説明

蒸気加熱装置

【課題】 処理物の内外から効率良く昇温させ、加熱処理の処理時間を大幅に短縮させることができる蒸気加熱装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 加硫缶30内に高温高圧の水蒸気を供給する水蒸気発生源と蒸気供給管33を備え、さらに、加硫缶30内にマイクロ波電力を供給するマイクロ波回路35とマイクロ波電力源44とを備え、前記加硫缶30に収納させた未加硫ゴムや半加硫ゴムなどのゴム製品46を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とからなる加熱媒体に晒し、高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力の相乗効果でゴム製品46の加硫処理に必要な昇温を短時間で行なうことができる構成となっている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とを加熱処理容器に供給し、加熱処理容器内に内装させた処理物を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力に晒して加熱処理する蒸気加熱装置に関する。
【背景技術】
【0002】
蒸気加熱装置としては、高温高圧の水蒸気を加熱処理容器である加硫缶内に供給し、加硫缶に内装させた未加硫ゴムを高温高圧の水蒸気で加熱し、加硫処理するものが広く知られている。
図5はこの種の蒸気加熱装置を示す簡略構成図である。
この蒸気加熱装置は、加熱処理容器としての加硫缶10を備え、この加硫缶10には、バルブ11と調節弁12を介して蒸気供給管13が連結され、また、バルブ14と調節弁15を介して冷却媒体供給管16が連結されている。
【0003】
さらに、加硫缶10には、加硫缶内部の残存空気を排出する排気管17がバルブ18と調節弁19を介して連結され、また、加硫缶内部で蒸気が凝縮した復水を外部に排除するための2つのスチームトラップ20、21と、加硫缶内部と外部とを連通または遮断する調節弁22、23とを有する外部連通管24が連結されている。
その他、加硫缶内部の圧力を検出する圧力センサ25、温度を検出する温度センサ26などを備えた構成となっている。
【0004】
他方、上記したところの加硫缶10としては、図6に拡大断面図として示したように、金属材からなる筒状の缶本体10aと、この缶本体10aの筒軸方向両端に開閉可能に設けた蓋体10b、10bとより構成されたものが広く知られている。
この加硫缶10は、缶本体10aの筒軸方向の両端外周囲に沿ってフランジ部10c、10cを設け、さらに、このフランジ部10c、10cに形成した凹部内にパッキン27、27が嵌め込んである。
【0005】
そして、蓋体10b、10bの合わせ面10d、10dを上記のフランジ部10c、10cに当接させるようにして蓋体10b、10bを取り付け、加硫缶10内をパッキン27、27によって密閉する構成となっている。
なお、図6に示した参照符号28は、上記したスチームトラップや調節弁22、23などを含む外部連通管部、参照符号29は加硫缶10に収納された未加硫ゴムを示す。
【0006】
上記した蒸気加熱装置は、未加硫ゴム29を加硫缶10内に収納した後、排気管17によって加硫缶10内の空気を排気し、続いて、蒸気供給管13によって加硫に必要な温度と圧力の蒸気を加硫缶10内に供給し、未加硫ゴム29を加熱処理して加硫する。
そして、未加硫ゴム29の加硫後は、冷却媒体供給管16よって加硫缶10内に冷却媒体を供給して加硫されたゴムを強制冷却し、その後、外部連通管24によって加硫缶10内の流体を外部に排出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開2002−336676号公報
【特許文献2】特開平11−226969号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
