説明

加熱調理器

【課題】高周波発生装置から高周波電波で蒸気を発生させる方式において、使い勝手がよく、蒸気の発生量を自由に調整できる加熱調理器を提供する。
【解決手段】加熱室6と、被加熱物を載置する載置台9と、載置台6を回転させる回転機構10と、高周波電波を発生する高周波発生装置11と、高周波電波を加熱室6に供給する給電口13と、被加熱物の温度を検出する温度検出手段14とからなり、調理開始操作に先立ち、被加熱物として被調理物7と水を蓄えた水容器8とを載置台6に載置し、制御部は、調理開始操作により水容器8の水を加熱して蒸気を発生させた後、回転機構10を駆動して被調理物7を加熱する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、食品などの被加熱物を加熱する加熱調理器に関し、特に蒸気を発生させて調理を行うものに関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、この種の加熱調理器としては、例えば、高周波発生装置の高周波電波を利用して蒸気を発生するものがあった(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
図4は、特許文献1に記載された従来の加熱調理器を示すものである。図4に示すように、加熱室101と、高周波発生装置102と、高周波発生装置102からの高周波電波を加熱室101に供給する給電口103と、高周波発生装置102で発生した高周波電波を給電口103に導く導波管104と、被加熱物107を載置する載置台105と、載置台105を回転させる回転機構106と、給電口103と被加熱物107との間に載置する低誘電率材料からなる蒸気容器108とから構成されている。
【0004】
この構成において、高周波発生装置102から給電口103を介して加熱室101に供給される高周波電波により、蒸気容器108に蓄えられた水が加熱され蒸気となって蒸気供給口109から加熱室101内に供給され、被加熱物107のスチーム調理を行うことができるものである。
【特許文献1】特開平8−135978号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、前記従来の構成では、給電口103の正面に蒸気容器108を載置する方法であるので、蒸気容器108に水が残っている間は高周波発生装置102から高周波電波は、この蒸気容器108内の水に吸収されてしまうので、その間、被調理物の加熱を行うことができない、或いは、加熱が不足するという課題を有していた。勿論、水の量を加減する等で加減はできるものの使い勝手が悪いものであった。
【0006】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、高周波発生装置からの高周波電波で蒸気を発生させる方式において、使い勝手がよく、蒸気の発生量を自由に調整できる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記従来の課題を解決するために、本発明の加熱調理器は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置台を回転させる回転機構と、高周波電波を発生する高周波発生装置と、前記高周波発生装置からの高周波電波を前記加熱室に供給する給電口と、前記被加熱物の温度を検出する温度検出手段と、前記回転機構を制御すると共に前記温度検出手段によって検出した温度に基づき前記高周波発生装置を制御して被加熱物を加熱する制御手段とを備え、調理開始操作に先立ち、前記被加熱物として被調理物と水を蓄えた水容器とを前記載置台に載置し、前記制御部は、調理開始操作により前記水容器の水を加熱して蒸気を発生させた後、前記回転機構を駆動して前記被調理物を加熱することを特徴としたものである。
【0008】
これによって、蒸気発生装置を別途設ける必要がなく、高周波発生装置からの高周波電波で蒸気を発生させることができ、しかも、必要に応じて被調理物の加熱と蒸気発生量の制御を行うことができる。
【発明の効果】
【0009】
本発明の加熱調理器は、加熱室内に水容器を載置し、高周波発生装置から高周波電波で蒸気を発生させる方式において、使い勝手がよく、蒸気の発生量を自由に調整することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
第1の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置台を回転させる回転機構と、高周波電波を発生する高周波発生装置と、前記高周波発生装置からの高周波電波を前記加熱室に供給する給電口と、前記被加熱物の温度を検出する温度検出手段と、前記回転機構を制御すると共に前記温度検出手段によって検出した温度に基づき前記高周波発生装置を制御して被加熱物を加熱する制御手段とを備え、調理開始操作に先立ち、前記被加熱物として被調理物と水を蓄えた水容器とを前記載置台に載置し、前記制御手段は、調理開始操作により前記水容器の水を加熱して蒸気を発生させた後、前記回転機構を駆動して前記被調理物を加熱することにより、高周波発生装置から高周波電波で蒸気を発生させることができ、しかも、載置台を回転させることにより、必要に応じて被調理物の加熱と蒸気発生量の制御を行うことができる。
