意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体
【課題】媒体の領域毎に異なる色調を実現することができ、また、従来にない、新たな色調を実現できる意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、を行う。
【解決手段】意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔料を含む塗料を基材に塗布し、磁場において顔料を配向することによって、意匠性を有する意匠性媒体を形成する意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材に顔料を含む塗料を塗布して意匠性を有する意匠性媒体を形成する方法として、下塗り及び／又は中塗り塗膜を直接着磁して磁化させて磁石を形成することにより、被塗物の材料や形状等に左右されることなく、様々な模様を塗膜上に現出させることができる「模様塗膜形成方法」（例えば、特許文献１参照）、塗膜に分散している磁性粉末を磁力によって配向・移動させることにより、意匠性及び識別性に優れた模様を付けることができる「模様付き塗装金属板の製造方法」（例えば、特許文献２参照）、入射光を分散させて出射する光分散層の光出射側に、磁性を有する光輝性顔料を磁場印加により配向させて含有する樹脂層を設けることにより、観察方向によって異なる模様を表すことができる「意匠性フィルム」（例えば、特許文献３参照）、等が開示されている。
【特許文献１】特開平６−１１４３３２号公報
【特許文献２】特開平８−３８９９２号公報
【特許文献３】特開平９−９４５２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１〜３も含めた従来技術では、媒体に複数の領域を形成し、それら複数の領域において顔料の配向を変え、領域毎に異なる色調変化が起こる意匠性を実現した媒体はなかった。
【０００４】
また、上記従来技術例１〜３では、強磁性を持つ光輝性顔料を用いることにより顔料の配向を制御している。この強磁性を持つ光輝性顔料は、鱗片状、針状の強磁性材料単独や、それらに二酸化チタンや酸化鉄を被覆したもの、マイカ・シリカ・アルミナなどに酸化鉄やニッケル（Ｎｉ）等の強磁性体を被覆したものが挙げられる。しかしながら、上記従来技術のいずれも、上記で列挙した強磁性体全般に適用できるものではない。よって、上記各従来技術の方法は、配向対象となる強磁性体が限定されているので、輝度の変化のみしか実現されず、バリエーションに富んだ意匠性の実現は困難であった。
【０００５】
一方、従来の顔料配向方法では、マイカ・シリカ・アルミナなどの非強磁性体材料を主成分とし、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ（SI unit）以下となる光輝性顔料を使用した場合、顔料を動かすことができなかったため、非強磁性光輝性顔料（非強磁性パール顔料）を配向させた媒体はなかった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、非強磁性光輝性顔料の配向制御を行うことにより、従来にない、新しい色調を実現することができる意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、を行うことを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させることを特徴とする。
【００１０】
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させることを特徴とする。
【００１１】
請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の発明において、塗料として、無溶媒系の樹脂を用いることを特徴とする。
【００１２】
請求項６記載の発明は、請求項１から５のいずれか１項に記載の発明において、基材として、光を透過する透明基材を用いることを特徴とする。
【００１３】
請求項７記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の発明において、顔料配向ステップは、塗工層形成ステップで形成された塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させることを特徴とする。
【００１４】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の発明において、顔料配向ステップは、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された磁性部材を塗工層の所定部分に隣接させて磁場をかけることを特徴とする。
【００１５】
請求項９記載の発明は、請求項８記載の発明において、磁性部材は、強磁性体で形成された強磁性体領域と、非強磁性体で形成された非強磁性体領域と、を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項１０記載の発明は、請求項８又は９記載の発明において、顔料配向ステップで塗工層に磁場をかける際、磁場を形成する磁力線と、磁性部材によって塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにすることを特徴とする。
【００１７】
請求項１１記載の発明は、請求項７記載の発明において、顔料配向ステップは、塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする。
【００１８】
請求項１２記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の発明において、単一基材上に、塗工層形成ステップと、顔料配向ステップと、塗工層硬化ステップと、を所定回数繰り返して行うことを特徴とする。
【００１９】
請求項１３記載の発明は、請求項１２記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されることを特徴とする。
【００２０】
請求項１４記載の発明は、請求項１２又は１３記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されることを特徴とする。
【００２１】
請求項１５記載の発明は、請求項１２又は１３記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料で形成されることを特徴とする。
【００２２】
請求項１６記載の発明は、請求項１から１５のいずれか１項に記載の発明において、塗料は、顔料が直立した状態を所定時間維持するための微粒子を含有した塗料であることを特徴とする。
【００２３】
請求項１７記載の発明は、請求項１から１６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、非強磁性光輝性顔料の配向制御を行うことにより、従来にない、新しい色調の意匠性媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
〔第１の実施形態〕
本発明の第１の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
【００２６】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。
【００２７】
図１（ａ）は、本実施形態の意匠性媒体形成方法における塗工層形成ステップ（図６・ステップＳ１）で形成された媒体の側面を模式的に示す図である。図１（ａ）に示すように、媒体５は、基材（例えば、樹脂、紙、セラミック等の非磁性体）５ｂの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜（＝塗工層）５ａが形成されている。塗膜５ａを構成する塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下のものとしては、常磁性体や反磁性体がある。また、光輝性顔料であることによって、高い意匠性を得ることができる。
【００２８】
図１（ａ）に示す媒体５において、磁場印加前（塗工層形成ステップＳ１の後、顔料配向ステップＳ２の前）の顔料の配向状態は、図２（ａ）に示すように、ほぼ水平（略水平状態）となっている。この略水平状態においては、図２（ａ）に示すように媒体表面から入射光Ｌを当てると、０°〜１５０°の範囲で媒体表面に、干渉色、光沢が発現する。なお、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であるか負（−）の値であるかにかかわらず、顔料の形状が図２に示すように楕円形、鱗片状であれば、エネルギー的に安定なため、図２（ａ）に示すように、顔料の長軸は、基材５ｂに対してほぼ水平に並んだ状態である。
【００２９】
上記光輝性顔料に含まれる反磁性体材料は、鉄やニッケルなどの強磁性体材料に比べ磁化率が非常に小さいものではあるが、その物質の結晶構造が非対称である場合、結晶軸の方位により磁化率に僅かな差が生じる。これを結晶磁気異方性と呼び、強磁場に置くと磁化率の大きな結晶軸方位が磁場方向と平行になるように結晶が回転・配向する。
【００３０】
また、溶媒を用いると、溶媒が蒸発する時に塗料の体積が減るため、直立した顔料が倒れてしまう場合がある。これを防止するために無溶媒系の樹脂を用いることが好ましい。さらには、無溶媒低粘度硬化型樹脂を使用するのが望ましく、例えば、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いものが、鱗片状光輝性顔料を配向させやすいため、好ましい。
【００３１】
本実施形態の意匠性媒体形成方法の一工程に係る顔料配向方法（図６の顔料配向ステップＳ２）について以下に詳細を説明する。
図１（ｂ）及び（ｃ）は、図６のステップＳ２に示す顔料配向ステップを実行するための装置を模式的に示す図である。この装置は、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、電磁石の着磁ヨーク１，２を有する。これらの着磁ヨーク１（Ｓ極），２（Ｎ極）は、図示しない部分にコイルが巻き付けられており、着磁ヨーク１、２は、複数の磁力線３ａ、３ｂ、３ｃ、…、３ｍを発生させることによって、着磁ヨーク１、２間に磁場を形成する。これらの磁力線３ａ〜３ｍは、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）や曲線状の部分がある。また、形成される磁場の強さは、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上である。そして、図６のステップＳ２に示す顔料配向ステップでは、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、着磁ヨーク１、２間に形成された磁場（複数の磁力線３ａ〜３ｍ）の中に、塗工層形成ステップにおいて基材５ｂに塗膜５ａが形成された媒体５を配置し、磁場印加を行い、塗膜５ａ中の顔料を配向する。
【００３２】
ここで、顔料配向ステップＳ２において、図１（ｂ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｇの直線状の部分に対して水平に配置した場合（横磁場、水平磁場）と、図１（ｃ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｅ〜３ｉの直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に対して垂直に配置した場合（縦磁場、垂直磁場）とを例として、以下に説明する。
【００３３】
顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で磁場印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に直交した磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００３４】
顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に沿った磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００３５】
そして、顔料配向ステップＳ２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ３を行う。以上のステップＳ１〜Ｓ３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態の意匠性媒体形成方法によれば、磁力線の直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に媒体を配置して磁場をかける顔料配向ステップを行うことによって、磁気異方性を有する顔料が均一に配向するため、鱗片状光輝性顔料を基材に対して垂直に配向させた場合は、通常得られる色調とは大きく異なる色調の意匠性を実現できる。また、鱗片状光輝性顔料を基材に対して水平に配向させた場合は、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より均一に顔料が並ぶため、より鮮やかな色調の意匠性を実現できる。
【００３７】
なお、上述した顔料配向ステップの説明では、磁力線の直線部分の中に媒体５を配置したが、図１（ｂ）及び（ｃ）において、磁力線の曲線状の部分の中に媒体５を配置してもよい。この場合について以下に説明する。
【００３８】
例えば、図３（ａ）に示すように、垂直磁場における磁力線３ａ〜３ｅの曲線部分に、異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料の塗膜が形成された媒体５を配置し磁場印加すると、図３（ｂ）に示すように、塗膜５ａ中の顔料成分１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄは、磁力線３ａ〜３ｅの曲線状の部分に沿ってそれぞれ配向される。
【００３９】
よって、図３（ｂ）に示すように、鱗片状光輝性顔料１４ａ〜１４ｄの配向角度（傾き）がそれぞれ異なるため、媒体を傾けた際の光の反射の仕方が媒体表面の部分毎に異なるようになり、従来にない色調変化を得ることできる。また、図３（ｂ）に示すように、媒体の表面からの光だけでなく媒体の側面からの光（入射光Ｌ）も反射することができるので、媒体の表面において、媒体の側面からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【００４０】
次に、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体の色調変化について説明する。なお、以下の説明では、一例として、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料の塗膜５ａが基材５ｂに形成された媒体５（図１（ａ）参照）を水平磁場で磁場印加して形成した場合について説明する。
【００４１】
まず、図４（ａ）において、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが示す位置）に媒体５を配置して磁場印加して顔料を配向させ、塗膜５ａを硬化させて、図４（ｂ）に示す意匠性媒体３０を形成した場合、この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、顔料塗布面（塗膜５ａ）において色調変化が全面同時に起こる。また、この意匠性媒体３０を図４（ｂ）に示すｂ−ｂ’の位置で裁断し、その断面を観察すると、図９（ｃ）に示すように、顔料のそれぞれの列が水平に均一に並んだ配向状態となっている（図２（ｃ）と同じ）。
【００４２】
一方、図４（ａ）において、磁力線３ａ〜３ｍのうち曲線状の磁力線３ａの位置（図中の矢印Ｂが示す位置）に媒体５を配置して磁場印加して顔料を配向させ、塗膜５ａを硬化させて、図４（ｂ）に示す意匠性媒体３０を形成した場合、この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、顔料塗布面（塗膜５ａ）において色調変化が連続的に起こる。すなわち、図５（ａ）に示すように、水平状態である意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、その傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が手前側から奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動する。また、図５（ｂ）に示すように、水平状態である意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、その傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が奥側から手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動する。また、この意匠性媒体３０を図４（ｂ）に示すｂ−ｂ’の位置で裁断し、その断面を観察すると、図９（ｅ）に示すように、曲線状の磁力線に沿うように顔料が傾いた配向状態となっている。
【００４３】
ここで、上述した本実施形態に係る顔料配向方法と上記特許文献１〜３との違いについて以下に述べる。
特許文献１では、使用する粒子として５〜１００ｅｍｕ／ｇと明示しており、明らかに強磁性体であるといえる。
特許文献２では、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅを含む金属又は合金でコーティングされた磁性粉末とあり、磁場としては１００〜３０００ガウス（０．０１Ｔ〜０．３Ｔ）を使用するが、本実施形態で使用する質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の鱗片状光輝性顔料は、０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上の強磁場を使用することで配向する。
特許文献３では、使用する光輝性顔料は、単体の材料としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｎｉ箔など、非磁性体にコーティングする材料としてＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ３Ｏ４など、いずれも強磁性体であり、顔料の質量磁化率として１０-6ｍ3／ｋｇを大きく超える。
また、本実施形態の磁場の強度は０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上であるが、特許文献１〜３に記載されている強磁性体の顔料を含む塗液を、本実施形態で使用している０．３Ｔ以上の強磁場に近づけると、顔料が磁場に吸い寄せられ、均一な塗膜が得られない。
【００４４】
以下、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例１〜４及び比較例について説明する。なお、以下の実施例１〜４及び比較例１〜４で使用したパール顔料（Merck製）は、いずれも−の異方性磁化率を有するものである（後述の表２参照）。
【実施例１】
【００４５】
実施例１では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例２】
【００４６】
実施例２では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例３】
【００４７】
実施例３では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例４】
【００４８】
実施例４では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００４９】
〈比較例１〉
比較例１は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５０】
〈比較例２〉
比較例２は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５１】
〈比較例３〉
比較例３は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５２】
〈比較例４〉
比較例４は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５３】
上記実施例１〜４及び比較例１〜４で形成した媒体の評価結果を表１に示す。
【表１】
【００５４】
実施例１の媒体は、比較例１の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い水色〜淡い赤色となった。実施例２の媒体は、比較例１と比べ、変化はなかった。
実施例３の媒体は、比較例２の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い赤色となった。実施例４の媒体は、比較例２と比べ、変化はなかった。
【００５５】
また、比較例３の媒体は、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は水色〜赤色のままであった。
比較例４の媒体も、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は赤色のままであった。
【００５６】
よって、上記実施例１〜４及び比較例１〜４によれば、異方性磁化率が−の値の顔料（Color Code及びXillaric T60-21）は元々水平に配向されているので、実施例１及び３のように水平磁場に配置し、磁場印加することによって、顔料の配向状態を垂直に制御することができる。また、形成された媒体は元々の色調とは違った色調になる。また、０．０５Ｔの弱い磁場では顔料の配向に変化は起きない。
【００５７】
本発明に適用できる顔料として、上記実施例１〜４においてColor Code及びXillaric T60-21を用いたが、その他の顔料の例を表２に示す。
【表２】
【００５８】
上記Color Code及びXillaric T60-21と同様に、異方性磁化率が−の顔料としてIridodin302やIridodin524（Merck製）が挙げられる。Iridodin302を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金色の色調であったが、水平磁場での形成では黄土色の色調となった。また、Iridodin524を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金属光沢赤色の色調であったが、水平磁場での形成では褐色の色調となった。
【００５９】
また、異方性磁化率が＋の顔料として、Xillaric T60-23（Merck製）、SECURE SHIFT（Flex Product製）やInfinite R-08（資生堂製）が挙げられる。これらの顔料を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体をそれぞれ形成したところ、磁場無しの形成と水平磁場での形成とでは同じ色調であったが、垂直磁場での形成では違った色調となった。すなわち、Xillaric T60-23では、元々の青色の色調から淡い青色の色調に変化し、SECURE SHIFTでは、元々のローズ〜緑の色調から黒のみの色調に変化し、Infinite R-08では、元々の小豆色〜青紫色の色調から小豆色のみの色調に変化した。
【００６０】
なお、表２において、マイカ（Mica）に強磁性体（Ｆｅ２Ｏ３）を被覆した顔料（Iriodin302、Iriodin524、Infinite R-08）は、赤銅色を得ることを目的としてごく弱い強磁性を持つα−Ｆｅ２Ｏ３を被覆したものであり、顔料としての質量磁化率は１０-6ｍ3／ｋｇ以下である（従来の磁場配向技術では強磁性体としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４を使用していたが、これは磁化率を高めるためであり、磁化率の低いα−Ｆｅ２Ｏ３は従来使用されていなかった）。一方、表２において、反磁性体だけで組成された顔料（SECURE SHIFT、Color Code）は、１Ｔ以上の磁場が必要である。
【００６１】
〔第２の実施形態〕
本発明の第２の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１の実施形態では、光を透過しない基材を用いて意匠性媒体を形成した。よって、第１の実施形態の意匠性媒体では、媒体の表面及び横から入射する光を反射して色調が変化するが、媒体の裏面から入射する光は基材で遮断されてしまう。本実施形態では、媒体の裏面からの入射光を反射することが可能な意匠性媒体及びその形成方法を実現する。
【００６２】
第２の実施形態の意匠性媒体の形成方法は上記第１の実施形態と同様である。すなわち、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、塗工層形成ステップＳ１で塗工層を形成する基材として、透明基材を用いる点が第１の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【００６３】
本実施形態の意匠性媒体形成方法では、まず塗工層形成ステップＳ１において、図７に示すように、光を透過する透明基材（例えば、プラスチック、フィルム、ガラス等）５ｃを用いて、この透明基材５ｃの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜５ａを形成する。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂（紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いもの）に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有するものである。このように、塗料の構成については第１の実施形態と同様である。
【００６４】
