンファーをさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２８】
前記光活性化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体、オクトクリレン、ナフタレンジカルボン酸エステル、ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸、２−（４−メチルベンジリデン）−カンファー、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２９】
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸またはその塩を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３０】
前記光活性化合物は、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチジベンゾイルメタン、２−５−ジメチジベンゾイルメタン、４、４８−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４８−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピ−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル−４８−メトキシジベンゾイメタン、２、６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されたジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項１０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３１】
オクトクリレン、メチルベンジリデンカンファー、ジエチルヘキシル２、６−ナフタレート、ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸、ならびにこれらの組み合わせからなる群から選択された三重項クエンチャをさらに０．１〜１０重量％含むことを特徴とする請求項３０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３２】
０．１〜１０重量％のベンゾフェノン−３をさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３３】
０．１〜１０重量％のオクチルサリシレートをさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３４】
前記光活性化合物は桂皮酸の誘導体を含むことを特徴とする請求項９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３５】
前記光活性化合物は２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項３４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３６】
前記光活性化合物はイソアミルメトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項３４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３７】
シアノジフェニルプロペン酸のエステルを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３８】
前記混合物はメチルベンジリデンカンファーを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３９】
前記組成は、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、および塩およびその誘導体からなる群から選択された化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４０】
前記組成は、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体またはメトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、またはその組み合わせを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４１】
化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物からなる群から選択されるナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステル、およびこれらの組み合わせをさらに含み、
Ｒ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ４−ＯＨを有するジオールおよび構造ＨＯ‐Ｒ３−（−Ｏ−Ｒ４−）ｎ−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ３およびＲ４は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ６直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ、１〜１００の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４２】
化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、前記化学式（ＩＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は２−エチルヘキシルであることを特徴とする請求項１４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４３】
前記混合物は、化粧品用途に受け入れ可能なキャリアを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４４】
前記混合物は、少なくとも約８の誘電率を有する油相を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４５】
光子励起光活性化合物からの電子一重項状態励起エネルギーを受け入れる方法であって、前記光子励起光活性化合物は、日焼け止め組成においてＵＶ照射に晒されると、前記組成中の前記光子励起光活性組成から前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチすることにより、一重項励起状態となり、かつ、前記光子励起光活性組成から前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることにより、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、これにより、前記光活性化合物を光安定化させ、
前記光活性化合物を化学式（Ｉ）の化合物と混合する工程であって、
Ｒ１およびＲ２のうち１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２アルコキシラジカルであり、前記アルコキシでないＲ１およびＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ２４アルキル基である、工程と、
前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分な量だけ前記混合物をＵＶ照射に晒すことで、前記化学式（Ｉ）の化合物が前記励起光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、前記光活性化合物がさらなるＵＶ照射を吸収できるようにする工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項４６】
Ｒ１はメトキシであり、Ｒ２は水素であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
Ｒ２はメトキシであり、Ｒ１は水素であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項４８】
Ｒ３はＣ１２−Ｃ２４直鎖または分岐アルキルであることを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜２０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５０】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５１】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜５％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５２】
前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対するモル比は０．８未満であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５３】
前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対するモル比は約０．１〜約０．６であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５４】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、３％〜８％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５５】
前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフチルスルホネートおよび塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体、メトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ベンゾフェノン誘導体、１、３、５−トリアジン誘導体、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネートおよび塩およびその誘導体、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩およびその誘導体、ならびに前記の組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５６】