【0011】
第2の発明は、特に、第1の発明の高周波発生装置の給電口を加熱室の側壁面に配置し、調理開始操作に先立ち、前記給電口の正面に水容器を載置することを特徴とすることにより、スチーム発生が必要な場合は載置台を回転する前に高周波電波を供給して蒸気を発生させ、しかる後に載置台を回転することにより、被調理物の過熱を行うことで、水容器の位置を検出するための特別の検出装置、方法が不要となり安価にスチーム機能を実現することができる。
【0012】
第3の発明は、特に、第1の発明の制御手段を、回転機構を駆動すると共に温度検出手段によって検出される温度により載置台上の水容器の位置を検出し、前記水容器の位置を制御することを特徴とすることにより、使用者は任意の位置に水容器を載置することができるので使い勝手が向上する。
【0013】
第4の発明は、特に、第1または2の発明において、載置台の位置を検出する位置検知手段と、載置台の一部に水容器の位置決めを有し、制御手段は、前記位置検出手段からの検知信号に基づいて回転機構を駆動して、前記保持手段の位置を制御することを特徴とするもので、調理開始に先立ち、水容器と給電口との位置を合わせる必要がないので使い勝手が向上する。
【0014】
第5の発明は、特に、第1〜4のいずれか1つの発明において、蒸気発生後、回転機構を間欠的に駆動することで蒸気を継続的に発生させることを特徴とするもので、被加熱物の加熱と蒸気の供給を平行して行うことが可能となるので、蒸気供給と加熱が長時間に渡る蒸し調理などに有効な蒸気供給を行うことができる。
【0015】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【0016】
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態の加熱装置の構成を示すブロック図、図2は温度検出手段の要部断面図である。
【0017】
図1において、加熱室6内に被加熱物である被調理物7および水容器8が載置台9上に載置されている。載置台9は回転機構10により加熱室6内で回転し、被調理物7および水容器8を回転させる構成である。高周波発生装置11は導波管12を介して加熱室6に結合し、給電口13から給電される構成となっている。導波管12の上部には温度検出手段14が設けられている。温度検出手段14は加熱室6の壁面に設けられた開口部15を通過する被加熱物1からの赤外線等を検知して被加熱物の温度を検出する。温度検出手段14は複数の素子を備え載置台9の半径上の4点からの赤外線等を検出するように設けられている。制御手段16は温度検知手段14からの信号をもとに高周波発生装置11及び、回転機構10を制御する。
【0018】
図2の温度検出手段14の要部断面図において、金属ケース17内に赤外線を検出する素子18が4個設けられており、シリコンなどで構成された窓19を通過する赤外線を検出する。窓19の外側には赤外線を透過するプラスチックなどで構成されたレンズ20が設けられており、このレンズ20により素子18のそれぞれが載置台9の半径上の4点の温度を検出するように構成されている。
【0019】
次に動作、作用について説明すると、まず、調理に先立ち、使用者は被調理物7を載置台9の中央寄りに置き、水を入れた水容器8を載置台の端に置いた後に、スチーム調理の開始操作を行う。この開始操作に伴い、制御手段16は、まず載置台9を回転させて、温度検出手段14で載置台9の半径上の4点からの赤外線等を検出を行う。そして、載置台9が1回転すれば載置台9のほぼ全面からの赤外線を検出することが可能となり、水容器8は載置台9の端に置いてあることを前提として、載置台9上に置かれた被調理物7および水容器8の位置を検出することができる。そして、蒸気を発生させる場合は、水容器8が給電口13の正面になる位置まで載置台を回転させた後に、高周波発生装置11を駆動して、高周波電波を加熱室6に供給する。
【0020】
ここで、加熱室6に供給された高周波電波は主に水容器8に蓄えられた水を加熱することになり、蒸気を発生させることができる。
【0021】
次に、スチーム調理に必要な蒸気が加熱室6内に供給されたら、載置台9を回転させて被調理物7の過熱を行うことで、蒸気と高周波加熱を利用した調理、すなわちスチーム調理が可能となるのである。
【0022】
なお、載置台9は被調理物7の集中的な加熱が必要な場合は、給電口13の正面で止めることもできるし、回転を継続してムラのない加熱を行うこともできるし、再度、蒸気が必要となった場合は、再び水容器8が給電口13の正面となるように載置台を回転すればよい。
【0023】