塗工層形成ステップＳ１以降の顔料配向ステップＳ２及び塗工層硬化ステップＳ３については、第１の実施形態と同様である。すなわち、顔料配向ステップＳ２では、図１（ｂ）又は図１（ｃ）の磁場において、透明基材５ｃ上に塗膜５ａを形成した媒体５を所定の位置に配置し、０．３Ｔ以上の磁場を印加する。これにより、鱗片状光輝性顔料１４は、例えば図２（ｂ）及び（ｃ）や図１７（ａ）及び（ｂ）のように配向される。その後、塗工層硬化ステップＳ３として、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる。以上のステップＳ１〜Ｓ３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。
【００６５】
例えば、本実施形態の意匠性媒体において、顔料１４が図２（ｂ）に示す垂直配向となった場合、図７に示すように、媒体の裏面から入射する入射光Ｌは、透明基材５ｃを透過し、鱗片状光輝性顔料１４に当たって反射する（なお、媒体の表面からの入射光は媒体を透過する）。よって、本実施形態の意匠性媒体は、透明基材を用いて形成することにより、媒体の裏面からの入射光を反射することができ、従来にはない色調変化を得ることができる。
【００６６】
以下、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例５及び比較例５で使用したパール顔料（Merck製、Iriodin302）は、−の異方性磁化率を有するものであり、表３に示すように、元々は金色であり、光を当てると黄土色の光輝性を示す顔料である。
【実施例５】
【００６７】
実施例５では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００６８】
〈比較例５〉
比較例５は、実施例５の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００６９】
そして、実施例５の媒体及び比較例５の媒体において、表面及び裏面に対して光を当て、媒体を４５°傾け、各媒体の表面の塗膜の様子を目視で観察した。観察結果を表３に示す。
【表３】
【００７０】
表３に示すように、比較例５の媒体は、顔料がほぼ水平に配向された状態（図２（ａ）参照）であるので、表面から光を当てた場合には黄土色の光輝性が認められたが、裏面から光を当てた場合には元の金色のままであり、光輝性は認められなかった。一方、実施例５の媒体は、顔料が垂直に配向された状態（図２（ｂ）及び図７参照）であるので、表面から光を当てた場合は元の金色のままであり、光輝性は認められなかったが、裏面から光を当てた場合は黄土色の光輝性が認められた。
【００７１】
よって、上記実施例５によれば、透明基材を用いて媒体を形成することにより媒体の裏面からの光を入射することができ、その入射光を垂直に配向された顔料が反射するので（図７参照）、媒体の表面にて干渉色、光沢を得ることができる。
【００７２】
〔第３の実施形態〕
本発明の第３の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、塗工層（塗膜５ａ）を設けた後、その塗工層全体に磁場印加を行い、顔料を配向させるものとしたが、本実施形態では、上記第１の実施形態と同様に基材上に塗工層を形成した後、この塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させる。すなわち、本実施形態では、塗工層を設けて媒体を形成した後、この媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で磁場をかけ、顔料の配向を行うことを特徴とする。よって、本実施形態によれば、パターン部材が隣接したパターン部分と、そのパターン部分以外の部分（パターン部材が隣接していない部分）とでそれぞれ異なる顔料配向を実現することができるので、塗工層（同一塗膜上）の部分毎に、コントラストの差や色調の差を表現することができる。
【００７３】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、図１１に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１１）、基材に塗工層を形成した媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ１２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ１３）、を行うことを特徴とする。
【００７４】
まず、本実施形態の意匠性媒体形成方法においても、基材に塗料を塗工して塗工層を形成した媒体を形成するが、図１１に示す塗工層形成ステップＳ１１は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態の塗工層形成ステップＳ１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７５】
次に、図１１の顔料配向ステップＳ１２について以下に詳細を説明する。なお、図８において、上記第１の実施形態の図１や図４（ａ）と同じ部分には同一符号を付すものとし、それらの説明は省略する。また、以下の説明は、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料を基材５ｂに塗工して塗膜５ａを設け、媒体５（図１（ａ）参照）を形成した後（図１１の塗工層形成ステップＳ１１の後）、この媒体５を水平磁場で磁場印加した場合を例とする。
【００７６】
顔料配向ステップＳ１２では、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが指す位置）に磁性部材４を配し、この磁性部材４の上に媒体５を配置して磁場印加する。あるいは、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち曲線状の磁力線３ａ〜３ｄの位置（図中の矢印Ｂ指す位置）や曲線状の磁力線３ｌの位置（図中の矢印Ｃが指す位置）に磁性部材４を配置し、この磁性部材４の上に媒体５を配置して磁場印加する。なお、図８（ａ）において、磁性部材４は、図示しない非磁性体、例えばセラミックからなる支持部材で支持されているものとする。また、図８（ａ）において形成される磁場の強さは、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上である。
【００７７】
図８（ａ）に示す磁性部材４は、図８（ｂ）に示すように、少なくとも一方の面（図の上面）に強磁性体領域４ａが所望のパターン形状（本実施形態では、１１本の平行直線）に形成され、この強磁性体領域４ａに隣接するように非強磁性体領域（強磁性体以外の磁性体、例えば、反磁性体、常磁性体、もしくは弱磁性体）４ｂが形成されたものである。この磁性部材４としては、例えば、強磁性体からなる帯状部材と、非強磁性体からなる帯状部材とを交互に積層した積層体が挙げられる。強磁性体と非強磁性体とを交互に積層することにより、磁性部材の製造が容易であるとともに、帯状部材の厚さを薄くすることにより、微細なパターンを得ることができる。なお、強磁性体としては、鉄、ニッケル、コバルト等が挙げられ、反磁性体としてはアルミニウム、銅等が挙げられる。本実施形態の磁性部材４は、図８（ｂ）に示すように、厚さ０．３ｍｍの強磁性体（１１枚）と、厚さ０．３ｍｍの非強磁性体（１０枚）とを交互に積層したものである。また、磁性部材４としては、酸素は常磁性体であるので、例えば、強磁性体からなる部材に凹凸を設けたものでもよい。
【００７８】
なお、上記磁性部材４の変形例である磁性部材４０の構成を図８（ｃ）に示す。磁性部材４０は、強磁性体からなる板状部材４０ａにフォトリソグラフィ技術を用いてパターンが残るようにエッチングを施し、得られた溝部に非強磁性体４０ｂを埋め込んだものである。
【００７９】
そして、顔料配向ステップＳ１２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ１３を行う。以上のステップＳ１１〜Ｓ１３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。このようにして形成された意匠性媒体は、媒体表面に磁性部材４の平行線状のパターン（模様）が反映され、そのパターンと同様な形状のパターンが形成される。
【００８０】
ここで、図８（ａ）において、矢印Ａ、矢印Ｂ、及び矢印Ｃが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０についてそれぞれ説明する。図９（ａ）は、上記意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体３０の表面を示す平面図であり、図９（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）は、図９（ａ）のａ−ａ’側断面図であり、図９（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）は、図９（ａ）のｂ−ｂ’側断面図である。なお、これら図９（ｂ）〜（ｇ）において、５ａ中に示す直線又は曲線は、塗膜５ａ中の顔料の配向状態を模式的に示すものとする。
【００８１】
図９（ａ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０は、媒体表面の中央部分において、上記磁性部材４の使用により、１１本の平行直線であるパターン３２が形成されている（パターン３２部分以外の周辺部分を５ａｃとする）。このパターン３２は、１１本の直線部分５ａｐと、各直線部分の間である５ａｂとからなる。
【００８２】
矢印Ａが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｂ）及び（ｃ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｂ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂや磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、水平な磁力線に沿うように顔料の配向が均一な水平状態になっている。一方、図９（ｂ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。また、図９（ｃ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は均一な水平状態になっている。
【００８３】
この意匠性媒体３０では、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ異なる色調が得られるが、この意匠性媒体３０を傾けても、色調変化は得られない。
【００８４】
矢印Ｂが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｄ）及び（ｅ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｅ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は、曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態（全体として「上に凸」の状態）になっている。また、図９（ｄ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、顔料の配向は、図９（ｅ）と同様に曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態になっているが、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂでは、顔料の配向は、図９（ｅ）の状態を逆さまにした状態（全体として「下に凸」の状態）になっている。なお、図９（ｄ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。
【００８５】
この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ連続的な色調変化が得られる。すなわち、図１０（ａ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、パターン３２以外周辺面では、傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（手前側）に向かってパターン３２の面上を移動する。また、図１０（ｂ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、パターン３２以外の周辺面では、傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（奥側）に向かってパターン３２の面上を移動する。
【００８６】
矢印Ｃが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｆ）及び（ｇ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｇ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は、曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態（全体として「下に凸」の状態）になっている。また、図９（ｆ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、顔料の配向は、図９（ｇ）と同様に曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態になっているが、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂでは、顔料の配向は、図９（ｇ）の状態を逆さまにした状態（全体として「上に凸」の状態）になっている。なお、図９（ｆ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。
【００８７】
この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ連続的な色調変化が得られる。すなわち、図１０（ｃ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、パターン３２以外周辺面では、傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（手前側）に向かってパターン３２の面上を移動する。また、図１０（ｄ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、パターン３２以外の周辺面では、傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（奥側）に向かってパターン３２の面上を移動する。
【００８８】
なお、上記本実施形態では、媒体に形成されるパターン（＝磁性部材４のパターン）として１１本の平行線（図８（ａ）及び（ｂ）に示す磁性部材４の強磁性領域４ａ）を用いた場合に生じる磁界の影響を受けて配向した意匠性媒体を説明したが、パターンはこれに限定されるものではなく、曲線、円形、楕円形、長円形、多角形、文字、符号、これらの組み合わせたもののいずれの形状であってもよい。これらのパターン毎に、磁場印加の際に発生する磁界は変化し、顔料の配向の仕方も変化する。よって、様々なパターンを使い分けることにより、所望の顔料配向を実現できる。また、顔料についても本実施形態に限定されるものではなく、配向の変化に応じて透過率が変化する顔料であれば他の種類の顔料を用いてもよい。
【００８９】
以下、上述した第３の実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例６、７について説明する。なお、以下の実施例６、７で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例６】
【００９０】
本実施例で用いる塗料の構成（配合）を以下に示す。この塗料を用いて媒体を形成し評価した。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
上記構成の塗料１をＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま塗工面と反対面とにＦｅとＡｌとで作製したパターンを密着させた状態で、強磁場（１Ｔ）環境下のうち磁力線が曲線となっている場所（例えば、図８（ａ）の矢印Ｂが指す位置）に５分間さらし、その後ＵＶ照射を行い、塗膜の固定化を行った。
【００９１】
そして、形成された意匠性媒体を傾けて観察を行ったところ、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示すように、パターン面とそれ以外の周辺面において、それぞれ帯状の光沢が移動するといった、連続的な色調変化が認められた。また、この意匠性媒体において、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の断面をそれぞれ観察したところ、ａ−ａ’の断面は、図９（ｄ）に示すように、顔料が傾いた配向となっており、ｂ−ｂ’の断面は、図９（ｅ）に示すように、顔料が傾いた配向となっていることが認められた。
【００９２】
このように、本実施例によれば、１種１層の塗膜中で２種類の色調変化を行うことが可能となった。また、１種類の顔料を分散した塗料を用いて、多層コーティングすることなく、従来にない、特異な色調変化を有する意匠性媒体を実現することが可能である。
【実施例７】
【００９３】
本実施例で用いる各塗料の構成（配合）を以下に示す。これらの塗料を用いて媒体を形成し評価した。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ａ SECURE SHIFT（Flex Products） １重量部
顔料Ｂ Iriodin １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ａ SECURE SHIFT（Flex Products） １重量部
〈塗料３〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ｂ 磁性パール顔料（Merck） １重量部
上記構成の塗料１〜３をそれぞれ、ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま塗工面と反対面とにＦｅとＡｌとで作製したパターンを密着させた状態で強磁場（１Ｔ）環境下に５分間さらし、その後ＵＶ照射を行い、塗膜を固定化しパターン形成を行った。その結果を表４に示す。
【表４】
【００９４】
このように、本実施例によれば、強磁場環境にて配向が変化する顔料と配向が変化しない顔料とを混合した塗料を用いて、磁場印加を行った結果、通常では配向が変化しない顔料も配向を変化させることができる。また、異方性磁化率の異なる２種類の顔料を分散した塗料を用いて、強磁場環境下で特異なパターンを形成することが可能である。
【００９５】
なお、本実施形態及び本実施例では光輝性顔料を用いた場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、配向の変化に応じて透過率が変化する顔料であれば他の種類の顔料を用いてもよい。
【００９６】
〔第４の実施形態〕
本発明の第４の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
本実施形態は、基材上に塗工層を形成した後、この塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させる点は上記第３の実施形態と同様であるが、本実施形態では、顔料配向を行う際に、塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする。
【００９７】
まず、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概要について図を参照して説明する。図１２〜図１５は、本実施形態の意匠性媒体方法を実行し、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概略を示す図である。図１６は、この装置に備えられる着磁ヨーク（図１に示すものと同じ）の動作を示す図である。図１７は、本実施形態の意匠性媒体の顔料の配向状態を模式的に示す側断面図である。なお、本実施形態では、基材５ｂとしてＰＥＴフィルムを用いるものとする（塗膜５ａを形成するための塗料は上記各実施形態と同じものを用いる）。
【００９８】
図１２〜図１５に示すように、本装置は、予め巻き付けられた基材を送り出すロール部６ａ、基材に塗料を塗工して塗膜５ａ（塗工層）を形成する塗工部７、塗膜５ａに磁場をかけ、塗膜５ａ中の顔料を配向させる着磁ヨーク１，２、塗膜に紫外線を照射し、硬化させるＵＶ照射部（紫外線照射部）８、塗膜硬化により形成された意匠性媒体を巻き取るロール部６ｂ、を備える。本装置において、ロール部６ａから送り出された基材５ｂは、塗工部７により塗膜５ａが塗工され、着磁ヨーク１，２により塗膜の顔料が配向され、ＵＶ照射部８により塗膜が硬化され、意匠性媒体となってロール部６ｂに収納される。なお、本装置では、着磁ヨーク１，２により磁場をかけて顔料を配向した後に、ＵＶ照射部８により紫外線照射を行うように構成しているが、着磁ヨーク１，２により磁場をかけたまま紫外線照射を行えるように、ＵＶ照射部８を配置するようにしてもよい。
【００９９】
ここで、本装置の着磁ヨーク１，２の動作について図１６を参照して説明する。本装置の着磁ヨーク１，２は、上述した第１の実施形態で説明した、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すものと同じである。
【０１００】
図１６に示すように、ＸＹ平面、ＹＺ平面、ＸＺ平面からなる３次元空間の所定の位置に仮想軸が存在するものとする。着磁ヨーク１と、着磁ヨーク２とは、例えば、ＸＹ平面に直交する軸Ａに線対称の位置に配置され、この軸Ａの周りを、時計回り又は反時計回りに３６０°回転可能である。同様に、その他の軸Ｂ、軸Ｃ、軸Ｄの場合も、着磁ヨーク１，２は、各軸に線対称の位置に移動し、その軸の周りを時計回り又は反時計回りに３６０°回転する。なお、仮想軸は、図１６に示すものに限定されない。
【０１０１】
上記装置を使用した本実施形態の意匠性媒体形成方法について、図１２〜図１５及び図１９を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、例として、塗膜５ａにおける４つの部分毎に、連続してそれぞれ異なる磁場を印加するものとする。
【０１０２】
図１２において、ロール部６ａには、基材（ＰＥＴフィルム）５ｂが予め巻き付けられており、本装置が作動し始めると、ロール部６ａは、図示しない駆動手段により駆動され、予め巻き付けられている基材５ｂを図中の矢印方向に送り出す。本装置において、基材５ｂは、所定の速度で図中の矢印方向に移動する。
【０１０３】
次に、図１２において、塗工部７は、ロール部６ａから送り出された基材５ｂの片面に対して、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する光輝性顔料を無溶媒系の樹脂に分散させた塗料を塗工する。これにより、塗膜５ａが形成され、媒体５となる（図１９のステップＳ２１）。この時の塗膜５ａ中の顔料は、図２（ａ）に示す略水平状態となっている。なお、ここでの説明では、顔料の異方性磁化率は、正（＋）の値とする。
【０１０４】
次に、図１２において、着磁ヨーク１，２は、磁力線３を発生させて磁場を形成する。この時、着磁ヨーク１，２は、図１（ｃ）に示す垂直磁場を形成するものとする。図１２（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｂ）に示すように、基材５ｂに対して垂直方向に配向される（図１９のステップＳ２２）。
【０１０５】
次に、着磁ヨーク１，２により顔料が配向された媒体５は、図１３に示すように、磁場を出て図中の矢印方向に移動する。図１３（ａ）は、媒体５において、顔料が垂直に配向された塗膜（以下、塗膜１０という）を示す。また、この時、媒体５において、塗膜１０に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１２に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図１３に示すように、図１（ｂ）に示す水平磁場を形成する配置となる。図１３（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｂ）に示す磁力線３ｇの直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｃ）に示すように、基材５ｂに対して均一な水平方向に配向される（図１９のステップＳ２３）。
【０１０６】
次に、媒体５において、図１４（ｂ）に示すように、顔料が水平に配向された塗膜（以下、塗膜１１という）が磁場を出て移動すると、塗膜１１に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１３に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図１４に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図１７（ａ）に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた斜め方向に配向される（図１９のステップＳ２４）。また、この時、先に顔料配向された塗膜１０は、図１４に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜１０に対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜１０が硬化する（図１９のステップＳ２４）。
【０１０７】