上記した蒸気加熱装置に備えられる加硫缶10としては、最大圧力2000kPa(約20気圧)まで使用可能な高耐圧加硫缶が知られており、この高耐圧加硫缶10に上記のように未加硫ゴムを入れ、180℃(1000kPa)の水蒸気を注入して加硫している。
【0009】
ちなみに、一般にゴムの加硫反応時間は、10℃則にしたがうとされているので、上記したような高耐圧加硫缶10を用いれば、120℃(200kPa)の水蒸気でゴム加硫した加硫反応時間に対し、180℃(1000kPa)の水蒸気でゴム加硫すると、加硫反応時間を約200分の3に短縮することができると言うメリットがある。
なお、圧力と水の沸点の関係は、図7に示した理科年表データのようになり、200kPaでの水の沸点が約120℃、1000kPaにおいては水の沸点が180℃となる。
【0010】
しかしながら、上記のようにゴム加硫する蒸気加熱装置の場合、高温の水蒸気を未加硫ゴムの表面に接触させ、未加硫ゴムの内部を熱伝導により昇温させる方式であるため、内部まで昇温させるには長い時間が必要であった。
元々、ゴム製品は熱伝導が悪いので、例えば、水蒸気の温度を180℃に上昇させても、未加硫ゴムが180℃まで昇温する時間が長いため、加硫反応時間を短縮することができても、全体の加硫工程に必要な時間を大きく短縮することができなかった。
【0011】
そこで本発明では、上記の事情にかんがみ、処理物の内外から効率良く昇温させ、加熱処理の処理時間を大幅に短縮させることができる蒸気加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0012】
上記した目的を達成するため、本発明では、加熱処理容器内に高温高圧の水蒸気を供給し、加熱処理容器に内装させた処理物を水蒸気に晒して加熱処理する蒸気加熱装置において、前記加熱処理容器内にマイクロ波電力を供給するマイクロ波回路とマイクロ波電力源とを備え、前記処理物を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とからなる加熱媒体に晒して加熱処理することを特徴とする蒸気加熱装置を提案する。
【0013】
また、上記した本発明の蒸気加熱装置は、加熱処理容器に未加硫ゴムや半加硫ゴムなどのゴム製品を内装し、このゴム製品を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とからなる加熱媒体に晒して加硫処理する蒸気加熱装置として利用することができる。
【発明の効果】
【0014】
上記した蒸気加熱装置は、加熱処理容器に内装した処理物が、高温高圧の水蒸気に晒されるので、表面から加熱されて内部に向かって熱伝導する。
また、マイクロ波電力に晒されることで、処理物の内部にマイクロ波電力が侵入し、処理物を構成する各分子がマイクロ波電力を吸収して内部から加熱し、外部に向かって熱伝導する。
【0015】
この結果、処理物が内外から加熱され、さらに、表面から内部に向かって熱伝導すると共に、内部から外部に向かって熱伝導することから、処理物全体を均一温度に、かつ、短時間に上昇させることができる。
【0016】
したがって、加熱処理容器に未加硫ゴムや半加硫ゴムなどのゴム製品を収納させて加熱すれば、ゴム製品の昇温効率が極めて高く、加硫処理に必要な昇温時間を大幅に短縮することができる。
したがって、ゴムの加硫処理に有効な蒸気加熱装置として利用することができる。
【0017】
他方、水はマイクロ波電力を良く吸収する物質であることから、水蒸気もマイクロ波電力を良く吸収するはずであると考えて、上記したような蒸気加熱装置にはマイクロ波加熱手段が採用されていなかった。
【0018】
しかし、水の気体の密度は液体の密度の1万分の7しかないので、水蒸気のマイクロ波電力吸収性能は水の1千分の1以下と推定され、水蒸気によるマイクロ波電力の吸収量は少ない。
【0019】
この結果、水蒸気に比べマイクロ波電力の吸収量が大きいゴム製品はマイクロ波電力を良く吸収して昇温されるから、この種の蒸気加熱装置に有効である。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】ゴム製品を加硫処理する一実施形態を示す蒸気加熱装置の簡略構成図である。