なお、本実施の形態では被加熱物の温度を検出する温度検出手段14としての赤外線を検出する複数の素子18は4個のものについて説明したが4個に限定するものでなく載置台の大きさ等から最適な個数の素子を選択すればよいことは言うまでもない。
【0024】
また、本実施例では複数の赤外線検知素子からなる温度検出手段14で水容器の位置を検出するように構成したが、調理の開始に先立って水容器8を置く位置を給電口13の正面を指定すれば、水容器の位置を検出する必要もなく、より安価な温度検出手段を用いることも可能となる。
【0025】
また、本実施の形態では、給電口を加熱室の右側面に設けたが、加熱室の奥の面でも良いし、左側面でも本実施の形態を逸脱するものではない。
【0026】
(実施の形態2)
図4は本発明の実施の形態2の加熱装置の構成を示すブロック図である。
【0027】
図4に示すように、載置台9の位置を検知するための位置検知手段21を設け、さらに、載置台9には水容器8を載置する位置を一定にするための位置決め手段である凹部22を設けている。使用者は使用に先立って水を入れた水容器8を凹部21に置いた後に調理を開始する。
【0028】
以上の構成において、制御部23は、位置検知手段21からの信号に基づいて、水容器8を保持している凹部22の位置を必要に応じて制御することにより、蒸気の発生量を制御することができる。
【0029】
なお、高周波発生装置を用いて水容器を加熱することにより蒸気を発生する方法であるので、被加熱物と蒸気の発生を同時に行うことはできないが、蒸気発生後、回転機構を間欠的に駆動することで蒸気を継続的に発生させることで、調理完了まで多少の時間を要するが、被加熱物の加熱と蒸気の供給を平行して行うことが可能となるので、蒸気供給と加熱が長時間に渡る蒸し調理などに有効な蒸気供給を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【0030】
以上のように、本発明にかかる加熱調理器は、高周波発生装置のみで蒸気の発生が可能となるので、高周波発生装置のみの単機能であってもスチーム機能を搭載した加熱調理器に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】本発明の実施の形態1における加熱調理器のブロック図
【図2】本発明の実施の形態1における加熱調理器の温度検出手段の要部拡大断面図
【図3】本発明の実施の形態1における加熱調理器の温度検出手段の要部拡大断面図
【図4】従来の加熱調理器の断面図
【符号の説明】
【0032】
6 加熱室
7 被調理物
8 水容器
9 載置台
10 回転機構
11 高周波発生装置
13 給電口
14 温度検出手段
16、23 制御手段
21 位置検知手段
22 凹部(位置決め手段)

【特許請求の範囲】
【請求項1】
被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置台を回転させる回転機構と、高周波電波を発生する高周波発生装置と、前記高周波発生装置からの高周波電波を前記加熱室に供給する給電口と、前記被加熱物の温度を検出する温度検出手段と、前記回転機構を制御すると共に前記温度検出手段によって検出した温度に基づき前記高周波発生装置を制御して被加熱物を加熱する制御手段とを備え、調理開始操作に先立ち、前記被加熱物として被調理物と水を蓄えた水容器とを前記載置台に載置し、前記制御手段は、調理開始操作により前記水容器の水を加熱して蒸気を発生させた後、前記回転機構を駆動して前記被調理物を加熱することを特徴とする加熱調理器。
【請求項2】
高周波発生装置の給電口を加熱室の側壁面に配置し、調理開始操作に先立ち、前記給電口の正面に水容器を載置することを特徴とする請求項1に記載の加熱調理器。
【請求項3】
制御手段は、回転機構を駆動すると共に温度検出手段によって検出される温度により載置台上の水容器の位置を検出し、前記水容器の位置を制御することを特徴とする請求項1に記載の加熱調理器。
【請求項4】
載置台の位置を検出する位置検知手段と、載置台の一部に設けた水容器の位置決め手段を有し、制御手段は、前記位置検出手段からの検知信号に基づいて回転機構を駆動して、前記保持手段の位置を制御することを特徴とする請求項1または2に記載の加熱調理器。
【請求項5】
蒸気発生後、回転機構を間欠的に駆動することで蒸気を継続的に発生させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の加熱調理器。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2006−145191(P2006−145191A)
【公開日】平成18年6月8日(2006.6.8)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−48363(P2005−48363)
【出願日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【出願人】(000005821)松下電器産業株式会社 (73,050)
【Fターム(参考)】