次に、媒体５において、図１５（ｃ）に示すように、顔料がロール部６ｂ方向に傾いて斜めに配向された塗膜（以下、塗膜１２という）が磁場を出て移動すると、塗膜１２に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１４に示す配置から回転し、図１５に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図１７（ｂ）に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた斜め方向に配向される（図１９のステップＳ２５）。また、この時、先に顔料配向された塗膜１１は、図１５に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜１１に対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜１１が硬化する（図１９のステップＳ２５）。
【０１０８】
以降、図示はしていないが、上記同様にして、図１５（ｃ）に示す塗膜１２、及び、顔料がロール部６ａ方向に傾いて斜めに配向された塗膜（以下、塗膜１３という）も、ＵＶ照射部８により紫外線照射され、硬化される（図１９のステップＳ２６，Ｓ２７）。
【０１０９】
紫外線照射の後、媒体５は、ロール部６ｂに巻き取られ、収納される。
以上が、本実施形態の意匠性媒体形成方法である。
【０１１０】
次に、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法によって形成された意匠性媒体について説明する。図１８は、本実施形態の意匠性媒体の一例を示す図であり、（ａ）は、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、（ａ）に示す意匠性媒体のデザインの一例を示す上面図である。
【０１１１】
図１８（ａ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０は、左から、顔料が垂直方向に配向された塗膜１０（図２（ｂ）参照），顔料が水平方向に配向された塗膜１１（図２（ｃ）参照），顔料が左上から右下への斜め方向に配向された塗膜１２（図１７（ａ）参照），顔料が右上から左下への斜め方向に配向された塗膜１３（図１７（ｂ）参照）の順に、隣り合うように形成されている。この意匠性媒体３０の表面に、図２（ａ）に示すように入射光Ｌを当てると、部分１０から１３のそれぞれの部分毎に異なる色調を得ることができる。すなわち、塗膜１０では、通常得られる色調とは大きく異なる色調となり、塗膜１１では、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より鮮やかな色調となる。また、塗膜１２及び塗膜１３では、意匠性媒体の表面からの入射光だけでなく媒体の横からの入射光も反射することができるので（図１７（ａ）及び（ｂ）参照）、意匠性媒体の表面において、媒体の側面からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【０１１２】
意匠性媒体の一例として、図１８（ｂ）に示すように、意匠性媒体の表面において、背景塗膜１５と、文字塗膜１６，１７，１８，１９とを形成する場合、例えば、所定の塗料を基材５ｂに塗工して背景塗膜１５を設けた後、顔料を配向せずに、紫外線照射で塗膜を硬化して下準備をした後、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、先に背景塗膜１５を形成した基材に対して、本実施形態で使用した塗料を、「Ａ」，「Ｂ」，「Ｃ」，「Ｄ」の文字パターンで塗工して文字塗膜１６〜１９を設け、これら文字塗膜１６〜１９毎に、図１８（ａ）の１０〜１３のようにそれぞれの塗膜において顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜１６〜１９を硬化する。これにより、背景塗膜１５と、文字塗膜１６〜１９とで異なる色調を得ることができ、さらに、文字塗膜１６〜１９においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１１３】
意匠性媒体の一例として、図１８（ｃ）に示すように、意匠性媒体の表面において、黒色の正方形塗膜２０，２１，２２，２３と、白色の正方形塗膜２４，２５，２６，２７とで格子模様を形成する場合、例えば、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、本実施形態で使用した塗料を、格子柄パターンで基材に塗工して黒の正方形塗膜２０〜２３を設けた後、黒の正方形塗膜２０〜２３毎に、図１８（ａ）の１０〜１３のようにそれぞれの塗膜において顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。その後、再び本実施形態の意匠性媒体形成方法により、先に黒の正方形塗膜２０〜２３を設けた基材に対して、本実施形態で使用した塗料を、格子柄パターンで塗工して白の正方形塗膜２４〜２７を設け、白の正方形塗膜２４〜２７毎に、図１８（ａ）の１３〜１０のようにそれぞれの塗膜において（黒の正方形部分の配向とは逆の順で）顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。これにより、黒の正方形塗膜２０，２１，２２，２３は、図１８（ａ）の１０，１１，１２，１３にそれぞれ対応した顔料配向となり、また、白の正方形塗膜２４，２５，２６，２７は、図１８（ａ）の１３，１２，１１，１０にそれぞれ対応した顔料配向となる。よって、格子模様の部分毎に異なる色調を得ることができ、さらに、同じ色の塗膜（黒の正方形塗膜２０〜２３や白の正方形塗膜２４〜２７）においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１１４】
なお、上記説明では、媒体５における顔料の配向順や配向方向を、塗膜１０，１１，１２，１３としたが、これに限定されるものではない。
【０１１５】
また、上記説明では、顔料配向の際に、磁力線の直線状（又はほぼ直線状）の部分で磁場印加を行うようにしたが、上記で図３（ａ）や図４（ａ）を用いて説明したように、磁力線の曲線状の部分で磁場印加を行ってもよい。これにより、着磁ヨークを所定の角度に傾けて、さらに、磁力線の曲線状部分にて磁場印加することができるので、より細かく、より自在に顔料の配向を行うことができる。
【０１１６】
また、上記説明では、顔料配向の際に、着磁ヨークを回転させるようにしたが、着磁ヨークを固定して、塗膜を設けた媒体自体を回転・移動するようにしてもよい。
【０１１７】
〔第５の実施形態〕
本発明の第５の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１〜第４の実施形態では、基材に塗料を塗工して単一の塗工層を設けるものとしたが、本実施形態では、単一の基材上に、複数の塗工層を所定のパターン形状に形成することを特徴とする。すなわち、色調がそれぞれ異なる複数のパターンの塗工層を基材の同一面上に形成する（本実施形態は、第４の実施形態において図１８（ｂ）及び（ｃ）を用いて説明した例の変形例である）。よって、本実施形態によれば、複数の塗工層毎に異なる色調変化が得られるので、一の媒体において複数の色調を実現することができる。
【０１１８】
本実施形態の意匠性媒体形成方法として、図２１と図２２とに示す２つの例について以下にそれぞれ説明する。
【０１１９】
まず１つ目は、図２１に示すように、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第１の塗工層を形成する第１の塗工層形成ステップと（ステップＳ３１）、基材に第１の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第１の塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ３２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、第１の塗工層を硬化させる第１の塗工層硬化ステップと（ステップＳ３３）、を行った後、同じ基材において、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第２の塗工層を形成する第２の塗工層形成ステップと（ステップＳ３４）、基材に第２の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第２の塗工層中の顔料を配向させる第２の顔料配向ステップと（ステップＳ３５）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、第２の塗工層を硬化させる第２の塗工層硬化ステップと（ステップＳ３６）、を行うことを特徴とする。
【０１２０】
次に２つ目は、図２２に示すように、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第１の塗工層を形成する第１の塗工層形成ステップと（ステップＳ４１）、同じ基材において、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第２の塗工層を形成する第２の塗工層形成ステップと（ステップＳ４２）と、第１の塗工層及び第２の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第１の塗工層及び第２の塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ４３）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて両塗工層中の顔料を配向させた後に、第１の塗工層及び第２の塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ４４）、を行うことを特徴とする。
【０１２１】
上記２つの例において、第１及び第２の塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されてもよい。
【０１２２】
また、上記において、第１及び第２の塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されるようにしてもよいし、あるいは、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料でそれぞれが形成されるようにしてもよい。
【０１２３】
なお、本実施形態において、塗工層形成ステップで形成される媒体の構成（基材、塗料、顔料）や、顔料配向ステップの磁場印加の方法及び磁場印加を行う装置、塗工層硬化ステップの紫外線照射の方法及び紫外線照射を行う装置などについては、上記第１〜第４の実施形態で説明したものを適用するものとし、ここでの説明は省略する。
【０１２４】
以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例８〜１６について説明する。なお、以下の実施例８〜１６で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例８】
【０１２５】
本実施例で使用する塗料の構成（配合）を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１２６】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１２７】
このようにして形成した本実施例の意匠性媒体は、縦磁場を与えた第１の塗工層６０は小豆色になり、横磁場を与えた第２の塗工層７０は小豆から青色になった。
【実施例９】
【０１２８】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） ３重量部
【０１２９】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。
【０１３０】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成した。
【０１３１】
そして、第１の塗工層６０と及び第２の塗工層７０の両方に対して、同時に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、ＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。つまり、本実施例では、第１の塗工層６０の形成後には磁場を与えず、第２の塗工層７０の形成後に、両塗工層６０，７０に同時に磁場を与える。
【０１３２】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、塗料１で形成した第１の塗工層６０と、塗料２で形成した第２の塗工層７０とでは同じ小豆色でも濃淡に違いがあった。
【実施例１０】
【０１３３】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） ３重量部
【０１３４】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３５】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３６】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、実施例８よりも各ストライプパターン（第１の塗工層６０及び第２の塗工層７０）の色調が鮮明になった。
【実施例１１】
【０１３７】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１３８】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３９】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は斜めの磁場（第４の実施形態における図１５及び図１６参照）を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４０】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、垂直方向から見た場合は実施例８よりもストライプパターンの境界（第１の塗工層６０と第２の塗工層７０との境界）がはっきり見えないが、斜めから見ると実施例８と同じように見えるようになる。
【実施例１２】
【０１４１】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１４２】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４３】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は曲線の磁場（第１の実施形態における図３及び図４参照）を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４４】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、垂直方向から見た場合は実施例８よりもストライプパターンの境界（第１の塗工層６０と第２の塗工層７０との境界）がはっきり見えないが、曲線磁場を与えた第２の塗工層７０は、媒体を動かすと小豆色の中に青色部分が動いて見えた（正反射の位置になる部分だけが青色に見える）。
【実施例１３】
【０１４５】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１４６】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４７】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４８】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、小豆色（第１の塗工層６０）と褐色（第２の塗工層７０）のストライプパターンになった。各塗工層中に分散しているパール顔料を電子顕微鏡で観察すると、磁場の方向を変えているにもかかわらず、どちらの顔料も縦方向に配向していた。
【実施例１４】
【０１４９】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１５０】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。
【０１５１】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成した。
【０１５２】
そして、第１の塗工層６０と及び第２の塗工層７０の両方に対して、同時に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、ＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。つまり、本実施例では、第１の塗工層６０の形成後には磁場を与えず、第２の塗工層７０の形成後に、両塗工層６０，７０に同時に磁場を与える。
【０１５３】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、小豆色（第１の塗工層６０）と金属光沢（第２の塗工層７０）とを有する赤色のストライプになった。各塗工層中に分散しているパール顔料を電子顕微鏡で観察すると、同じ磁場で配向させたにもかかわらず、顔料によって配向の方向が異なっていた。
【実施例１５】
【０１５４】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１５５】
まず、図２０（ｃ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１５６】
次に、図２０（ｄ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、先に形成された第１の塗工層６０に直交するように５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１５７】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、横磁場を与えた第１の塗工層６０は小豆から青色になり、縦磁場を与えた第２の塗工層７０は小豆色になった。塗工層が重なった部分８０の色は、上に位置する第２の塗工層中の顔料が縦に配向しているので、下に位置する第１の塗工層の色である青みも見ることができた。
【実施例１６】
【０１５８】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１５９】
まず、図２０（ｃ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１６０】
次に、図２０（ｄ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、先に形成された第１の塗工層６０に直交するように５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１６１】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、第１の塗工層６０は金属光沢の赤色となり、第２の塗工層７０は小豆色となった。塗工層が重なった部分８０の色は、上に位置する第２の塗工層中の顔料が縦に配向しているので、下に位置する第１の塗工層の色である赤色も見ることができた。
【０１６２】
以上説明したように、本発明の実施例８〜１６によれば、第１の塗工層と第２の塗工層とにおいて、それぞれ異なる色調変化を実現することができた。
【０１６３】
なお、上記実施例８〜１６では、パターンをストライプパターンとしたが、これに限定されるもものではなく、例えば、第４の実施形態における図１８（ｂ）及び（ｃ）のような文字や模様などでもよい。
【０１６４】
また、上記実施例８〜１６では、媒体において、形成するパターンを２つ（第１の塗工層及び第２の塗工層）としたが、３つ以上の塗工層を形成するようにしてもよい。例えば、３つの塗工層を形成する場合は、図２０（ｅ）に示すように、図２０（ｂ）に示す媒体５において、さらに第３の塗工層９０（「Ｎ」の文字）を所定の塗料を用いて形成し、第３の塗工層９０の顔料を配向する。これにより、形成した３つの塗工層において、それぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１６５】
〔第６の実施形態〕
本発明の第６の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
従来、顔料が動きやすくなるように紫外線硬化樹脂として低い粘度（５００ｍＰａ・ｓ以下）のものが使用されていたため（例えば、特開平７−２６５７８６号公報参照）、磁場から媒体を外すと紫外線を照射する前に顔料が動いてしまうので、製造ラインによって意匠性媒体を形成することが困難であった。
【０１６６】
強磁場環境下では磁気異方性を有する材料であれば、常磁性体や反磁性体でも配向が可能となる。さらに配向させやすい条件の一つとして、塗料の粘度が挙げられる。５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であれば、配向が容易となるが、磁場環境から媒体を外すと配向状態が崩れてしまう（配向状態を保持できない）。これとは逆に、塗料を高粘度にしてしまうと配向そのものが困難になってしまう（時間がかかる）。この点を解消するため、５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗料にガラスビーズ等の微粒子を添加することによって、強磁場環境下から媒体を外してもある一定時間は元の状態を保持することが可能となり、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１６７】
よって、本実施形態では、上記第１〜第５の実施形態で用いる塗料に微粒子を含有させ、この塗料を塗工して塗工層を形成し、塗工層に磁場を印加して顔料を配向させ、塗工層を硬化させることを特徴とする。
【０１６８】
従って、本実施形態によれば、磁場によりほぼ垂直方向に配向した顔料が微粒子の隙間に入り込み、媒体を磁場から外してもある一定時間はそのままの状態が保持される。この一定時間内に磁場外で塗料を固化させるための工程を導入することができるので、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１６９】
第６の実施形態の意匠性媒体の形成方法は上記第１の実施形態と同様である。すなわち、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、塗工層形成ステップＳ１で塗工層を形成する塗料の中に微粒子を添加したものを用いる点が第１の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【０１７０】
本実施形態では、上記第１の実施形態と同様に、まず、塗工層形成ステップＳ１において、基材（例えば、樹脂、紙、セラミック等の非磁性体）５ｂの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜（塗工層）５ａを形成し、媒体５を形成する（図１（ａ）参照）。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下のものとしては、常磁性体や反磁性体がある。また、この塗料の中に、所定方向に配向した顔料を所定時間維持するために、微粒子としてのガラスビーズ（直径１０μｍ）を添加したものを用いる。
【０１７１】
塗膜５ａが形成された媒体５の側断面図を図２３に示す。図２３に示すように、塗膜５ａ内には、ガラスビーズ９が添加されている。また、図２３において、顔料（顔料成分）１４は、磁場印加前なので、略水平状態となっている。
【０１７２】
本実施形態ではガラスビーズの比重は顔料の比重より大きい場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ガラスビーズの比重が顔料の比重より小さくても等しくてもよい。また、塗膜５ａの粘度は５００ｍＰａ・ｓ以下である。また、顔料としては、磁場の影響により配向するものであれば特に限定されない。
【０１７３】
次に、顔料配向ステップＳ２について以下に詳細を説明する。ここでの説明では、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合とし、また、図２３に示す媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加する場合とする。
【０１７４】
図１（ｃ）に示すように、磁場（０．３Ｔ以上）を発生させるための電磁石の着磁ヨーク１，２間に、基板５ｂが下向きになるように水平に媒体５を配置する。塗膜５ａの粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下であり、ガラスビーズ９の比重が顔料の比重より大きい場合、塗膜５ａ形成後、時間の経過と共に、図２４（ａ）に示すように、ガラスビーズ９の上に顔料１４が折り重なるように沈む。
【０１７５】
電磁石に通電することにより着磁ヨーク１，２間に磁力線が形成されると、着磁ヨーク１，２間には多数の磁力線３ａ〜３ｍが発生する（図１（ｃ）参照）。そして、図２４（ｂ）に示すように、これらの磁力線群うち４本の磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが媒体５を交差するように（図の縦方向に）透過すると、各顔料１４が磁力線の方向（図中の各矢印方向）に配向する。
【０１７６】
塗工層５ａの粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、各顔料１４が動きやすい状態となり、磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈの方向に沿って各顔料１４がそれぞれ即座に水平方向（横配向）から垂直方向に一斉に配向（縦配向）する。そして、図２４（ｃ）に示すように、各顔料１４は垂直方向に配向することにより、ガラスビーズ９の隙間に突き刺さるような状態となる。
【０１７７】