【図2】図1の蒸気加熱装置に備えた加硫缶の断面図である。
【図3】図2に示した加硫缶の蓋体を開閉する状態を示した部分図である。
【図4】図1の蒸気加熱装置に備えた加硫缶に設けたマイクロ波窓の断面図である。
【図5】従来例として示した蒸気加熱装置の簡略構成図である。
【図6】図5の蒸気加熱装置に備えることができる加熱処理容器としての加硫缶を示す断面図である
【図7】水の沸点を示した理科年表データを表す図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
次に、ゴム製品の加硫に適する蒸気加熱装置の一実施形態について図面に沿って説明する。
図1は、蒸気加熱装置を示した簡略構成図で、図示するように、加硫缶30には、従来例同様にバルブ31と調節弁32を介して蒸気供給管33が連結してある。
【0022】
なお、この蒸気供給管33は、ボイラ(水蒸気発生器)などで生成した高温高圧の水蒸気を加硫缶30内に供給するもので、この蒸気供給管33には、水分を排除するためのドレンセパレータを備えることができる。
また、図示するように、加硫缶30の下部には、加硫缶内に発生したドレン(水などの流体)を外部に排出するスチームトラップ34が設けてある。
【0023】
一方、本実施形態は、上記の加硫缶30にマイクロ波電力を供給するマイクロ波回路35を連結させたことが特徴となっている。
このマイクロ波回路35は、マイクロ波導入管36、接続導波管37、EHチュナー38、接続導波管39、パワーモニタ40、アイソレータ41、接続導波管42、高周波結合器43などから構成してあり、マイクロ波電力源44から出力されるマイクロ波電力を加硫缶30内に供給するものである。
【0024】
なお、EHチュナー38は、加熱処理物を負荷とするインピーダンスと整合させる整合器で、これはスタブチューナーに置き換えることができる。
パワーモニタ40は、マイクロ波電力源44から加硫缶30に向かうマイクロ波電力の進行波と、この反対に、加硫缶30からマイクロ波電力源44に向かうマイクロ波電力の反射波とを計測するモニタである。
【0025】
アイソレータ41は、マイクロ波電力源44に向かうマイクロ波電力の反射波を吸収し、反射波によるマイクロ波電力源44(マグネトロン)の故障を防ぐものである。
高周波結合器43は、マイクロ波電力源44に備えるマグネトロンのアンテナを連結し、マイクロ波電力源44が出力するマイクロ波電力をマイクロ波回路35に導くものである。
【0026】
マイクロ波電力源44は、マグネトロンとその駆動回路などを含み、マグネトロンの発振動作にしたがってマイクロ波電力(例えば、周波数が2.45GHz帯の電磁波)を出力する。
【0027】
図2は、上記した加硫缶30の拡大断面図で、この加硫缶30は従来例の加硫缶10と同様に構成してあり、金属材からなる筒状の缶本体30aと、この缶本体30aの筒軸方向の両端に取り付けた金属材からなる蓋体30b、30bとから構成してある。
そして、缶本体30aの両端外周囲には、フランジ部30c、30cを形成すると共に、このフランジ部30c、30cの凹部に嵌合させたパッキン45に圧接させるように蓋体30b、30bを取り付け、加硫缶30内を密閉してある。
【0028】
なお、蓋体30b、30bは、モータ駆動やシリンダ駆動或いは手動操作で開閉し、加硫缶30内に未加硫ゴムや半加硫ゴムなどのゴム製品(例えば、ゴムロール、ゴムホース)46を治具47に載せて収納するように構成してあるが、これら蓋体30b、30bについては、いずれか一方の蓋体を備える構成とすることができる。
【0029】
また、図示するように、缶本体30aのフランジ部30c、30cと蓋体30b、30bの周囲部とを密接させるように嵌入させるクランプリング48を設け、加硫缶30内の圧力が大きくなっても蓋体30b、30bが缶本体30aに密接して保持されるようになっている。
【0030】
上記したクランプリング48は、図3より分かる通り、蓋体30bに固定した半円形弧状の上側クランプ部48aと、缶本体30aに固定した半円形弧状の下側クランプ部48bとから形成してある。