前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記光活性化合物は、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチジベンゾイルメタン、２−５−ジメチジベンゾイルメタン、４、４８−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４８−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピ−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル−４８−メトキシジベンゾイメタン、２、６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されたジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記光活性化合物は桂皮酸の誘導体を含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５９】
前記光活性化合物は２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記日焼け止め組成は、化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物からなる群から選択されたナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステル、およびこれらの組み合わせをさらに含み、
Ｒ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ４−ＯＨを有するジオールおよび構造ＨＯ‐Ｒ３−（−Ｏ−Ｒ４−）ｎ−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ３およびＲ４は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ６直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ、１〜１００の範囲にあることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６１】
化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、前記化学式（ＩＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は２−エチルヘキサンであることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記混合物は、化粧品用途に受け入れ可能なキャリアを含むことを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６３】
前記混合物は、少なくとも約８の誘電率を有する油相を含むことを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６４】
光活性化合物および化学式（Ｖ）の化合物の混合物を含む光安定化された光活性組成であって、
ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となることを特徴とする光活性組成。
【請求項６５】
前記光活性化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体、シンナメートエステル、およびその組み合わせから選択されることを特徴とする請求項６４に記載の組成。
【請求項６６】
前記光活性化合物はオクチルサリシレートを含むことを特徴とする請求項６４に記載の組成。
【請求項６７】
光子励起光活性化合物からの電子一重項状態励起エネルギーを受け入れる方法であって、前記光子励起光活性化合物は、日焼け止め組成においてＵＶ照射に晒されると、前記組成中の前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチすることにより、一重項励起状態となり、かつ、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることにより、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、これにより、前記光活性化合物を光安定化させ、
前記光活性化合物を化学式（ＶＩ）の化合物と混合する工程であって、
ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖または分岐からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となる、工程と、
前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分な量だけ前記混合物をＵＶ照射に晒すことで、前記化学式（ＶＩ）の化合物が前記励起光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、前記光活性化合物がさらなるＵＶ照射を吸収できるようにする工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１】
光活性化合物および化学式（Ｉ）の化合物の混合物を含む光安定化された光活性組成であって、
前記光活性化合物は、ＵＶ照射に晒されると一重項励起状態となり、前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成中の前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチし、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることで、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、
Ｒ１およびＲ２のうち１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルコキシラジカルであり、前記アルコキシでないＲ１およびＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ３０アルキル基であることを特徴とする光安定化された光活性組成。
【請求項２】
Ｒ１はメトキシであり、Ｒ２は水素であることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３】
Ｒ２はメトキシであり、Ｒ１は水素であることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４】
Ｒ３はＣ１２〜Ｃ３０直鎖または分岐アルキルであることを特徴とする請求項２に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項５】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜２０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項６】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．５％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項７】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項８】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、３％〜８％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項７に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項９】
前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフチルスルホネートおよび塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体、ナフタレート誘導体、メトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ベンゾフェノン誘導体、１、３、５−トリアジン誘導体、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナートおよび塩およびその誘導体、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩、ジエチルアミノヒドロキシルベンゾイルおよびその誘導体、ならびに前記の組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１０】
前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１１】
シンナメートエステルをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１２】
前記シンナメートエステルは、２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメート、イソアミルｐ−メトキシシンナメート、およびその組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１３】
前記シンナメートエステルは２−エチルヘキシルｐ−メトキシシンナメートであることを特徴とする請求項１２に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１４】
前記ジベンゾイルメタン誘導体はブチルメトキシジベンゾイルメタンを含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１５】
１〜１０重量％のナフタレンジカルボン酸エステルをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１６】
前記ナフタレンジカルボン酸エステルは、ジエチルヘキシル２、６−ナフタレンジカルボン酸エステルを含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１７】
サリシレートまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１８】
サリシレートまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項１９】
ベンゾフェノンまたはその誘導体を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２０】
前記ベンゾフェノンは、０．１〜１０重量％のベンゾフェノン−３を含むことを特徴とする請求項１９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２１】
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２２】
ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２３】
前記光活性化合物は、１、３、５−トリアジン誘導体を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２４】
メチレンビス−ベンゾトリアゾイルテトラメチルブチルフェノールを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２５】
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシル安息香酸エステルを０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２６】
二ナトリウムフェニルジベンジルイミダゾールスルホン酸を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２７】
２−（メチルベンジリデン）−カンファーをさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２８】
前記光活性化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体、オクトクリレン、ナフタレンジカルボン酸エステル、ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸、２−（４−メチルベンジリデン）−カンファー、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項１９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項２９】
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸またはその塩を０．１〜１０重量％さらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３０】
前記光活性化合物は、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチジベンゾイルメタン、２−５−ジメチジベンゾイルメタン、４、４８−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４８−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピ−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル−４８−メトキシジベンゾイメタン、２、６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されたジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項１０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３１】
オクトクリレン、メチルベンジリデンカンファー、ジエチルヘキシル２、６−ナフタレート、ジエチルヘキシルシリンギリデンマロン酸、ならびにこれらの組み合わせからなる群から選択された三重項クエンチャをさらに０．１〜１０重量％含むことを特徴とする請求項３０に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３２】
０．１〜１０重量％のベンゾフェノン−３をさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３３】
０．１〜１０重量％のオクチルサリシレートをさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３４】
前記光活性化合物は桂皮酸の誘導体を含むことを特徴とする請求項９に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３５】
前記光活性化合物は２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項３４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３６】
前記光活性化合物はイソアミルメトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項３４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３７】
シアノジフェニルプロペン酸のエステルを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３８】
前記混合物はメチルベンジリデンカンファーを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項３９】
前記組成は、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、および塩およびその誘導体からなる群から選択された化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４０】
前記組成は、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体またはメトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、またはその組み合わせを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４１】
化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物からなる群から選択されるナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステル、およびこれらの組み合わせをさらに含み、
Ｒ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ４−ＯＨを有するジオールおよび構造ＨＯ‐Ｒ３−（−Ｏ−Ｒ４−）ｎ−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ３およびＲ４は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ６直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ、１〜１００の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４２】
化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、前記化学式（ＩＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は２−エチルヘキシルであることを特徴とする請求項１４に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４３】
前記混合物は、化粧品用途に受け入れ可能なキャリアを含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４４】
前記混合物は、少なくとも約８の誘電率を有する油相を含むことを特徴とする請求項１に記載の光安定化された光活性組成。
【請求項４５】
光子励起光活性化合物からの電子一重項状態励起エネルギーを受け入れる方法であって、前記光子励起光活性化合物は、日焼け止め組成においてＵＶ照射に晒されると、前記組成中の前記光子励起光活性組成から前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチすることにより、一重項励起状態となり、かつ、前記光子励起光活性組成から前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることにより、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、これにより、前記光活性化合物を光安定化させ、
前記光活性化合物を化学式（Ｉ）の化合物と混合する工程であって、
Ｒ１およびＲ２のうち１つは直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ１２アルコキシラジカルであり、前記アルコキシでないＲ１およびＲ２は水素であり、Ｒ３は直鎖または分枝鎖Ｃ１−Ｃ２４アルキル基である、工程と、
前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分な量だけ前記混合物をＵＶ照射に晒すことで、前記化学式（Ｉ）の化合物が前記励起光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、前記光活性化合物がさらなるＵＶ照射を吸収できるようにする工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項４６】
Ｒ１はメトキシであり、Ｒ２は水素であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
Ｒ２はメトキシであり、Ｒ１は水素であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項４８】
Ｒ３はＣ１２−Ｃ２４直鎖または分岐アルキルであることを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜２０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５０】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜１０％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５１】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、０．１％〜５％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５２】