電磁石への通電を停止すると、着磁ヨーク１，２間の磁力線３ａ〜３ｍが消滅する。磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが消滅すると、各顔料１４は、重力の影響により不安定な垂直方向の配向から安定な水平方向の配向に戻ろうとする。しかし、上述したように、垂直方向に配向した各顔料１４はガラスビーズ９間に挟まれているので、本実施形態では、これら各顔料１４は、各ガラスビーズ９の間に挟まれて状態で、ある一定時間（例えば、約０．１〜３０秒）保持されることになる。
【０１７８】
このため、磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈによって配向した媒体５を磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、８ｈから外しても、ある一定時間だけ状態が保存されるので、塗工層硬化ステップＳ３として、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、本実施形態によれば、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１７９】
上記説明では、塗工層中のガラスビーズが基材上に沈降した状態の時に磁場印加を行って顔料を配向させたが、他の例として、ガラスビーズの比重が顔料の比重よりも大きい場合は、媒体に磁場を印加しながら顔料及びガラスビーズを沈降させるようにしてもよい。これについて以下に説明する。
【０１８０】
図１（ｃ）に示すように、基板５ｂが着磁ヨーク１，２間に配置された媒体５に磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが交差するように（図の縦方向）磁場（０．３Ｔ以上）を印加すると、図２５（ａ）に示すように、各顔料１４は磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈ（図１（ｃ）参照）に沿って、縦方向に配向する。
【０１８１】
微粒子であるガラスビーズ９の比重が顔料１４の比重より大きく、かつ、塗膜５ａが５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、図２５（ｂ）に示すように、ガラスビーズ９が顔料１４より先に基板５ｂに向かって沈降する。
【０１８２】
ガラスビーズ９が基板５ｂ上に到達した後、顔料１４も到達するが、顔料１４は垂直方向に配向しているので、図２５（ｃ）に示すように、ガラスビーズ９の間の隙間に差し込むように沈降する。この状態で磁場を媒体５から外す（もしくは媒体５を磁場から外す）か、又は、電磁石の電源を切っても、顔料１４はガラスビーズ９の間の隙間に差し込まれているので、顔料１４がガラスビーズ９により支えられていることにより顔料１４の配向が維持される。このため、ある一定時間（約０．１秒〜３０秒）だけ状態が保存されるので、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１８３】
次に、ガラスビーズの比重が顔料の比重よりも小さい場合について説明する。
図１（ｃ）に示すように、基板５ｂが着磁ヨーク１，２間に配置された媒体５に磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが交差するように（図の縦方向）磁場（０．３Ｔ以上）を印加すると、図２６（ａ）に示すように、各顔料１４は磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈ（図１（ｃ）参照）に沿って、縦方向に配向する。
【０１８４】
顔料１４の比重がガラスビーズ９の比重より大きく、かつ、塗膜５ａが５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、図２６（ｂ）に示すように、顔料１４がガラスビーズ９より先に基板５ｂに向かって沈降する。
【０１８５】
顔料１４が基板５ｂ上に到達した後、ガラスビーズ９も到達するが、顔料１４は垂直方向に配向しているので、図２６（ｃ）に示すように、ガラスビーズ９は顔料１４の間の隙間に差し込むように沈降する。この状態で磁場を媒体５から外す（もしくは媒体５を磁場から外す）か、又は、電磁石の電源を切っても、顔料１４はガラスビーズ９の間の隙間に差し込まれているので、顔料１４がガラスビーズ９により支えられていることで顔料１４の配向が維持されている。このため、ある一定時間（約０．１秒〜３０秒）だけ状態が保存されるので、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１８６】
以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例１７，１８について説明する。なお、以下の実施例１７，１８で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例１７】
【０１８７】
ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま強磁場（例えば５Ｔ）環境下に５分間さらし、図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加し、顔料を縦配向させた。
その後、着磁ヨーク１，２間でＵＶ照射を行い固定化させたもの ……Ａ
着磁ヨーク１，２間から取り出し、１分間放置し固定させたもの ……Ｂ
ワイヤーバー塗工した後、すぐに固定化（ブランク） ……Ｃ
上記、Ａ、Ｂ、Ｃにおける顔料の配向状態を観察した。
【０１８８】
以下に示した材料を用いて媒体５を形成し評価した。
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） ５重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
微粒子 ガラスビーズＥＭＢ−５（Potters-Ballotini） １重量部
【実施例１８】
【０１８９】
ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま強磁場（例えば５Ｔ）環境下に５分間さらし、図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加し、顔料を縦配向させた。
その後、着磁ヨーク１，２間でＵＶ照射を行い固定化させたもの ……Ａ
着磁ヨーク１，２間から取り出し、１分間放置し固定させたもの ……Ｂ
ワイヤーバー塗工した後、すぐに固定化（ブランク） ……Ｃ
上記、Ａ、Ｂ、Ｃにおける顔料の配向状態を観察した。
【０１９０】
以下に示した材料を用いて媒体５を形成し評価した。
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） ５重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１９１】
実施例１７、１８についての結果を表５に示す。
【表５】
褐色…顔料が縦配向している状態（強磁場によって顔料が強制的に配向している状態）
金属光沢（赤）…顔料が横配向している状態（強磁場の影響が無く、重力の影響で通常なり得る配向状態）
【０１９２】
以上説明したように、本実施形態によれば、低粘度塗料に微粒子を添加することによって、磁場によりほぼ垂直方向に配向した顔料が微粒子の隙間に入り込み、磁場環境下で配向させた状態を環境外に出した場合でも、ある一定時間保持し続けることが可能となる。この一定時間内に磁場外で塗料を固化させるための工程を導入することができるので、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１９３】
〔第７の実施形態〕
本発明の第７の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第３の実施形態において、強磁性体を用いた磁場印加によりパターンが形成される理由は、磁力線が強磁性体領域に引き込まれる現象が起こるためである。これについて、図２７を参照して説明する。例えば、アルファベットの「Ｌ」文字型のパターンの強磁性体領域を有する磁性部材を媒体に隣接させ、図８（ａ）に示す水平磁場のＡの位置に媒体を配置し、図２７（ａ）の上面図に示すように、直線状の磁力線ｇをＬ字の縦長の線部分に直交させることにより、Ｌ字型の強磁性体領域４ａの顔料を配向させる。ここで、直線状の磁力線ｇは、図２７（ｂ）に示すように、強磁性体領域４ａに引き込まれる現象が起こる。この現象は、磁力線が強磁性体領域に対して直交している部分で強く現われる一方で、磁力線が強磁性体領域に対して水平となる部分では磁力線の歪みが少なく、現われない。この現象により、塗工層５ａ上に形成されるＬ字型のパターン３４は、図２７（ｃ）に示すように、磁力線ｇと直交した部分３４ａ（及び３４ｂの両端の部分）はコントラストが強く出る一方で、磁力線ｇと水平に重なった部分３４ｂはコントラストが弱く出る。よって、図２７（ｃ）に示す意匠性媒体３０において、Ｌ字型のパターン３４は、完全な形で形成されない。
【０１９４】
以上の説明から、所定のパターンを有する強磁性体を媒体に隣接させた状態で磁場をかけて顔料を配向させる場合、強磁性体のパターンの形状によっては、コントラストの強い部分と弱い部分とが現われ、視認性が低くなってしまうという問題がある。特に、パール顔料は色調が淡いものが多いため、コントラストが均一化されないと、パターンを正確に認識できない。本実施形態の意匠性媒体形成方法は、このような課題を解決する。
【０１９５】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、上記第３の実施形態と同様である。すなわち、図１１に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１１）、基材に塗工層を形成した媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ１２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ１３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、顔料配向ステップＳ２における磁場のかけ方が第３の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【０１９６】
まず、本実施形態の意匠性媒体形成方法においても、基材に塗料を塗工して塗工層を形成した媒体を形成するが、図１１に示す塗工層形成ステップＳ１１は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態の塗工層形成ステップＳ１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１９７】
次に、図１１の顔料配向ステップＳ１２について以下に詳細を説明する。なお、図８において、上記第１の実施形態の図１や図４（ａ）と同じ部分には同一符号を付すものとし、それらの説明は省略する。また、以下の説明は、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料を基材５ｂに塗工して塗膜５ａを設け、媒体５（図１（ａ）参照）を形成した後（図１１の塗工層形成ステップＳ１１の後）、この媒体５を水平磁場で磁磁場印加した場合を例とする。また、磁場印加の際に媒体５に隣接させる磁性部材４は、少なくとも一方の面（図の上面）に強磁性体領域４ａがＬ字型のパターン形状（図２７（ａ）参照）に形成されたものである。
【０１９８】
顔料配向ステップＳ１２では、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが指す位置）に、磁性部材４を非磁性体（図示せず）で支持して配し、この磁性部材４の上に媒体５を配置し、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上で磁場印加する。この磁場印加の際、本実施形態では、図２８（ａ）及び（ｂ）に示すように、直線状の磁力線３ｇに対して、媒体５を所定の角度傾けた状態にし、磁場を形成する磁力線３ｇと、強磁性体領域４ａ（Ｌ字型のパターン）を構成する直線部分（図２８（ｂ）の３４ａ及び３４ｂ）とが水平な状態で重ならないようにする。これにより、塗膜５ａに形成されるＬ字型のパターンのどの部分にも磁力線３ｇの歪みを発現させることができる。
【０１９９】
そして、顔料配向ステップＳ１２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ１３を行う。以上のステップＳ１１〜Ｓ１３により、図２８（ｃ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０が形成される。このようにして形成された意匠性媒体３０には、媒体表面に磁性部材４のＬ字型のパターン（模様）が反映され、コントラストが均一化されたＬ字型のパターン３４が形成される。
【０２００】
なお、上記説明では、直線のみで構成されたＬ字型のパターンを例としたが、本実施形態の意匠性媒体形成方法は、曲線を含むパターンにも適用できる。
【０２０１】
また、上記説明では、顔料配向ステップＳ１２において、媒体自体を傾けるようにしたが、磁場をかける装置を傾けるようにしてもよい。
【０２０２】
以上説明したように、本実施形態によれば、顔料配向ステップで塗工層に磁場をかける際、磁場を形成する磁力線と、磁性部材によって塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにし、そのパターンのどの部分にも磁力線の歪みを発現させることにより、塗工層上に形成されるパターンのコントラストを均一化させることができ、視認性を向上させることが可能となる。
【０２０３】
以上、本発明の各実施形態及び各実施例について説明したが、各実施形態及び各実施例は任意に組み合わせることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０２０４】
本発明は、塗膜面に周囲と異なる微細な色調あるいは模様、図形、文字等のパターンの形成を行うことに利用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２０５】
【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る媒体の側面を模式的に示す図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の磁場印加前における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の垂直磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の垂直磁場の曲線部分における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図４】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る媒体の表面を模式的に示す上面図である。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る意匠性媒体の色調変化の一例を模式的に示す斜視図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図７】本発明の第２の実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図８】（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第３の実施形態に係る磁性部材の側面を模式的に示す図であり、（ｃ）は、磁性部材の変形例を示す図である。
【図９】（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係る媒体の表面を示す上面図であり、（ｂ）〜（ｇ）は、（ａ）に示す媒体のパターン部分及びパターン部分以外の周辺部分における顔料の配向状態をそれぞれ模式的に示すの側断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第３の実施形態に係る意匠性媒体の色調変化の一例を模式的に示す斜視図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１３】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１４】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１５】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１６】本発明の第４の実施形態に係る顔料配向方法を実行する着磁ヨークの動作を説明するための図である。
【図１７】（ａ）は、本発明の第４の実施形態に係る顔料の左上から右下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の第４の実施形態に係る顔料の右上から左下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図１８】（ａ）は、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体の側面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体のデザインの一例をそれぞれ示す上面図である。
【図１９】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図２０】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の第５の実施形態に係る媒体の表面を示す上面図である。
【図２１】本発明の第５の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一例を示すフローチャートである。
【図２２】本発明の第５の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一例を示すフローチャートである。
【図２３】本発明の第６の実施形態に係る媒体内の状態を模式的に示す側断面図である。
【図２４】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２５】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２６】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２７】（ａ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す上面図であり、（ｂ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す斜視図であり、（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）に示す磁場で顔料を配向させた意匠性媒体の表面を示す上面図である。
【図２８】ａ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す上面図であり、（ｂ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す斜視図であり、（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）に示す磁場で顔料を配向させた意匠性媒体の表面を示す上面図である。
【符号の説明】
【０２０６】
１、２ 着磁ヨーク
３ａ〜３ｍ 磁力線
４、４０ 磁性部材
４ａ、４０ａ 強磁性体領域
４ｂ、４０ｂ 非強磁性体領域
５、５０ 媒体
５ａ 塗膜（塗工層）
５ｂ 基材
５ｃ 透明基材
６ａ ロール部（送り出し部）
６ｂ ロール部（巻き取り部）
７ 塗工部
８ ＵＶ照射部
９ 微粒子（ガラスビーズ）
１０ 顔料が垂直に配向された塗膜
１１ 顔料が水平に配向された塗膜
１２ 顔料が左斜めに配向された塗膜
１３ 顔料が右斜めに配向された塗膜
１４、１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ 顔料成分
１５ 媒体表面の背景塗膜
１６、１７、１８、１９ 媒体表面の文字塗膜
２０、２１、２２、２３ 媒体表面の黒正方形塗膜
２４、２５、２６、２７ 媒体表面の白正方形塗膜
３０ 意匠性媒体
３１、３３ 光沢
３２ パターン部分（１１本の平行直線）
３４ パターン部分（Ｌ字型）
３４ａ Ｌ字型のパターンの縦線部分
３４ｂ Ｌ字型のパターンの横線部分
６０ 第１の塗工層
６１ 未印刷部分
７０ 第２の塗工層
８０ 第１の塗工層と第２の塗工層とが重なった部分
９０ 第３の塗工層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔料を含む塗料を基材に塗布し、磁場において顔料を配向することによって、意匠性を有する意匠性媒体を形成する意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材に顔料を含む塗料を塗布して意匠性を有する意匠性媒体を形成する方法として、下塗り及び／又は中塗り塗膜を直接着磁して磁化させて磁石を形成することにより、被塗物の材料や形状等に左右されることなく、様々な模様を塗膜上に現出させることができる「模様塗膜形成方法」（例えば、特許文献１参照）、塗膜に分散している磁性粉末を磁力によって配向・移動させることにより、意匠性及び識別性に優れた模様を付けることができる「模様付き塗装金属板の製造方法」（例えば、特許文献２参照）、入射光を分散させて出射する光分散層の光出射側に、磁性を有する光輝性顔料を磁場印加により配向させて含有する樹脂層を設けることにより、観察方向によって異なる模様を表すことができる「意匠性フィルム」（例えば、特許文献３参照）、等が開示されている。
【特許文献１】特開平６−１１４３３２号公報
【特許文献２】特開平８−３８９９２号公報
【特許文献３】特開平９−９４５２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１〜３も含めた従来技術では、媒体に複数の領域を形成し、それら複数の領域において顔料の配向を変え、領域毎に異なる色調変化が起こる意匠性を実現した媒体はなかった。
【０００４】
また、上記従来技術例１〜３では、強磁性を持つ光輝性顔料を用いることにより顔料の配向を制御している。この強磁性を持つ光輝性顔料は、鱗片状、針状の強磁性材料単独や、それらに二酸化チタンや酸化鉄を被覆したもの、マイカ・シリカ・アルミナなどに酸化鉄やニッケル（Ｎｉ）等の強磁性体を被覆したものが挙げられる。しかしながら、上記従来技術のいずれも、上記で列挙した強磁性体全般に適用できるものではない。よって、上記各従来技術の方法は、配向対象となる強磁性体が限定されているので、輝度の変化のみしか実現されず、バリエーションに富んだ意匠性の実現は困難であった。
【０００５】
一方、従来の顔料配向方法では、マイカ・シリカ・アルミナなどの非強磁性体材料を主成分とし、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ（SI unit）以下となる光輝性顔料を使用した場合、顔料を動かすことができなかったため、非強磁性光輝性顔料（非強磁性パール顔料）を配向させた媒体はなかった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、非強磁性光輝性顔料の配向制御を行うことにより、従来にない、新しい色調を実現することができる意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、を行うことを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させることを特徴とする。
【００１０】
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させることを特徴とする。
【００１１】
請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の発明において、塗料として、無溶媒系の樹脂を用いることを特徴とする。
【００１２】
請求項６記載の発明は、請求項１から５のいずれか１項に記載の発明において、基材として、光を透過する透明基材を用いることを特徴とする。
【００１３】
請求項７記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の発明において、顔料配向ステップは、塗工層形成ステップで形成された塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させることを特徴とする。
【００１４】
請求項８記載の発明は、請求項７記載の発明において、顔料配向ステップは、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された磁性部材を塗工層の所定部分に隣接させて磁場をかけることを特徴とする。
【００１５】
請求項９記載の発明は、請求項８記載の発明において、磁性部材は、強磁性体で形成された強磁性体領域と、非強磁性体で形成された非強磁性体領域と、を有することを特徴とする。
【００１６】
請求項１０記載の発明は、請求項８又は９記載の発明において、顔料配向ステップで塗工層に磁場をかける際、磁場を形成する磁力線と、磁性部材によって塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにすることを特徴とする。
【００１７】
請求項１１記載の発明は、請求項７記載の発明において、顔料配向ステップは、塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする。
【００１８】
請求項１２記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の発明において、単一基材上に、塗工層形成ステップと、顔料配向ステップと、塗工層硬化ステップと、を所定回数繰り返して行うことを特徴とする。
【００１９】
請求項１３記載の発明は、請求項１２記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されることを特徴とする。