そして、これら上側クランプ部48aと下側クランプ部48bとはコの字形断面としてあり、上側クランプ部48aには、缶本体30aに設けたフランジ部30cの上半分を嵌入させる溝部48cを設け、下側クランプ部48bには蓋体30bの下半周囲部を嵌入させる溝部48dが設けてある。
【0031】
上記のようにクランプリング48を設けた加硫缶30は、図3の如く、蓋体30bを上方に引き抜き開蓋し、また、蓋体30bを下降させ、缶本体30aのフランジ部30cの上半部を上側クランプ部48aの溝部48cに、蓋体30bの下半周囲部を下側クランプ部48bの溝部48dに各々嵌入させるようにして蓋体30bを缶本体30aに取り付けて閉蓋する。
なお、図3は、左側の蓋体30b部分について示したが右側の蓋体30b部分は同じ構成としてある。
【0032】
また、本実施形態では、蒸気供給管33、マイクロ波回路35及びマイクロ波電力源44、スチームトラップ34を備えた構成としたが、従来例と同様に、冷却媒体供給管や排気管、圧力センサーや温度センサーなどを備えることができるし、また、マイクロ波回路35は必づしも缶本体30aに連結しないで、蓋体30bに連結することもできる。
【0033】
図4は上記したマイクロ波導入管36を示す拡大断面図である。
図示する如く、第1窓枠51、第2窓枠52、方形導波管53、絶縁体54、Oリング55から構成してある。
第1窓枠51と第2窓枠52は共に金属材で形成し、また、それらの外径は同径の円形としてあるが、第1窓枠51はリング状枠、第2窓枠52は有底円形の容状体に形成してある。
【0034】
そして、第1窓枠51は、缶本体30aに嵌入し溶接等で気密に、且つ、高圧に耐えるように固定し、さらに、第2窓枠52は第1窓枠にボルト等でネジ止めして取り外し可能に固定してある。
また、上記した方形導波管53は、第2窓枠52の底外面(図4において上面側)にネジ止めなどにより固定してある。
【0035】
一方、図示するように、第1窓枠51には、加硫缶内側となる内孔51aと、加硫缶外側となる内孔51bとが形成してあり、また、これら内孔51a、51bは、内孔51a(直径r1)に対し内孔51b(直径r2)を大きく形成し、それら内孔51a、51bの間の段形部51cにOリング55を嵌合するリング溝が形成してある。
そして、第2窓枠52には、第1窓枠51の内孔51a、51bの直径r1、r2に対しr1<r3<r2の関係とした直径r3の内孔52aが形成してある。
【0036】
上記した絶縁体54は、マイクロ波電力の吸収が少なく、高圧に耐える材料、例えば、強化ガラス(石英ガラス、硼珪酸ガラスなど)、セラミック(アルミナ、窒化珪素等)などで、第1窓枠51の内孔51bの直径r2とその内孔51bの奥行き幅に合わせた大きさの円盤状に形成してある。
そして、この絶縁体54は、第1窓枠51の内孔51bに嵌合した後、第2窓枠52を第1窓枠51にネジ止めすることで、第2窓枠52の開口縁52bで絶縁体54を圧接保持させてある。
【0037】
なお、Oリング55は、絶縁体54を嵌合する前に予め段形部51cの凹溝に嵌合させて置き、第1窓枠51と絶縁体54とを気密に保つようにしてある。
このOリング55は、高圧の水蒸気による劣化とマイクロ波電力の加熱の影響を最小にするために、シリコン系の材料で形成してあるが、高圧の水蒸気による劣化とマイクロ波電力の加熱の影響を最小にすることができる材料であれば、他の材料であっても形成することができる。
【0038】
また、第2窓枠52の底部には方形孔52cが設けてあり、この方形孔52cを方形導波管53の内孔に連通させてある。
なお、方形孔52cを設けないで、第2窓枠52の内孔52aに方形導波管33の内孔を直接に連通させる構成とすることもできる。
【0039】
上記の如く構成した本実施形態の蒸気加熱装置は、ゴム製品46を加硫缶30に収納させた後、蒸気供給管33から高温高圧の水蒸気を加硫缶30内に、また、マイクロ波回路35からマイクロ波電力を加硫缶30内に各々供給し、加硫缶30内を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力の加熱雰囲気とする。
【0040】