前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対するモル比は０．８未満であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５３】
前記化学式（Ｉ）の化合物の前記光活性化合物に対するモル比は約０．１〜約０．６であることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５４】
前記化学式（Ｉ）の化合物は、前記組成の総重量に基づいて、３％〜８％の重量範囲の量で存在することを特徴とする請求項５０に記載の方法。
【請求項５５】
前記光活性化合物は、ｐ−アミノ安息香酸および塩およびその誘導体、アントラニル酸塩およびその誘導体、ジベンゾイルメタンおよびその誘導体、サリシレートおよびその誘導体、桂皮酸およびその誘導体、ジヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、カンファーおよび塩およびその誘導体、トリヒドロキシ桂皮酸およびその誘導体、ジベンザルアセトンナフチルスルホネートおよび塩およびその誘導体、ベンザルアセトフェノンナフトールスルホン酸塩および塩およびその誘導体、ジヒドロキシ−ナフトエ酸およびその塩、ｏ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、ｐ−ヒドロキシジフェニル二硫酸塩および塩およびその誘導体、クマリンおよびその誘導体、ジアゾール誘導体、キニーネ誘導体およびその塩、キノリン誘導体、ヒドロキシル置換ベンゾフェノン誘導体、メトキシ置換ベンゾフェノン誘導体、尿酸誘導体、ビロ尿酸誘導体、タンニン酸およびその誘導体、ハイドロキノン、ベンゾフェノン誘導体、１、３、５−トリアジン誘導体、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネートおよび塩およびその誘導体、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸および塩およびその誘導体、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノールおよび塩およびその誘導体、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンおよび塩およびその誘導体、ならびに前記の組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項５６】
前記光活性化合物はジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５７】
前記光活性化合物は、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２、４−ジメチジベンゾイルメタン、２−５−ジメチジベンゾイルメタン、４、４８−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４、４８−ジメトキシジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピ−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、２、４−ジメチル−４８−メトキシジベンゾイメタン、２、６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４８−メトキシジベンゾイルメタン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されたジベンゾイルメタン誘導体を含むことを特徴とする請求項５６に記載の方法。
【請求項５８】
前記光活性化合物は桂皮酸の誘導体を含むことを特徴とする請求項５５に記載の方法。
【請求項５９】
前記光活性化合物は２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメートを含むことを特徴とする請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記日焼け止め組成は、化学式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物からなる群から選択されたナフタレンジカルボン酸のジエステルまたはポリエステル、およびこれらの組み合わせをさらに含み、
Ｒ１およびＲ２は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル基、構造ＨＯ−Ｒ４−ＯＨを有するジオールおよび構造ＨＯ‐Ｒ３−（−Ｏ−Ｒ４−）ｎ−ＯＨを有するポリグリコールからなる群から選択され、Ｒ３およびＲ４は同一であるかまたは異なり、Ｃ１〜Ｃ６直鎖または分枝鎖アルキル基からなる群から選択され、ｍおよびｎはそれぞれ、１〜１００の範囲にあることを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６１】
化学式（ＩＩＩ）のジエステルを含み、前記化学式（ＩＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は２−エチルヘキサンであることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記混合物は、化粧品用途に受け入れ可能なキャリアを含むことを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６３】
前記混合物は、少なくとも約８の誘電率を有する油相を含むことを特徴とする請求項４５に記載の方法。
【請求項６４】
光活性化合物および化学式（Ｖ）の化合物の混合物を含む光安定化された光活性組成であって、
ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、分岐上のＣ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となることを特徴とする光活性組成。
【請求項６５】
前記光活性化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体、シンナメートエステル、およびその組み合わせから選択されることを特徴とする請求項６４に記載の組成。
【請求項６６】
前記光活性化合物はオクチルサリシレートを含むことを特徴とする請求項６４に記載の組成。
【請求項６７】
光子励起光活性化合物からの電子一重項状態励起エネルギーを受け入れる方法であって、前記光子励起光活性化合物は、日焼け止め組成においてＵＶ照射に晒されると、前記組成中の前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を受け入れて、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態をクエンチすることにより、一重項励起状態となり、かつ、前記光子励起光活性組成からの前記一重項励起状態を前記化学式（Ｉ）の化合物へと転移させることにより、前記光子励起光活性組成をその基底状態へと戻し、これにより、前記光子励起光活性組成がＵＶ照射からより多くの光子を吸収した後、そのＵＶ吸収能力に対して破壊的な光化学的反応を受けるようにし、これにより、前記光活性化合物を光安定化させ、
前記光活性化合物を化学式（ＶＩ）の化合物と混合する工程であって、
ＡおよびＢは同一であるかまたは異なり、酸素、アミノおよび硫黄からなる群から選択され、Ｒ１およびＲ３は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキン、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル、置換ヘテロアリールおよび置換ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ３０アルキル、Ｃ２−Ｃ３０アルキレン、Ｃ２〜Ｃ３０アルキン、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキル、Ｃ３−Ｃ８置換シクロアルキル、Ｃ１−Ｃ３０置換アルキレン、Ｃ２−Ｃ３０置換アルキンからなる群から選択され、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、同一であるかまたは異なり、Ｃ１−Ｃ３０アルコキシ直鎖または分岐からなる群から選択され、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ０または１であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは合計１、２、３、または４となる、工程と、
前記光活性化合物が電子一重項励起状態に達するのに十分な量だけ前記混合物をＵＶ照射に晒すことで、前記化学式（ＶＩ）の化合物が前記励起光活性化合物からの前記一重項励起状態エネルギーを受け入れ、これにより前記光活性化合物をその基底状態に戻して、前記光活性化合物がさらなるＵＶ照射を吸収できるようにする工程を含むことを特徴とする方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公表番号】特表２０１０−５３５７７８（Ｐ２０１０−５３５７７８Ａ）
【公表日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５２０００４（Ｐ２０１０−５２０００４）
【出願日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０５８４５７
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０２０６７５
【国際公開日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【出願人】（３０５０４８０８２）ホールスター イノベーションズ コーポレイション (9)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０５８４５７
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０２０６７５
【国際公開日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【出願人】（３０５０４８０８２）ホールスター イノベーションズ コーポレイション (9)
【Ｆターム（参考）】
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