【００２０】
請求項１４記載の発明は、請求項１２又は１３記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されることを特徴とする。
【００２１】
請求項１５記載の発明は、請求項１２又は１３記載の発明において、塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料で形成されることを特徴とする。
【００２２】
請求項１６記載の発明は、請求項１から１５のいずれか１項に記載の発明において、塗料は、顔料が直立した状態を所定時間維持するための微粒子を含有した塗料であることを特徴とする。
【００２３】
請求項１７記載の発明は、請求項１から１６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、非強磁性光輝性顔料の配向制御を行うことにより、従来にない、新しい色調の意匠性媒体を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
〔第１の実施形態〕
本発明の第１の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
【００２６】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。
【００２７】
図１（ａ）は、本実施形態の意匠性媒体形成方法における塗工層形成ステップ（図６・ステップＳ１）で形成された媒体の側面を模式的に示す図である。図１（ａ）に示すように、媒体５は、基材（例えば、樹脂、紙、セラミック等の非磁性体）５ｂの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜（＝塗工層）５ａが形成されている。塗膜５ａを構成する塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下のものとしては、常磁性体や反磁性体がある。また、光輝性顔料であることによって、高い意匠性を得ることができる。
【００２８】
図１（ａ）に示す媒体５において、磁場印加前（塗工層形成ステップＳ１の後、顔料配向ステップＳ２の前）の顔料の配向状態は、図２（ａ）に示すように、ほぼ水平（略水平状態）となっている。この略水平状態においては、図２（ａ）に示すように媒体表面から入射光Ｌを当てると、０°〜１５０°の範囲で媒体表面に、干渉色、光沢が発現する。なお、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であるか負（−）の値であるかにかかわらず、顔料の形状が図２に示すように楕円形、鱗片状であれば、エネルギー的に安定なため、図２（ａ）に示すように、顔料の長軸は、基材５ｂに対してほぼ水平に並んだ状態である。
【００２９】
上記光輝性顔料に含まれる反磁性体材料は、鉄やニッケルなどの強磁性体材料に比べ磁化率が非常に小さいものではあるが、その物質の結晶構造が非対称である場合、結晶軸の方位により磁化率に僅かな差が生じる。これを結晶磁気異方性と呼び、強磁場に置くと磁化率の大きな結晶軸方位が磁場方向と平行になるように結晶が回転・配向する。
【００３０】
また、溶媒を用いると、溶媒が蒸発する時に塗料の体積が減るため、直立した顔料が倒れてしまう場合がある。これを防止するために無溶媒系の樹脂を用いることが好ましい。さらには、無溶媒低粘度硬化型樹脂を使用するのが望ましく、例えば、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いものが、鱗片状光輝性顔料を配向させやすいため、好ましい。
【００３１】
本実施形態の意匠性媒体形成方法の一工程に係る顔料配向方法（図６の顔料配向ステップＳ２）について以下に詳細を説明する。
図１（ｂ）及び（ｃ）は、図６のステップＳ２に示す顔料配向ステップを実行するための装置を模式的に示す図である。この装置は、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、電磁石の着磁ヨーク１，２を有する。これらの着磁ヨーク１（Ｓ極），２（Ｎ極）は、図示しない部分にコイルが巻き付けられており、着磁ヨーク１、２は、複数の磁力線３ａ、３ｂ、３ｃ、…、３ｍを発生させることによって、着磁ヨーク１、２間に磁場を形成する。これらの磁力線３ａ〜３ｍは、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）や曲線状の部分がある。また、形成される磁場の強さは、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上である。そして、図６のステップＳ２に示す顔料配向ステップでは、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、着磁ヨーク１、２間に形成された磁場（複数の磁力線３ａ〜３ｍ）の中に、塗工層形成ステップにおいて基材５ｂに塗膜５ａが形成された媒体５を配置し、磁場印加を行い、塗膜５ａ中の顔料を配向する。
【００３２】
ここで、顔料配向ステップＳ２において、図１（ｂ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｇの直線状の部分に対して水平に配置した場合（横磁場、水平磁場）と、図１（ｃ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｅ〜３ｉの直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に対して垂直に配置した場合（縦磁場、垂直磁場）とを例として、以下に説明する。
【００３３】
顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で磁場印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に直交した磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００３４】
顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に沿った磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００３５】
そして、顔料配向ステップＳ２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ３を行う。以上のステップＳ１〜Ｓ３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態の意匠性媒体形成方法によれば、磁力線の直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に媒体を配置して磁場をかける顔料配向ステップを行うことによって、磁気異方性を有する顔料が均一に配向するため、鱗片状光輝性顔料を基材に対して垂直に配向させた場合は、通常得られる色調とは大きく異なる色調の意匠性を実現できる。また、鱗片状光輝性顔料を基材に対して水平に配向させた場合は、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より均一に顔料が並ぶため、より鮮やかな色調の意匠性を実現できる。
【００３７】
なお、上述した顔料配向ステップの説明では、磁力線の直線部分の中に媒体５を配置したが、図１（ｂ）及び（ｃ）において、磁力線の曲線状の部分の中に媒体５を配置してもよい。この場合について以下に説明する。
【００３８】
例えば、図３（ａ）に示すように、垂直磁場における磁力線３ａ〜３ｅの曲線部分に、異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料の塗膜が形成された媒体５を配置し磁場印加すると、図３（ｂ）に示すように、塗膜５ａ中の顔料成分１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄは、磁力線３ａ〜３ｅの曲線状の部分に沿ってそれぞれ配向される。
【００３９】
よって、図３（ｂ）に示すように、鱗片状光輝性顔料１４ａ〜１４ｄの配向角度（傾き）がそれぞれ異なるため、媒体を傾けた際の光の反射の仕方が媒体表面の部分毎に異なるようになり、従来にない色調変化を得ることできる。また、図３（ｂ）に示すように、媒体の表面からの光だけでなく媒体の側面からの光（入射光Ｌ）も反射することができるので、媒体の表面において、媒体の側面からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【００４０】
次に、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体の色調変化について説明する。なお、以下の説明では、一例として、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料の塗膜５ａが基材５ｂに形成された媒体５（図１（ａ）参照）を水平磁場で磁場印加して形成した場合について説明する。
【００４１】
まず、図４（ａ）において、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが示す位置）に媒体５を配置して磁場印加して顔料を配向させ、塗膜５ａを硬化させて、図４（ｂ）に示す意匠性媒体３０を形成した場合、この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、顔料塗布面（塗膜５ａ）において色調変化が全面同時に起こる。また、この意匠性媒体３０を図４（ｂ）に示すｂ−ｂ’の位置で裁断し、その断面を観察すると、図９（ｃ）に示すように、顔料のそれぞれの列が水平に均一に並んだ配向状態となっている（図２（ｃ）と同じ）。
【００４２】
一方、図４（ａ）において、磁力線３ａ〜３ｍのうち曲線状の磁力線３ａの位置（図中の矢印Ｂが示す位置）に媒体５を配置して磁場印加して顔料を配向させ、塗膜５ａを硬化させて、図４（ｂ）に示す意匠性媒体３０を形成した場合、この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、顔料塗布面（塗膜５ａ）において色調変化が連続的に起こる。すなわち、図５（ａ）に示すように、水平状態である意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、その傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が手前側から奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動する。また、図５（ｂ）に示すように、水平状態である意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、その傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が奥側から手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動する。また、この意匠性媒体３０を図４（ｂ）に示すｂ−ｂ’の位置で裁断し、その断面を観察すると、図９（ｅ）に示すように、曲線状の磁力線に沿うように顔料が傾いた配向状態となっている。
【００４３】
ここで、上述した本実施形態に係る顔料配向方法と上記特許文献１〜３との違いについて以下に述べる。
特許文献１では、使用する粒子として５〜１００ｅｍｕ／ｇと明示しており、明らかに強磁性体であるといえる。
特許文献２では、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅを含む金属又は合金でコーティングされた磁性粉末とあり、磁場としては１００〜３０００ガウス（０．０１Ｔ〜０．３Ｔ）を使用するが、本実施形態で使用する質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の鱗片状光輝性顔料は、０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上の強磁場を使用することで配向する。
特許文献３では、使用する光輝性顔料は、単体の材料としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｎｉ箔など、非磁性体にコーティングする材料としてＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ３Ｏ４など、いずれも強磁性体であり、顔料の質量磁化率として１０-6ｍ3／ｋｇを大きく超える。
また、本実施形態の磁場の強度は０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上であるが、特許文献１〜３に記載されている強磁性体の顔料を含む塗液を、本実施形態で使用している０．３Ｔ以上の強磁場に近づけると、顔料が磁場に吸い寄せられ、均一な塗膜が得られない。
【００４４】
以下、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例１〜４及び比較例について説明する。なお、以下の実施例１〜４及び比較例１〜４で使用したパール顔料（Merck製）は、いずれも−の異方性磁化率を有するものである（後述の表２参照）。
【実施例１】
【００４５】
実施例１では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例２】
【００４６】
実施例２では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例３】
【００４７】
実施例３では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例４】
【００４８】
実施例４では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００４９】
〈比較例１〉
比較例１は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５０】
〈比較例２〉
比較例２は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５１】
〈比較例３〉
比較例３は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５２】
〈比較例４〉
比較例４は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５３】
上記実施例１〜４及び比較例１〜４で形成した媒体の評価結果を表１に示す。
【表１】
【００５４】
実施例１の媒体は、比較例１の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い水色〜淡い赤色となった。実施例２の媒体は、比較例１と比べ、変化はなかった。
実施例３の媒体は、比較例２の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い赤色となった。実施例４の媒体は、比較例２と比べ、変化はなかった。
【００５５】
また、比較例３の媒体は、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は水色〜赤色のままであった。
比較例４の媒体も、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は赤色のままであった。
【００５６】
よって、上記実施例１〜４及び比較例１〜４によれば、異方性磁化率が−の値の顔料（Color Code及びXillaric T60-21）は元々水平に配向されているので、実施例１及び３のように水平磁場に配置し、磁場印加することによって、顔料の配向状態を垂直に制御することができる。また、形成された媒体は元々の色調とは違った色調になる。また、０．０５Ｔの弱い磁場では顔料の配向に変化は起きない。
【００５７】
本発明に適用できる顔料として、上記実施例１〜４においてColor Code及びXillaric T60-21を用いたが、その他の顔料の例を表２に示す。
【表２】
【００５８】
上記Color Code及びXillaric T60-21と同様に、異方性磁化率が−の顔料としてIridodin302やIridodin524（Merck製）が挙げられる。Iridodin302を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金色の色調であったが、水平磁場での形成では黄土色の色調となった。また、Iridodin524を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金属光沢赤色の色調であったが、水平磁場での形成では褐色の色調となった。
【００５９】
また、異方性磁化率が＋の顔料として、Xillaric T60-23（Merck製）、SECURE SHIFT（Flex Product製）やInfinite R-08（資生堂製）が挙げられる。これらの顔料を用いて上記各実施例と同じ方法で媒体をそれぞれ形成したところ、磁場無しの形成と水平磁場での形成とでは同じ色調であったが、垂直磁場での形成では違った色調となった。すなわち、Xillaric T60-23では、元々の青色の色調から淡い青色の色調に変化し、SECURE SHIFTでは、元々のローズ〜緑の色調から黒のみの色調に変化し、Infinite R-08では、元々の小豆色〜青紫色の色調から小豆色のみの色調に変化した。
【００６０】
なお、表２において、マイカ（Mica）に強磁性体（Ｆｅ２Ｏ３）を被覆した顔料（Iriodin302、Iriodin524、Infinite R-08）は、赤銅色を得ることを目的としてごく弱い強磁性を持つα−Ｆｅ２Ｏ３を被覆したものであり、顔料としての質量磁化率は１０-6ｍ3／ｋｇ以下である（従来の磁場配向技術では強磁性体としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４を使用していたが、これは磁化率を高めるためであり、磁化率の低いα−Ｆｅ２Ｏ３は従来使用されていなかった）。一方、表２において、反磁性体だけで組成された顔料（SECURE SHIFT、Color Code）は、１Ｔ以上の磁場が必要である。
【００６１】
〔第２の実施形態〕
本発明の第２の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１の実施形態では、光を透過しない基材を用いて意匠性媒体を形成した。よって、第１の実施形態の意匠性媒体では、媒体の表面及び横から入射する光を反射して色調が変化するが、媒体の裏面から入射する光は基材で遮断されてしまう。本実施形態では、媒体の裏面からの入射光を反射することが可能な意匠性媒体及びその形成方法を実現する。
【００６２】
第２の実施形態の意匠性媒体の形成方法は上記第１の実施形態と同様である。すなわち、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、塗工層形成ステップＳ１で塗工層を形成する基材として、透明基材を用いる点が第１の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【００６３】
本実施形態の意匠性媒体形成方法では、まず塗工層形成ステップＳ１において、図７に示すように、光を透過する透明基材（例えば、プラスチック、フィルム、ガラス等）５ｃを用いて、この透明基材５ｃの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜５ａを形成する。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂（紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いもの）に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有するものである。このように、塗料の構成については第１の実施形態と同様である。
【００６４】
塗工層形成ステップＳ１以降の顔料配向ステップＳ２及び塗工層硬化ステップＳ３については、第１の実施形態と同様である。すなわち、顔料配向ステップＳ２では、図１（ｂ）又は図１（ｃ）の磁場において、透明基材５ｃ上に塗膜５ａを形成した媒体５を所定の位置に配置し、０．３Ｔ以上の磁場を印加する。これにより、鱗片状光輝性顔料１４は、例えば図２（ｂ）及び（ｃ）や図１７（ａ）及び（ｂ）のように配向される。その後、塗工層硬化ステップＳ３として、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる。以上のステップＳ１〜Ｓ３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。
【００６５】
例えば、本実施形態の意匠性媒体において、顔料１４が図２（ｂ）に示す垂直配向となった場合、図７に示すように、媒体の裏面から入射する入射光Ｌは、透明基材５ｃを透過し、鱗片状光輝性顔料１４に当たって反射する（なお、媒体の表面からの入射光は媒体を透過する）。よって、本実施形態の意匠性媒体は、透明基材を用いて形成することにより、媒体の裏面からの入射光を反射することができ、従来にはない色調変化を得ることができる。
【００６６】
以下、上述した本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例５及び比較例５で使用したパール顔料（Merck製、Iriodin302）は、−の異方性磁化率を有するものであり、表３に示すように、元々は金色であり、光を当てると黄土色の光輝性を示す顔料である。
【実施例５】
【００６７】
実施例５では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００６８】
〈比較例５〉
比較例５は、実施例５の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００６９】
そして、実施例５の媒体及び比較例５の媒体において、表面及び裏面に対して光を当て、媒体を４５°傾け、各媒体の表面の塗膜の様子を目視で観察した。観察結果を表３に示す。
【表３】
【００７０】
表３に示すように、比較例５の媒体は、顔料がほぼ水平に配向された状態（図２（ａ）参照）であるので、表面から光を当てた場合には黄土色の光輝性が認められたが、裏面から光を当てた場合には元の金色のままであり、光輝性は認められなかった。一方、実施例５の媒体は、顔料が垂直に配向された状態（図２（ｂ）及び図７参照）であるので、表面から光を当てた場合は元の金色のままであり、光輝性は認められなかったが、裏面から光を当てた場合は黄土色の光輝性が認められた。
【００７１】
よって、上記実施例５によれば、透明基材を用いて媒体を形成することにより媒体の裏面からの光を入射することができ、その入射光を垂直に配向された顔料が反射するので（図７参照）、媒体の表面にて干渉色、光沢を得ることができる。
【００７２】
〔第３の実施形態〕
本発明の第３の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、塗工層（塗膜５ａ）を設けた後、その塗工層全体に磁場印加を行い、顔料を配向させるものとしたが、本実施形態では、上記第１の実施形態と同様に基材上に塗工層を形成した後、この塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させる。すなわち、本実施形態では、塗工層を設けて媒体を形成した後、この媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で磁場をかけ、顔料の配向を行うことを特徴とする。よって、本実施形態によれば、パターン部材が隣接したパターン部分と、そのパターン部分以外の部分（パターン部材が隣接していない部分）とでそれぞれ異なる顔料配向を実現することができるので、塗工層（同一塗膜上）の部分毎に、コントラストの差や色調の差を表現することができる。
【００７３】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、図１１に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１１）、基材に塗工層を形成した媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ１２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ１３）、を行うことを特徴とする。
【００７４】
まず、本実施形態の意匠性媒体形成方法においても、基材に塗料を塗工して塗工層を形成した媒体を形成するが、図１１に示す塗工層形成ステップＳ１１は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態の塗工層形成ステップＳ１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７５】
次に、図１１の顔料配向ステップＳ１２について以下に詳細を説明する。なお、図８において、上記第１の実施形態の図１や図４（ａ）と同じ部分には同一符号を付すものとし、それらの説明は省略する。また、以下の説明は、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料を基材５ｂに塗工して塗膜５ａを設け、媒体５（図１（ａ）参照）を形成した後（図１１の塗工層形成ステップＳ１１の後）、この媒体５を水平磁場で磁場印加した場合を例とする。
【００７６】
顔料配向ステップＳ１２では、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが指す位置）に磁性部材４を配し、この磁性部材４の上に媒体５を配置して磁場印加する。あるいは、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち曲線状の磁力線３ａ〜３ｄの位置（図中の矢印Ｂ指す位置）や曲線状の磁力線３ｌの位置（図中の矢印Ｃが指す位置）に磁性部材４を配置し、この磁性部材４の上に媒体５を配置して磁場印加する。なお、図８（ａ）において、磁性部材４は、図示しない非磁性体、例えばセラミックからなる支持部材で支持されているものとする。また、図８（ａ）において形成される磁場の強さは、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上である。