したがって、ゴム製品46が、表面に接触する高温の水蒸気によって加熱され、表面から内面に向かって熱伝導し、表面が高く、内部に行くほど低くなる温度分布となる。
また、マイクロ波電力はゴム製品46の内部にまで侵入し、ゴム製品46を構成する分子の極性基を激しく振動させて分子を昇温させるから、ゴム製品46の内部が加熱昇温し、内部から表面に向かって熱伝導する。
【0041】
このことから、ゴム製品46が高温の水蒸気とマイクロ波電力の相乗効果で短時間に加硫温度まで昇温する。
この結果、昇温に要する時間が大幅に短縮できるので、加硫工程に要する時間を概略半減することができる。
【0042】
一般に、水は誘電体損失角tanδと比誘電率εが高くマイクロ波電力の吸収性能が良いが、水蒸気の密度が水の1千分の1以下であるから、水蒸気は水のtanδの1千分の1以下のtanδとなると考えられるから、水蒸気はマイクロ波電力を吸収しないテフロン(登録商標)や石英ガラス並のマイクロ波吸収性能でしかないことが推定できる。
したがって、マイクロ波電力が水蒸気には吸収されないから、ゴム製品46が高温の水蒸気とマイクロ波電力の相乗効果によって効果的に加熱され、昇温時間が短縮される。
【0043】
他方、本実施形態の蒸気加熱装置に備えたマイクロ波導入管36は、加硫缶30外側となる内孔51bに対し加硫缶30内側となる内孔51aの直径r1を小さく形成した第1窓枠51を設けているので、内孔51aと内孔51bとの間となる段形部51cに凹溝を設けてOリング55を嵌合し、また、絶縁体54は内孔51bに内装させ、上記の段形部51cに接合させることができる。
【0044】
したがって、マイクロ波窓を気密に保ち、かつ、絶縁体54にかかる全圧力を小さくすることができる。
さらに、高温の水蒸気が侵入するOリング55までの距離を最小にできるので、窓枠表面の錆が発生する領域が小さくなり、信頼性の高いマイクロ波導入管36を備えた蒸気加熱装置となる。
【産業上の利用可能性】
【0045】
高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力に晒して処理物を加熱処理する蒸気加熱装置、例えば、未加硫ゴムや加硫ゴムなどのゴム製品を昇温させて加硫する蒸気加熱装置として適用することができる。
【符号の説明】
【0046】
30 加硫缶
33 蒸気供給管
35 マイクロ波回路
36 マイクロ波導入管
44 マイクロ波電力源
46 ゴム製品
51 第1窓枠
51a、51b 内孔
51c 段形部
52 第2窓枠
52a 内孔
53 方形導波管
54 絶縁体
55 Oリング









【特許請求の範囲】
【請求項1】
加熱処理容器内に高温高圧の水蒸気を供給し、加熱処理容器に内装させた処理物を水蒸気に晒して加熱処理する蒸気加熱装置において、
前記加熱処理容器内にマイクロ波電力を供給するマイクロ波回路とマイクロ波電力源とを備え、
前記処理物を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とからなる加熱媒体に晒して加熱処理することを特徴とする蒸気加熱装置。
【請求項2】
請求項1に記載した蒸気加熱装置において、
前記加熱処理容器には、未加硫ゴム或いは半加硫ゴムなどのゴム製品を内装し、このゴム製品を高温高圧の水蒸気とマイクロ波電力とからなる加熱媒体に晒して加硫処理することを特徴とする蒸気加熱装置。

















【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2011−230355(P2011−230355A)
【公開日】平成23年11月17日(2011.11.17)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−102357(P2010−102357)
【出願日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【出願人】(000114031)ミクロ電子株式会社 (37)
【出願人】(593221082)関西ロール株式会社 (2)
【Fターム(参考)】