【００７７】
図８（ａ）に示す磁性部材４は、図８（ｂ）に示すように、少なくとも一方の面（図の上面）に強磁性体領域４ａが所望のパターン形状（本実施形態では、１１本の平行直線）に形成され、この強磁性体領域４ａに隣接するように非強磁性体領域（強磁性体以外の磁性体、例えば、反磁性体、常磁性体、もしくは弱磁性体）４ｂが形成されたものである。この磁性部材４としては、例えば、強磁性体からなる帯状部材と、非強磁性体からなる帯状部材とを交互に積層した積層体が挙げられる。強磁性体と非強磁性体とを交互に積層することにより、磁性部材の製造が容易であるとともに、帯状部材の厚さを薄くすることにより、微細なパターンを得ることができる。なお、強磁性体としては、鉄、ニッケル、コバルト等が挙げられ、反磁性体としてはアルミニウム、銅等が挙げられる。本実施形態の磁性部材４は、図８（ｂ）に示すように、厚さ０．３ｍｍの強磁性体（１１枚）と、厚さ０．３ｍｍの非強磁性体（１０枚）とを交互に積層したものである。また、磁性部材４としては、酸素は常磁性体であるので、例えば、強磁性体からなる部材に凹凸を設けたものでもよい。
【００７８】
なお、上記磁性部材４の変形例である磁性部材４０の構成を図８（ｃ）に示す。磁性部材４０は、強磁性体からなる板状部材４０ａにフォトリソグラフィ技術を用いてパターンが残るようにエッチングを施し、得られた溝部に非強磁性体４０ｂを埋め込んだものである。
【００７９】
そして、顔料配向ステップＳ１２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ１３を行う。以上のステップＳ１１〜Ｓ１３により、本実施形態の意匠性媒体が形成される。このようにして形成された意匠性媒体は、媒体表面に磁性部材４の平行線状のパターン（模様）が反映され、そのパターンと同様な形状のパターンが形成される。
【００８０】
ここで、図８（ａ）において、矢印Ａ、矢印Ｂ、及び矢印Ｃが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０についてそれぞれ説明する。図９（ａ）は、上記意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体３０の表面を示す平面図であり、図９（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）は、図９（ａ）のａ−ａ’側断面図であり、図９（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）は、図９（ａ）のｂ−ｂ’側断面図である。なお、これら図９（ｂ）〜（ｇ）において、５ａ中に示す直線又は曲線は、塗膜５ａ中の顔料の配向状態を模式的に示すものとする。
【００８１】
図９（ａ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０は、媒体表面の中央部分において、上記磁性部材４の使用により、１１本の平行直線であるパターン３２が形成されている（パターン３２部分以外の周辺部分を５ａｃとする）。このパターン３２は、１１本の直線部分５ａｐと、各直線部分の間である５ａｂとからなる。
【００８２】
矢印Ａが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｂ）及び（ｃ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｂ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂや磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、水平な磁力線に沿うように顔料の配向が均一な水平状態になっている。一方、図９（ｂ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。また、図９（ｃ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は均一な水平状態になっている。
【００８３】
この意匠性媒体３０では、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ異なる色調が得られるが、この意匠性媒体３０を傾けても、色調変化は得られない。
【００８４】
矢印Ｂが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｄ）及び（ｅ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｅ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は、曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態（全体として「上に凸」の状態）になっている。また、図９（ｄ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、顔料の配向は、図９（ｅ）と同様に曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態になっているが、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂでは、顔料の配向は、図９（ｅ）の状態を逆さまにした状態（全体として「下に凸」の状態）になっている。なお、図９（ｄ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。
【００８５】
この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ連続的な色調変化が得られる。すなわち、図１０（ａ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、パターン３２以外周辺面では、傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（手前側）に向かってパターン３２の面上を移動する。また、図１０（ｂ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、パターン３２以外の周辺面では、傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（奥側）に向かってパターン３２の面上を移動する。
【００８６】
矢印Ｃが指す位置で磁場印加されて形成された意匠性媒体３０の顔料配向状態について説明する。この意匠性媒体３０を、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の位置でそれぞれ裁断して観察すると、図９（ｆ）及び（ｇ）にそれぞれ示す側断面となっている。図９（ｇ）において、塗膜５ａ中の顔料の配向は、曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態（全体として「下に凸」の状態）になっている。また、図９（ｆ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４に接触していない部分（空気：反磁性体）に対応する領域５ａｃでは、顔料の配向は、図９（ｇ）と同様に曲線状の磁力線に沿うように傾いた状態になっているが、磁性部材４の非強磁性体領域４ｂに対応する領域５ａｂでは、顔料の配向は、図９（ｇ）の状態を逆さまにした状態（全体として「上に凸」の状態）になっている。なお、図９（ｆ）において、塗膜５ａのうち、磁性部材４の強磁性体領域５ａｐに対応する領域では、強磁性体領域４ａからの影響により、顔料の配向は垂直状態になっている。
【００８７】
この意匠性媒体３０を傾けて観察すると、パターン３２（５ａｐ及び５ａｂ）と、パターン３２以外の周辺部分（５ａｃ）とにおいて、それぞれ連続的な色調変化が得られる。すなわち、図１０（ｃ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の手前側を傾けていくと、パターン３２以外周辺面では、傾きに合わせて、手前側に現われる帯状の光沢３３が奥側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（手前側）に向かってパターン３２の面上を移動する。また、図１０（ｄ）に示すように、水平状態の意匠性媒体３０の奥側を傾けていくと、パターン３２以外の周辺面では、傾きに合わせて、奥側に現われる帯状の光沢３３が手前側に向かって意匠性媒体３０の表面上を移動し、また、パターン３２の面では、帯状の光沢３１が、傾けた方向とは反対の方向（奥側）に向かってパターン３２の面上を移動する。
【００８８】
なお、上記本実施形態では、媒体に形成されるパターン（＝磁性部材４のパターン）として１１本の平行線（図８（ａ）及び（ｂ）に示す磁性部材４の強磁性領域４ａ）を用いた場合に生じる磁界の影響を受けて配向した意匠性媒体を説明したが、パターンはこれに限定されるものではなく、曲線、円形、楕円形、長円形、多角形、文字、符号、これらの組み合わせたもののいずれの形状であってもよい。これらのパターン毎に、磁場印加の際に発生する磁界は変化し、顔料の配向の仕方も変化する。よって、様々なパターンを使い分けることにより、所望の顔料配向を実現できる。また、顔料についても本実施形態に限定されるものではなく、配向の変化に応じて透過率が変化する顔料であれば他の種類の顔料を用いてもよい。
【００８９】
以下、上述した第３の実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例６、７について説明する。なお、以下の実施例６、７で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例６】
【００９０】
本実施例で用いる塗料の構成（配合）を以下に示す。この塗料を用いて媒体を形成し評価した。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
上記構成の塗料１をＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま塗工面と反対面とにＦｅとＡｌとで作製したパターンを密着させた状態で、強磁場（１Ｔ）環境下のうち磁力線が曲線となっている場所（例えば、図８（ａ）の矢印Ｂが指す位置）に５分間さらし、その後ＵＶ照射を行い、塗膜の固定化を行った。
【００９１】
そして、形成された意匠性媒体を傾けて観察を行ったところ、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示すように、パターン面とそれ以外の周辺面において、それぞれ帯状の光沢が移動するといった、連続的な色調変化が認められた。また、この意匠性媒体において、図９（ａ）に示すａ−ａ’及びｂ−ｂ’の断面をそれぞれ観察したところ、ａ−ａ’の断面は、図９（ｄ）に示すように、顔料が傾いた配向となっており、ｂ−ｂ’の断面は、図９（ｅ）に示すように、顔料が傾いた配向となっていることが認められた。
【００９２】
このように、本実施例によれば、１種１層の塗膜中で２種類の色調変化を行うことが可能となった。また、１種類の顔料を分散した塗料を用いて、多層コーティングすることなく、従来にない、特異な色調変化を有する意匠性媒体を実現することが可能である。
【実施例７】
【００９３】
本実施例で用いる各塗料の構成（配合）を以下に示す。これらの塗料を用いて媒体を形成し評価した。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ａ SECURE SHIFT（Flex Products） １重量部
顔料Ｂ Iriodin １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ａ SECURE SHIFT（Flex Products） １重量部
〈塗料３〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料Ｂ 磁性パール顔料（Merck） １重量部
上記構成の塗料１〜３をそれぞれ、ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま塗工面と反対面とにＦｅとＡｌとで作製したパターンを密着させた状態で強磁場（１Ｔ）環境下に５分間さらし、その後ＵＶ照射を行い、塗膜を固定化しパターン形成を行った。その結果を表４に示す。
【表４】
【００９４】
このように、本実施例によれば、強磁場環境にて配向が変化する顔料と配向が変化しない顔料とを混合した塗料を用いて、磁場印加を行った結果、通常では配向が変化しない顔料も配向を変化させることができる。また、異方性磁化率の異なる２種類の顔料を分散した塗料を用いて、強磁場環境下で特異なパターンを形成することが可能である。
【００９５】
なお、本実施形態及び本実施例では光輝性顔料を用いた場合で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、配向の変化に応じて透過率が変化する顔料であれば他の種類の顔料を用いてもよい。
【００９６】
〔第４の実施形態〕
本発明の第４の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
本実施形態は、基材上に塗工層を形成した後、この塗工層の所定部分毎に、顔料を所定方向に配向させる点は上記第３の実施形態と同様であるが、本実施形態では、顔料配向を行う際に、塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする。
【００９７】
まず、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概要について図を参照して説明する。図１２〜図１５は、本実施形態の意匠性媒体方法を実行し、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概略を示す図である。図１６は、この装置に備えられる着磁ヨーク（図１に示すものと同じ）の動作を示す図である。図１７は、本実施形態の意匠性媒体の顔料の配向状態を模式的に示す側断面図である。なお、本実施形態では、基材５ｂとしてＰＥＴフィルムを用いるものとする（塗膜５ａを形成するための塗料は上記各実施形態と同じものを用いる）。
【００９８】
図１２〜図１５に示すように、本装置は、予め巻き付けられた基材を送り出すロール部６ａ、基材に塗料を塗工して塗膜５ａ（塗工層）を形成する塗工部７、塗膜５ａに磁場をかけ、塗膜５ａ中の顔料を配向させる着磁ヨーク１，２、塗膜に紫外線を照射し、硬化させるＵＶ照射部（紫外線照射部）８、塗膜硬化により形成された意匠性媒体を巻き取るロール部６ｂ、を備える。本装置において、ロール部６ａから送り出された基材５ｂは、塗工部７により塗膜５ａが塗工され、着磁ヨーク１，２により塗膜の顔料が配向され、ＵＶ照射部８により塗膜が硬化され、意匠性媒体となってロール部６ｂに収納される。なお、本装置では、着磁ヨーク１，２により磁場をかけて顔料を配向した後に、ＵＶ照射部８により紫外線照射を行うように構成しているが、着磁ヨーク１，２により磁場をかけたまま紫外線照射を行えるように、ＵＶ照射部８を配置するようにしてもよい。
【００９９】
ここで、本装置の着磁ヨーク１，２の動作について図１６を参照して説明する。本装置の着磁ヨーク１，２は、上述した第１の実施形態で説明した、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すものと同じである。
【０１００】
図１６に示すように、ＸＹ平面、ＹＺ平面、ＸＺ平面からなる３次元空間の所定の位置に仮想軸が存在するものとする。着磁ヨーク１と、着磁ヨーク２とは、例えば、ＸＹ平面に直交する軸Ａに線対称の位置に配置され、この軸Ａの周りを、時計回り又は反時計回りに３６０°回転可能である。同様に、その他の軸Ｂ、軸Ｃ、軸Ｄの場合も、着磁ヨーク１，２は、各軸に線対称の位置に移動し、その軸の周りを時計回り又は反時計回りに３６０°回転する。なお、仮想軸は、図１６に示すものに限定されない。
【０１０１】
上記装置を使用した本実施形態の意匠性媒体形成方法について、図１２〜図１５及び図１９を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、例として、塗膜５ａにおける４つの部分毎に、連続してそれぞれ異なる磁場を印加するものとする。
【０１０２】
図１２において、ロール部６ａには、基材（ＰＥＴフィルム）５ｂが予め巻き付けられており、本装置が作動し始めると、ロール部６ａは、図示しない駆動手段により駆動され、予め巻き付けられている基材５ｂを図中の矢印方向に送り出す。本装置において、基材５ｂは、所定の速度で図中の矢印方向に移動する。
【０１０３】
次に、図１２において、塗工部７は、ロール部６ａから送り出された基材５ｂの片面に対して、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する光輝性顔料を無溶媒系の樹脂に分散させた塗料を塗工する。これにより、塗膜５ａが形成され、媒体５となる（図１９のステップＳ２１）。この時の塗膜５ａ中の顔料は、図２（ａ）に示す略水平状態となっている。なお、ここでの説明では、顔料の異方性磁化率は、正（＋）の値とする。
【０１０４】
次に、図１２において、着磁ヨーク１，２は、磁力線３を発生させて磁場を形成する。この時、着磁ヨーク１，２は、図１（ｃ）に示す垂直磁場を形成するものとする。図１２（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｂ）に示すように、基材５ｂに対して垂直方向に配向される（図１９のステップＳ２２）。
【０１０５】
次に、着磁ヨーク１，２により顔料が配向された媒体５は、図１３に示すように、磁場を出て図中の矢印方向に移動する。図１３（ａ）は、媒体５において、顔料が垂直に配向された塗膜（以下、塗膜１０という）を示す。また、この時、媒体５において、塗膜１０に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１２に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図１３に示すように、図１（ｂ）に示す水平磁場を形成する配置となる。図１３（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｂ）に示す磁力線３ｇの直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｃ）に示すように、基材５ｂに対して均一な水平方向に配向される（図１９のステップＳ２３）。
【０１０６】
次に、媒体５において、図１４（ｂ）に示すように、顔料が水平に配向された塗膜（以下、塗膜１１という）が磁場を出て移動すると、塗膜１１に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１３に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図１４に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図１７（ａ）に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた斜め方向に配向される（図１９のステップＳ２４）。また、この時、先に顔料配向された塗膜１０は、図１４に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜１０に対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜１０が硬化する（図１９のステップＳ２４）。
【０１０７】
次に、媒体５において、図１５（ｃ）に示すように、顔料がロール部６ｂ方向に傾いて斜めに配向された塗膜（以下、塗膜１２という）が磁場を出て移動すると、塗膜１２に続く塗膜が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図１４に示す配置から回転し、図１５に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図１７（ｂ）に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた斜め方向に配向される（図１９のステップＳ２５）。また、この時、先に顔料配向された塗膜１１は、図１５に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜１１に対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜１１が硬化する（図１９のステップＳ２５）。
【０１０８】
以降、図示はしていないが、上記同様にして、図１５（ｃ）に示す塗膜１２、及び、顔料がロール部６ａ方向に傾いて斜めに配向された塗膜（以下、塗膜１３という）も、ＵＶ照射部８により紫外線照射され、硬化される（図１９のステップＳ２６，Ｓ２７）。
【０１０９】
紫外線照射の後、媒体５は、ロール部６ｂに巻き取られ、収納される。
以上が、本実施形態の意匠性媒体形成方法である。
【０１１０】
次に、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法によって形成された意匠性媒体について説明する。図１８は、本実施形態の意匠性媒体の一例を示す図であり、（ａ）は、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、（ａ）に示す意匠性媒体のデザインの一例を示す上面図である。
【０１１１】
図１８（ａ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０は、左から、顔料が垂直方向に配向された塗膜１０（図２（ｂ）参照），顔料が水平方向に配向された塗膜１１（図２（ｃ）参照），顔料が左上から右下への斜め方向に配向された塗膜１２（図１７（ａ）参照），顔料が右上から左下への斜め方向に配向された塗膜１３（図１７（ｂ）参照）の順に、隣り合うように形成されている。この意匠性媒体３０の表面に、図２（ａ）に示すように入射光Ｌを当てると、部分１０から１３のそれぞれの部分毎に異なる色調を得ることができる。すなわち、塗膜１０では、通常得られる色調とは大きく異なる色調となり、塗膜１１では、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より鮮やかな色調となる。また、塗膜１２及び塗膜１３では、意匠性媒体の表面からの入射光だけでなく媒体の横からの入射光も反射することができるので（図１７（ａ）及び（ｂ）参照）、意匠性媒体の表面において、媒体の側面からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【０１１２】
意匠性媒体の一例として、図１８（ｂ）に示すように、意匠性媒体の表面において、背景塗膜１５と、文字塗膜１６，１７，１８，１９とを形成する場合、例えば、所定の塗料を基材５ｂに塗工して背景塗膜１５を設けた後、顔料を配向せずに、紫外線照射で塗膜を硬化して下準備をした後、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、先に背景塗膜１５を形成した基材に対して、本実施形態で使用した塗料を、「Ａ」，「Ｂ」，「Ｃ」，「Ｄ」の文字パターンで塗工して文字塗膜１６〜１９を設け、これら文字塗膜１６〜１９毎に、図１８（ａ）の１０〜１３のようにそれぞれの塗膜において顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜１６〜１９を硬化する。これにより、背景塗膜１５と、文字塗膜１６〜１９とで異なる色調を得ることができ、さらに、文字塗膜１６〜１９においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１１３】
意匠性媒体の一例として、図１８（ｃ）に示すように、意匠性媒体の表面において、黒色の正方形塗膜２０，２１，２２，２３と、白色の正方形塗膜２４，２５，２６，２７とで格子模様を形成する場合、例えば、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、本実施形態で使用した塗料を、格子柄パターンで基材に塗工して黒の正方形塗膜２０〜２３を設けた後、黒の正方形塗膜２０〜２３毎に、図１８（ａ）の１０〜１３のようにそれぞれの塗膜において顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。その後、再び本実施形態の意匠性媒体形成方法により、先に黒の正方形塗膜２０〜２３を設けた基材に対して、本実施形態で使用した塗料を、格子柄パターンで塗工して白の正方形塗膜２４〜２７を設け、白の正方形塗膜２４〜２７毎に、図１８（ａ）の１３〜１０のようにそれぞれの塗膜において（黒の正方形部分の配向とは逆の順で）顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。これにより、黒の正方形塗膜２０，２１，２２，２３は、図１８（ａ）の１０，１１，１２，１３にそれぞれ対応した顔料配向となり、また、白の正方形塗膜２４，２５，２６，２７は、図１８（ａ）の１３，１２，１１，１０にそれぞれ対応した顔料配向となる。よって、格子模様の部分毎に異なる色調を得ることができ、さらに、同じ色の塗膜（黒の正方形塗膜２０〜２３や白の正方形塗膜２４〜２７）においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１１４】
なお、上記説明では、媒体５における顔料の配向順や配向方向を、塗膜１０，１１，１２，１３としたが、これに限定されるものではない。
【０１１５】
また、上記説明では、顔料配向の際に、磁力線の直線状（又はほぼ直線状）の部分で磁場印加を行うようにしたが、上記で図３（ａ）や図４（ａ）を用いて説明したように、磁力線の曲線状の部分で磁場印加を行ってもよい。これにより、着磁ヨークを所定の角度に傾けて、さらに、磁力線の曲線状部分にて磁場印加することができるので、より細かく、より自在に顔料の配向を行うことができる。
【０１１６】
また、上記説明では、顔料配向の際に、着磁ヨークを回転させるようにしたが、着磁ヨークを固定して、塗膜を設けた媒体自体を回転・移動するようにしてもよい。
【０１１７】
〔第５の実施形態〕
本発明の第５の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第１〜第４の実施形態では、基材に塗料を塗工して単一の塗工層を設けるものとしたが、本実施形態では、単一の基材上に、複数の塗工層を所定のパターン形状に形成することを特徴とする。すなわち、色調がそれぞれ異なる複数のパターンの塗工層を基材の同一面上に形成する（本実施形態は、第４の実施形態において図１８（ｂ）及び（ｃ）を用いて説明した例の変形例である）。よって、本実施形態によれば、複数の塗工層毎に異なる色調変化が得られるので、一の媒体において複数の色調を実現することができる。
【０１１８】
本実施形態の意匠性媒体形成方法として、図２１と図２２とに示す２つの例について以下にそれぞれ説明する。
【０１１９】
まず１つ目は、図２１に示すように、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第１の塗工層を形成する第１の塗工層形成ステップと（ステップＳ３１）、基材に第１の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第１の塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ３２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、第１の塗工層を硬化させる第１の塗工層硬化ステップと（ステップＳ３３）、を行った後、同じ基材において、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第２の塗工層を形成する第２の塗工層形成ステップと（ステップＳ３４）、基材に第２の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第２の塗工層中の顔料を配向させる第２の顔料配向ステップと（ステップＳ３５）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、第２の塗工層を硬化させる第２の塗工層硬化ステップと（ステップＳ３６）、を行うことを特徴とする。
【０１２０】
次に２つ目は、図２２に示すように、意匠性を有する媒体（意匠性媒体）を形成する方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第１の塗工層を形成する第１の塗工層形成ステップと（ステップＳ４１）、同じ基材において、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を所定のパターンに基材に塗工して第２の塗工層を形成する第２の塗工層形成ステップと（ステップＳ４２）と、第１の塗工層及び第２の塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、第１の塗工層及び第２の塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ４３）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて両塗工層中の顔料を配向させた後に、第１の塗工層及び第２の塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ４４）、を行うことを特徴とする。
【０１２１】
上記２つの例において、第１及び第２の塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されてもよい。
【０１２２】
また、上記において、第１及び第２の塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されるようにしてもよいし、あるいは、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料でそれぞれが形成されるようにしてもよい。
【０１２３】
なお、本実施形態において、塗工層形成ステップで形成される媒体の構成（基材、塗料、顔料）や、顔料配向ステップの磁場印加の方法及び磁場印加を行う装置、塗工層硬化ステップの紫外線照射の方法及び紫外線照射を行う装置などについては、上記第１〜第４の実施形態で説明したものを適用するものとし、ここでの説明は省略する。
【０１２４】
以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例８〜１６について説明する。なお、以下の実施例８〜１６で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例８】
【０１２５】
本実施例で使用する塗料の構成（配合）を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１２６】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１２７】
このようにして形成した本実施例の意匠性媒体は、縦磁場を与えた第１の塗工層６０は小豆色になり、横磁場を与えた第２の塗工層７０は小豆から青色になった。
【実施例９】
【０１２８】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） ３重量部
【０１２９】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。
【０１３０】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成した。
【０１３１】
そして、第１の塗工層６０と及び第２の塗工層７０の両方に対して、同時に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、ＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。つまり、本実施例では、第１の塗工層６０の形成後には磁場を与えず、第２の塗工層７０の形成後に、両塗工層６０，７０に同時に磁場を与える。
【０１３２】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、塗料１で形成した第１の塗工層６０と、塗料２で形成した第２の塗工層７０とでは同じ小豆色でも濃淡に違いがあった。
【実施例１０】
【０１３３】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） ３重量部
【０１３４】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３５】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３６】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、実施例８よりも各ストライプパターン（第１の塗工層６０及び第２の塗工層７０）の色調が鮮明になった。
【実施例１１】
【０１３７】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１３８】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１３９】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は斜めの磁場（第４の実施形態における図１５及び図１６参照）を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４０】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、垂直方向から見た場合は実施例８よりもストライプパターンの境界（第１の塗工層６０と第２の塗工層７０との境界）がはっきり見えないが、斜めから見ると実施例８と同じように見えるようになる。
【実施例１２】
【０１４１】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１４２】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４３】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は曲線の磁場（第１の実施形態における図３及び図４参照）を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４４】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、垂直方向から見た場合は実施例８よりもストライプパターンの境界（第１の塗工層６０と第２の塗工層７０との境界）がはっきり見えないが、曲線磁場を与えた第２の塗工層７０は、媒体を動かすと小豆色の中に青色部分が動いて見えた（正反射の位置になる部分だけが青色に見える）。
【実施例１３】
【０１４５】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１４６】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４７】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１４８】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、小豆色（第１の塗工層６０）と褐色（第２の塗工層７０）のストライプパターンになった。各塗工層中に分散しているパール顔料を電子顕微鏡で観察すると、磁場の方向を変えているにもかかわらず、どちらの顔料も縦方向に配向していた。
【実施例１４】
【０１４９】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１５０】
まず、図２０（ａ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。
【０１５１】
次に、図２０（ｂ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、先に形成した第１の塗工層６０の間にある未印刷部分６１に、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成した。
【０１５２】
そして、第１の塗工層６０と及び第２の塗工層７０の両方に対して、同時に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、ＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。つまり、本実施例では、第１の塗工層６０の形成後には磁場を与えず、第２の塗工層７０の形成後に、両塗工層６０，７０に同時に磁場を与える。
【０１５３】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、小豆色（第１の塗工層６０）と金属光沢（第２の塗工層７０）とを有する赤色のストライプになった。各塗工層中に分散しているパール顔料を電子顕微鏡で観察すると、同じ磁場で配向させたにもかかわらず、顔料によって配向の方向が異なっていた。
【実施例１５】
【０１５４】
本実施例で使用する塗料１の構成を以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１５５】
まず、図２０（ｃ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に横磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１５６】
次に、図２０（ｄ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、上記塗料１と上記ストライプパターンの版を使って、先に形成された第１の塗工層６０に直交するように５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１５７】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、横磁場を与えた第１の塗工層６０は小豆から青色になり、縦磁場を与えた第２の塗工層７０は小豆色になった。塗工層が重なった部分８０の色は、上に位置する第２の塗工層中の顔料が縦に配向しているので、下に位置する第１の塗工層の色である青みも見ることができた。
【実施例１６】
【０１５８】
本実施例で使用する塗料１及び塗料２の構成をそれぞれ以下に示す。
〈塗料１〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
〈塗料２〉
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） １０重量部
顔料 Infinite R-08（資生堂） １重量部
【０１５９】
まず、図２０（ｃ）に示すように、基材であるＰＥＴシート５ｂ上に、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの版を用いて、上記構成の塗料１をシルク印刷で塗工し、５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第１の塗工層６０を形成した。この第１の塗工層６０に縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第１の塗工層６０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１６０】
次に、図２０（ｄ）に示すように、ＰＥＴシート５ｂ上において、上記構成の塗料２と上記ストライプパターンの版を使って、先に形成された第１の塗工層６０に直交するように５ｍｍのライン・アンド・スペースのストライプパターンの第２の塗工層７０を形成し、この第２の塗工層７０に対して、今度は縦磁場を与えてパール顔料の配向を行い、その後、第２の塗工層７０にＵＶ照射を行って顔料の配向を固定化した。
【０１６１】
このように形成した本実施例の意匠性媒体は、第１の塗工層６０は金属光沢の赤色となり、第２の塗工層７０は小豆色となった。塗工層が重なった部分８０の色は、上に位置する第２の塗工層中の顔料が縦に配向しているので、下に位置する第１の塗工層の色である赤色も見ることができた。
【０１６２】
以上説明したように、本発明の実施例８〜１６によれば、第１の塗工層と第２の塗工層とにおいて、それぞれ異なる色調変化を実現することができた。
【０１６３】
なお、上記実施例８〜１６では、パターンをストライプパターンとしたが、これに限定されるもものではなく、例えば、第４の実施形態における図１８（ｂ）及び（ｃ）のような文字や模様などでもよい。
【０１６４】
また、上記実施例８〜１６では、媒体において、形成するパターンを２つ（第１の塗工層及び第２の塗工層）としたが、３つ以上の塗工層を形成するようにしてもよい。例えば、３つの塗工層を形成する場合は、図２０（ｅ）に示すように、図２０（ｂ）に示す媒体５において、さらに第３の塗工層９０（「Ｎ」の文字）を所定の塗料を用いて形成し、第３の塗工層９０の顔料を配向する。これにより、形成した３つの塗工層において、それぞれ異なる色調を得ることができる。
【０１６５】
〔第６の実施形態〕
本発明の第６の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
従来、顔料が動きやすくなるように紫外線硬化樹脂として低い粘度（５００ｍＰａ・ｓ以下）のものが使用されていたため（例えば、特開平７−２６５７８６号公報参照）、磁場から媒体を外すと紫外線を照射する前に顔料が動いてしまうので、製造ラインによって意匠性媒体を形成することが困難であった。
【０１６６】
強磁場環境下では磁気異方性を有する材料であれば、常磁性体や反磁性体でも配向が可能となる。さらに配向させやすい条件の一つとして、塗料の粘度が挙げられる。５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であれば、配向が容易となるが、磁場環境から媒体を外すと配向状態が崩れてしまう（配向状態を保持できない）。これとは逆に、塗料を高粘度にしてしまうと配向そのものが困難になってしまう（時間がかかる）。この点を解消するため、５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗料にガラスビーズ等の微粒子を添加することによって、強磁場環境下から媒体を外してもある一定時間は元の状態を保持することが可能となり、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１６７】
よって、本実施形態では、上記第１〜第５の実施形態で用いる塗料に微粒子を含有させ、この塗料を塗工して塗工層を形成し、塗工層に磁場を印加して顔料を配向させ、塗工層を硬化させることを特徴とする。
【０１６８】
従って、本実施形態によれば、磁場によりほぼ垂直方向に配向した顔料が微粒子の隙間に入り込み、媒体を磁場から外してもある一定時間はそのままの状態が保持される。この一定時間内に磁場外で塗料を固化させるための工程を導入することができるので、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１６９】
第６の実施形態の意匠性媒体の形成方法は上記第１の実施形態と同様である。すなわち、図６に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１）、基材に塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、塗工層形成ステップＳ１で塗工層を形成する塗料の中に微粒子を添加したものを用いる点が第１の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【０１７０】
本実施形態では、上記第１の実施形態と同様に、まず、塗工層形成ステップＳ１において、基材（例えば、樹脂、紙、セラミック等の非磁性体）５ｂの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜（塗工層）５ａを形成し、媒体５を形成する（図１（ａ）参照）。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下のものとしては、常磁性体や反磁性体がある。また、この塗料の中に、所定方向に配向した顔料を所定時間維持するために、微粒子としてのガラスビーズ（直径１０μｍ）を添加したものを用いる。
【０１７１】
塗膜５ａが形成された媒体５の側断面図を図２３に示す。図２３に示すように、塗膜５ａ内には、ガラスビーズ９が添加されている。また、図２３において、顔料（顔料成分）１４は、磁場印加前なので、略水平状態となっている。
【０１７２】
本実施形態ではガラスビーズの比重は顔料の比重より大きい場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ガラスビーズの比重が顔料の比重より小さくても等しくてもよい。また、塗膜５ａの粘度は５００ｍＰａ・ｓ以下である。また、顔料としては、磁場の影響により配向するものであれば特に限定されない。
【０１７３】
次に、顔料配向ステップＳ２について以下に詳細を説明する。ここでの説明では、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合とし、また、図２３に示す媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加する場合とする。
【０１７４】
図１（ｃ）に示すように、磁場（０．３Ｔ以上）を発生させるための電磁石の着磁ヨーク１，２間に、基板５ｂが下向きになるように水平に媒体５を配置する。塗膜５ａの粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下であり、ガラスビーズ９の比重が顔料の比重より大きい場合、塗膜５ａ形成後、時間の経過と共に、図２４（ａ）に示すように、ガラスビーズ９の上に顔料１４が折り重なるように沈む。
【０１７５】
電磁石に通電することにより着磁ヨーク１，２間に磁力線が形成されると、着磁ヨーク１，２間には多数の磁力線３ａ〜３ｍが発生する（図１（ｃ）参照）。そして、図２４（ｂ）に示すように、これらの磁力線群うち４本の磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが媒体５を交差するように（図の縦方向に）透過すると、各顔料１４が磁力線の方向（図中の各矢印方向）に配向する。
【０１７６】
塗工層５ａの粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、各顔料１４が動きやすい状態となり、磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈの方向に沿って各顔料１４がそれぞれ即座に水平方向（横配向）から垂直方向に一斉に配向（縦配向）する。そして、図２４（ｃ）に示すように、各顔料１４は垂直方向に配向することにより、ガラスビーズ９の隙間に突き刺さるような状態となる。
【０１７７】
電磁石への通電を停止すると、着磁ヨーク１，２間の磁力線３ａ〜３ｍが消滅する。磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが消滅すると、各顔料１４は、重力の影響により不安定な垂直方向の配向から安定な水平方向の配向に戻ろうとする。しかし、上述したように、垂直方向に配向した各顔料１４はガラスビーズ９間に挟まれているので、本実施形態では、これら各顔料１４は、各ガラスビーズ９の間に挟まれて状態で、ある一定時間（例えば、約０．１〜３０秒）保持されることになる。
【０１７８】
このため、磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈによって配向した媒体５を磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、８ｈから外しても、ある一定時間だけ状態が保存されるので、塗工層硬化ステップＳ３として、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、本実施形態によれば、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１７９】
上記説明では、塗工層中のガラスビーズが基材上に沈降した状態の時に磁場印加を行って顔料を配向させたが、他の例として、ガラスビーズの比重が顔料の比重よりも大きい場合は、媒体に磁場を印加しながら顔料及びガラスビーズを沈降させるようにしてもよい。これについて以下に説明する。
【０１８０】
図１（ｃ）に示すように、基板５ｂが着磁ヨーク１，２間に配置された媒体５に磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが交差するように（図の縦方向）磁場（０．３Ｔ以上）を印加すると、図２５（ａ）に示すように、各顔料１４は磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈ（図１（ｃ）参照）に沿って、縦方向に配向する。
【０１８１】
微粒子であるガラスビーズ９の比重が顔料１４の比重より大きく、かつ、塗膜５ａが５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、図２５（ｂ）に示すように、ガラスビーズ９が顔料１４より先に基板５ｂに向かって沈降する。
【０１８２】
ガラスビーズ９が基板５ｂ上に到達した後、顔料１４も到達するが、顔料１４は垂直方向に配向しているので、図２５（ｃ）に示すように、ガラスビーズ９の間の隙間に差し込むように沈降する。この状態で磁場を媒体５から外す（もしくは媒体５を磁場から外す）か、又は、電磁石の電源を切っても、顔料１４はガラスビーズ９の間の隙間に差し込まれているので、顔料１４がガラスビーズ９により支えられていることにより顔料１４の配向が維持される。このため、ある一定時間（約０．１秒〜３０秒）だけ状態が保存されるので、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１８３】
次に、ガラスビーズの比重が顔料の比重よりも小さい場合について説明する。
図１（ｃ）に示すように、基板５ｂが着磁ヨーク１，２間に配置された媒体５に磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈが交差するように（図の縦方向）磁場（０．３Ｔ以上）を印加すると、図２６（ａ）に示すように、各顔料１４は磁力線３ｅ、３ｆ、３ｇ、３ｈ（図１（ｃ）参照）に沿って、縦方向に配向する。
【０１８４】
顔料１４の比重がガラスビーズ９の比重より大きく、かつ、塗膜５ａが５００ｍＰａ・ｓ以下の低粘度であるため、図２６（ｂ）に示すように、顔料１４がガラスビーズ９より先に基板５ｂに向かって沈降する。
【０１８５】
顔料１４が基板５ｂ上に到達した後、ガラスビーズ９も到達するが、顔料１４は垂直方向に配向しているので、図２６（ｃ）に示すように、ガラスビーズ９は顔料１４の間の隙間に差し込むように沈降する。この状態で磁場を媒体５から外す（もしくは媒体５を磁場から外す）か、又は、電磁石の電源を切っても、顔料１４はガラスビーズ９の間の隙間に差し込まれているので、顔料１４がガラスビーズ９により支えられていることで顔料１４の配向が維持されている。このため、ある一定時間（約０．１秒〜３０秒）だけ状態が保存されるので、塗膜５ａに紫外線を照射して硬化させる工程を設けることができる。従って、製造ラインによる媒体形成が容易となる。
【０１８６】
以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の具体例として、実施例１７，１８について説明する。なお、以下の実施例１７，１８で用いる各顔料については、表２で示したものである。
【実施例１７】
【０１８７】
ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま強磁場（例えば５Ｔ）環境下に５分間さらし、図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加し、顔料を縦配向させた。
その後、着磁ヨーク１，２間でＵＶ照射を行い固定化させたもの ……Ａ
着磁ヨーク１，２間から取り出し、１分間放置し固定させたもの ……Ｂ
ワイヤーバー塗工した後、すぐに固定化（ブランク） ……Ｃ
上記、Ａ、Ｂ、Ｃにおける顔料の配向状態を観察した。
【０１８８】
以下に示した材料を用いて媒体５を形成し評価した。
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） ５重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
微粒子 ガラスビーズＥＭＢ−５（Potters-Ballotini） １重量部
【実施例１８】
【０１８９】
ＰＥＴシート上にワイヤーバー＃３４で塗工し、ぬれた状態のまま強磁場（例えば５Ｔ）環境下に５分間さらし、図１（ｂ）に示す水平磁場で磁場印加し、顔料を縦配向させた。
その後、着磁ヨーク１，２間でＵＶ照射を行い固定化させたもの ……Ａ
着磁ヨーク１，２間から取り出し、１分間放置し固定させたもの ……Ｂ
ワイヤーバー塗工した後、すぐに固定化（ブランク） ……Ｃ
上記、Ａ、Ｂ、Ｃにおける顔料の配向状態を観察した。
【０１９０】
以下に示した材料を用いて媒体５を形成し評価した。
ＵＶ樹脂 ＵＶフレキソニス（ＴＯＫＡ） ５重量部
顔料 Iriodin524（Merck） １重量部
【０１９１】
実施例１７、１８についての結果を表５に示す。
【表５】
褐色…顔料が縦配向している状態（強磁場によって顔料が強制的に配向している状態）
金属光沢（赤）…顔料が横配向している状態（強磁場の影響が無く、重力の影響で通常なり得る配向状態）
【０１９２】
以上説明したように、本実施形態によれば、低粘度塗料に微粒子を添加することによって、磁場によりほぼ垂直方向に配向した顔料が微粒子の隙間に入り込み、磁場環境下で配向させた状態を環境外に出した場合でも、ある一定時間保持し続けることが可能となる。この一定時間内に磁場外で塗料を固化させるための工程を導入することができるので、製造ラインによる媒体の形成が容易となる。
【０１９３】
〔第７の実施形態〕
本発明の第７の実施形態として、意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体について説明する。
上記第３の実施形態において、強磁性体を用いた磁場印加によりパターンが形成される理由は、磁力線が強磁性体領域に引き込まれる現象が起こるためである。これについて、図２７を参照して説明する。例えば、アルファベットの「Ｌ」文字型のパターンの強磁性体領域を有する磁性部材を媒体に隣接させ、図８（ａ）に示す水平磁場のＡの位置に媒体を配置し、図２７（ａ）の上面図に示すように、直線状の磁力線ｇをＬ字の縦長の線部分に直交させることにより、Ｌ字型の強磁性体領域４ａの顔料を配向させる。ここで、直線状の磁力線ｇは、図２７（ｂ）に示すように、強磁性体領域４ａに引き込まれる現象が起こる。この現象は、磁力線が強磁性体領域に対して直交している部分で強く現われる一方で、磁力線が強磁性体領域に対して水平となる部分では磁力線の歪みが少なく、現われない。この現象により、塗工層５ａ上に形成されるＬ字型のパターン３４は、図２７（ｃ）に示すように、磁力線ｇと直交した部分３４ａ（及び３４ｂの両端の部分）はコントラストが強く出る一方で、磁力線ｇと水平に重なった部分３４ｂはコントラストが弱く出る。よって、図２７（ｃ）に示す意匠性媒体３０において、Ｌ字型のパターン３４は、完全な形で形成されない。
【０１９４】
以上の説明から、所定のパターンを有する強磁性体を媒体に隣接させた状態で磁場をかけて顔料を配向させる場合、強磁性体のパターンの形状によっては、コントラストの強い部分と弱い部分とが現われ、視認性が低くなってしまうという問題がある。特に、パール顔料は色調が淡いものが多いため、コントラストが均一化されないと、パターンを正確に認識できない。本実施形態の意匠性媒体形成方法は、このような課題を解決する。
【０１９５】
本実施形態の意匠性媒体形成方法は、上記第３の実施形態と同様である。すなわち、図１１に示すように、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと（ステップＳ１１）、基材に塗工層を形成した媒体に、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された所定のパターンを有するパターン部材（磁性部材）を隣接させた状態で０．３テスラ以上の磁場の中に置き、塗工層中の顔料を配向させる顔料配向ステップと（ステップＳ１２）、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと（ステップＳ１３）、を行うことを特徴とする。本実施形態では、顔料配向ステップＳ２における磁場のかけ方が第３の実施形態と異なる。以下、本実施形態の意匠性媒体形成方法の詳細について説明する。
【０１９６】
まず、本実施形態の意匠性媒体形成方法においても、基材に塗料を塗工して塗工層を形成した媒体を形成するが、図１１に示す塗工層形成ステップＳ１１は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態の塗工層形成ステップＳ１と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１９７】
次に、図１１の顔料配向ステップＳ１２について以下に詳細を説明する。なお、図８において、上記第１の実施形態の図１や図４（ａ）と同じ部分には同一符号を付すものとし、それらの説明は省略する。また、以下の説明は、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料を基材５ｂに塗工して塗膜５ａを設け、媒体５（図１（ａ）参照）を形成した後（図１１の塗工層形成ステップＳ１１の後）、この媒体５を水平磁場で磁磁場印加した場合を例とする。また、磁場印加の際に媒体５に隣接させる磁性部材４は、少なくとも一方の面（図の上面）に強磁性体領域４ａがＬ字型のパターン形状（図２７（ａ）参照）に形成されたものである。
【０１９８】
顔料配向ステップＳ１２では、図８（ａ）に示すように、磁力線３ａ〜３ｍのうち直線状の磁力線３ｇの位置（図中の矢印Ａが指す位置）に、磁性部材４を非磁性体（図示せず）で支持して配し、この磁性部材４の上に媒体５を配置し、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上で磁場印加する。この磁場印加の際、本実施形態では、図２８（ａ）及び（ｂ）に示すように、直線状の磁力線３ｇに対して、媒体５を所定の角度傾けた状態にし、磁場を形成する磁力線３ｇと、強磁性体領域４ａ（Ｌ字型のパターン）を構成する直線部分（図２８（ｂ）の３４ａ及び３４ｂ）とが水平な状態で重ならないようにする。これにより、塗膜５ａに形成されるＬ字型のパターンのどの部分にも磁力線３ｇの歪みを発現させることができる。
【０１９９】
そして、顔料配向ステップＳ１２において、媒体５に磁場をかけたまま、又は、媒体５に磁場をかけて顔料１４を配向させた後、紫外線照射によって塗膜５ａを硬化させる塗工層硬化ステップＳ１３を行う。以上のステップＳ１１〜Ｓ１３により、図２８（ｃ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０が形成される。このようにして形成された意匠性媒体３０には、媒体表面に磁性部材４のＬ字型のパターン（模様）が反映され、コントラストが均一化されたＬ字型のパターン３４が形成される。
【０２００】
なお、上記説明では、直線のみで構成されたＬ字型のパターンを例としたが、本実施形態の意匠性媒体形成方法は、曲線を含むパターンにも適用できる。
【０２０１】
また、上記説明では、顔料配向ステップＳ１２において、媒体自体を傾けるようにしたが、磁場をかける装置を傾けるようにしてもよい。
【０２０２】
以上説明したように、本実施形態によれば、顔料配向ステップで塗工層に磁場をかける際、磁場を形成する磁力線と、磁性部材によって塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにし、そのパターンのどの部分にも磁力線の歪みを発現させることにより、塗工層上に形成されるパターンのコントラストを均一化させることができ、視認性を向上させることが可能となる。
【０２０３】
以上、本発明の各実施形態及び各実施例について説明したが、各実施形態及び各実施例は任意に組み合わせることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【０２０４】
本発明は、塗膜面に周囲と異なる微細な色調あるいは模様、図形、文字等のパターンの形成を行うことに利用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２０５】
【図１】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る媒体の側面を模式的に示す図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図である。
【図２】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の磁場印加前における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の垂直磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料の垂直磁場の曲線部分における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図４】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る媒体の表面を模式的に示す上面図である。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る意匠性媒体の色調変化の一例を模式的に示す斜視図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図７】本発明の第２の実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図８】（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置を模式的に示す図であり、（ｂ）は、本発明の第３の実施形態に係る磁性部材の側面を模式的に示す図であり、（ｃ）は、磁性部材の変形例を示す図である。
【図９】（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係る媒体の表面を示す上面図であり、（ｂ）〜（ｇ）は、（ａ）に示す媒体のパターン部分及びパターン部分以外の周辺部分における顔料の配向状態をそれぞれ模式的に示すの側断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第３の実施形態に係る意匠性媒体の色調変化の一例を模式的に示す斜視図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１３】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１４】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１５】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図１６】本発明の第４の実施形態に係る顔料配向方法を実行する着磁ヨークの動作を説明するための図である。
【図１７】（ａ）は、本発明の第４の実施形態に係る顔料の左上から右下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の第４の実施形態に係る顔料の右上から左下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図１８】（ａ）は、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体の側面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体のデザインの一例をそれぞれ示す上面図である。
【図１９】本発明の第４の実施形態に係る意匠性媒体形成方法を示すフローチャートである。
【図２０】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の第５の実施形態に係る媒体の表面を示す上面図である。
【図２１】本発明の第５の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一例を示すフローチャートである。
【図２２】本発明の第５の実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一例を示すフローチャートである。
【図２３】本発明の第６の実施形態に係る媒体内の状態を模式的に示す側断面図である。
【図２４】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２５】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２６】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第６の実施形態に係る顔料の各配向状態の一例を模式的に示す側断面図である。
【図２７】（ａ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す上面図であり、（ｂ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す斜視図であり、（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）に示す磁場で顔料を配向させた意匠性媒体の表面を示す上面図である。
【図２８】ａ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す上面図であり、（ｂ）は、本発明の第７の実施形態に係る磁場印加時の磁力線の一例を示す斜視図であり、（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）に示す磁場で顔料を配向させた意匠性媒体の表面を示す上面図である。
【符号の説明】
【０２０６】
１、２ 着磁ヨーク
３ａ〜３ｍ 磁力線
４、４０ 磁性部材
４ａ、４０ａ 強磁性体領域
４ｂ、４０ｂ 非強磁性体領域
５、５０ 媒体
５ａ 塗膜（塗工層）
５ｂ 基材
５ｃ 透明基材
６ａ ロール部（送り出し部）
６ｂ ロール部（巻き取り部）
７ 塗工部
８ ＵＶ照射部
９ 微粒子（ガラスビーズ）
１０ 顔料が垂直に配向された塗膜
１１ 顔料が水平に配向された塗膜
１２ 顔料が左斜めに配向された塗膜
１３ 顔料が右斜めに配向された塗膜
１４、１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ 顔料成分
１５ 媒体表面の背景塗膜
１６、１７、１８、１９ 媒体表面の文字塗膜
２０、２１、２２、２３ 媒体表面の黒正方形塗膜
２４、２５、２６、２７ 媒体表面の白正方形塗膜
３０ 意匠性媒体
３１、３３ 光沢
３２ パターン部分（１１本の平行直線）
３４ パターン部分（Ｌ字型）
３４ａ Ｌ字型のパターンの縦線部分
３４ｂ Ｌ字型のパターンの横線部分
６０ 第１の塗工層
６１ 未印刷部分
７０ 第２の塗工層
８０ 第１の塗工層と第２の塗工層とが重なった部分
９０ 第３の塗工層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、
質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、
前記基材に前記塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、前記塗工層中の前記顔料を配向させる顔料配向ステップと、
前記磁場をかけたまま、又は、前記磁場をかけて前記顔料を配向させた後に、前記塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、
を行うことを特徴とする意匠性媒体形成方法。
【請求項２】
前記磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする請求項１記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項３】
前記塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させることを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項４】
前記塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させることを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項５】
前記塗料として、無溶媒系の樹脂を用いることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項６】
前記基材として、光を透過する透明基材を用いることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項７】
前記顔料配向ステップは、前記塗工層形成ステップで形成された塗工層の所定部分毎に、前記顔料を所定方向に配向させることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項８】
前記顔料配向ステップは、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された磁性部材を前記塗工層の所定部分に隣接させて磁場をかけることを特徴とする請求項７記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項９】
前記磁性部材は、強磁性体で形成された強磁性体領域と、非強磁性体で形成された非強磁性体領域と、を有することを特徴とする請求項８記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１０】
前記顔料配向ステップで前記塗工層に前記磁場をかける際、前記磁場を形成する磁力線と、前記磁性部材によって前記塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにすることを特徴とする請求項８又は９記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１１】
前記顔料配向ステップは、前記塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする請求項７記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１２】
単一基材上に、前記塗工層形成ステップと、前記顔料配向ステップと、前記塗工層硬化ステップと、を所定回数繰り返して行うことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１３】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、該塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されることを特徴とする請求項１２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１４】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されることを特徴とする請求項１２又は１３記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１５】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料で形成されることを特徴とする請求項１２又は１３記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１６】
前記塗料は、前記顔料が直立した状態を所定時間維持するための微粒子を含有した塗料であることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする意匠性媒体。
【請求項１】
意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、
質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、
前記基材に前記塗工層を形成した媒体を０．３テスラ以上の磁場の中に置き、前記塗工層中の前記顔料を配向させる顔料配向ステップと、
前記磁場をかけたまま、又は、前記磁場をかけて前記顔料を配向させた後に、前記塗工層を硬化させる塗工層硬化ステップと、
を行うことを特徴とする意匠性媒体形成方法。
【請求項２】
前記磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする請求項１記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項３】
前記塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させることを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項４】
前記塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させることを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項５】
前記塗料として、無溶媒系の樹脂を用いることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項６】
前記基材として、光を透過する透明基材を用いることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項７】
前記顔料配向ステップは、前記塗工層形成ステップで形成された塗工層の所定部分毎に、前記顔料を所定方向に配向させることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項８】
前記顔料配向ステップは、強磁性体もしくは強磁性体を含んだ塗料によって形成された磁性部材を前記塗工層の所定部分に隣接させて磁場をかけることを特徴とする請求項７記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項９】
前記磁性部材は、強磁性体で形成された強磁性体領域と、非強磁性体で形成された非強磁性体領域と、を有することを特徴とする請求項８記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１０】
前記顔料配向ステップで前記塗工層に前記磁場をかける際、前記磁場を形成する磁力線と、前記磁性部材によって前記塗工層に形成されるパターンを構成する直線部分及び曲線部分とが水平にならないようにすることを特徴とする請求項８又は９記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１１】
前記顔料配向ステップは、前記塗工層の所定部分毎に、連続して所定の磁場をかけることを特徴とする請求項７記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１２】
単一基材上に、前記塗工層形成ステップと、前記顔料配向ステップと、前記塗工層硬化ステップと、を所定回数繰り返して行うことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１３】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層は、該塗工層同士の少なくとも一部分が重なって塗工されることを特徴とする請求項１２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１４】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、同一の塗料で形成されることを特徴とする請求項１２又は１３記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１５】
前記塗工層形成ステップで形成される複数の塗工層はそれぞれ、顔料の種類及び顔料の割合のうち少なくとも１つが異なる塗料で形成されることを特徴とする請求項１２又は１３記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１６】
前記塗料は、前記顔料が直立した状態を所定時間維持するための微粒子を含有した塗料であることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする意匠性媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【公開番号】特開２００８−１４２６９０（Ｐ２００８−１４２６９０Ａ）
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３５１６５（Ｐ２００７−３５１６５）
【出願日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【出願人】（０００１６２１１３）共同印刷株式会社 (488)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【出願人】（０００１６２１１３）共同印刷株式会社 (488)
【Ｆターム（参考）】
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