蒸気発生装置および加熱調理器
【課題】簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置およびそれを用いた加熱調理器を提供する。
【解決手段】全体が略平板状の基部Ａの下側に第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを取り付ける。基部Ａ上の所定の領域の一部を囲むように基部Ａに畝状の凸部４６を設けて、水供給部から基部Ａ上に供給された水が基部Ａ上の所定の領域内から外側に広がりにくくする。基部Ａが略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器４１を、長手方向が略水平になるように配置する。略直方体形状の蒸発容器４１は、基部Ａの一方の長辺側の側面に設けられた開口部４１aを有し、その開口部４１aに開閉自在な蓋体４４を取り付けている。上記第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより基部Ａを加熱することによって、水供給部から基部Ａ上に供給された水を蒸発させる。
【解決手段】全体が略平板状の基部Ａの下側に第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを取り付ける。基部Ａ上の所定の領域の一部を囲むように基部Ａに畝状の凸部４６を設けて、水供給部から基部Ａ上に供給された水が基部Ａ上の所定の領域内から外側に広がりにくくする。基部Ａが略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器４１を、長手方向が略水平になるように配置する。略直方体形状の蒸発容器４１は、基部Ａの一方の長辺側の側面に設けられた開口部４１aを有し、その開口部４１aに開閉自在な蓋体４４を取り付けている。上記第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより基部Ａを加熱することによって、水供給部から基部Ａ上に供給された水を蒸発させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、蒸気発生装置および加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、ポット内の底近傍にヒータ部を配置し、そのヒータ部が浸かる程度にポット内に水を供給して、ヒータ部により水を加熱することによって蒸気を発生させる蒸気発生装置を備えたものがある(例えば、特開２００５−２４１１８７号公報(特許文献１)参照)。
【０００３】
この加熱調理器の蒸気発生装置では、ヒータ部が水に浸かるようにするため、ポット内に供給される水の量をさらに少なくすることができず、蒸気発生の立ち上がりをこれ以上早くできないという問題がある。また、上記加熱調理器の蒸気発生装置では、ポット内の底近傍にヒータ部が配置されているため、ヒータ部の取り付けが容易でなく、さらにポット内を簡単に清掃することができないという問題がある。ポット内において蒸気が発生する過程で、水に含まれるカルシウムやマグネシウムなどの無機塩類が濃縮されていき、スケールとなってポット内に析出して堆積すると、蒸気発生装置の熱効率が悪化する。
【特許文献１】特開２００５−２４１１８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、この発明の課題は、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置およびそれを用いた加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、この発明の蒸気発生装置は、
全体が略平板状の基部と、
上記基部の下側に取り付けられたヒータ部と、
上記基部上に水を供給する水供給部と、
上記基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むように上記基部に設けられ、上記水供給部から上記基部上に供給された水が上記所定の領域内から外側に広がりにくくするための畝状の凸部と
を備え、
上記ヒータ部により上記基部を加熱することによって、上記水供給部から上記基部上に供給された水を蒸発させることを特徴とする。
【０００６】
上記構成の蒸気発生装置によれば、上記基部に設けられた畝状の凸部によって、基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むようにして、水供給部から基部上に供給された水が基部上の所定の領域内から外側に広がりにくくしている。これにより、上記水供給部から基部上に供給された水は、上記所定の領域内にほぼ留まり、例えば基部の下側に取り付けられたヒータ部により上記所定の領域に熱が集中するように加熱することによって、加熱された基部上の所定の領域の水が効率よく蒸発して蒸気が発生する。そうして、上記基部上の水の蒸発の程度(基部の温度などにより判断)に応じて水供給部から水の供給を間欠的または連続的に行うことによって、蒸気を連続的に発生させることが可能となる。
【０００７】
したがって、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできる。また、全体が略平板状の基部の下側全体も略平面であるから、ポット内にヒータ部を取り付ける場合に比べてヒータ部の取り付けが極めて容易にできる。さらに、基部の上面は、畝状の凸部を除いて全体が略平面であるので、掃除が簡単に行える。なお、上記水供給部から基部上の所定の領域内に少量の水を間欠的または連続的に供給して、蒸気発生を繰り返すことができ、ポット内にヒータ部を配置したものに比べて基部を大幅に小さくすることが可能になり、この蒸気発生装置の小型化が図れる。
【０００８】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、
長手方向が略水平になるように配置され、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を備え、
上記略直方体形状の蒸発容器は、上記基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部を有し、その開口部に開閉自在な蓋体が取り付けられている。
【０００９】
上記実施形態によれば、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を、長手方向が略水平になるように配置して、その蒸発容器の基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部に、開閉自在な蓋体を取り付けているので、使用者が蓋体を取り外すことにより容易に蒸発容器内を掃除することができる。
【００１０】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、上記基部の下側にヒータ取付板を介して上記ヒータ部を取り付けている。
【００１１】
上記実施形態によれば、上記基部にヒータ部を直接取り付けると、基部の下側平面の一部にしかヒータ部が接触しないような場合でも、基部の下側にヒータ取付板を介してヒータ部を取り付けることによって、ヒータ部からの熱をヒータ取付板により均一に分散させて基部の下側(例えば所定の領域に対向する部分)をムラなく加熱でき、熱損失を低減できる。
【００１２】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、
上記ヒータ部は、複数本のシーズヒータであって、
上記複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータが他のシーズヒータよりも発熱量が大きい。
【００１３】
上記実施形態によれば、上記ヒータ部の複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータの発熱量を他のシーズヒータよりも大きくして、基部上でも最も水が存在する確率の高い給水側の領域に、他の領域よりもできるだけ熱を集中させることによって、蒸気発生の立ち上がりや効率を向上できる。
【００１４】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍かつ上記基部の下側に、上記基部の温度を検出する温度センサを配置している。
【００１５】
上記実施形態によれば、上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍に配置された温度センサによって、基部の温度変化を正確に測定することができる。
【００１６】
また、この発明の加熱調理器では、上記のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備えたことを特徴とする。
【００１７】
上記構成の加熱調理器によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を用いることによって、低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上より明らかなように、この発明の蒸気発生装置によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を実現することができる。
【００１９】
また、この発明の加熱調理器によれば、上記蒸気発生装置を用いることによって低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、この発明の蒸気発生装置および加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２１】
図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図を示している。この加熱調理器１は、直方体形状の本体ケーシング１０の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉１２を設けている。扉１２の右側に操作パネル１１を設け、扉１２の上部にハンドル１３を設けると共に、扉１２の略中央に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。
【００２２】
また、図２は加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、本体ケーシング１０内に直方体形状の調理室２０が設けられている。調理室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、調理室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、扉１２は、調理室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。調理室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、調理室２０内と外部とを断熱している。
【００２３】
また、調理室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２２が置かれている。なお、扉１２を開いた状態で、扉１２の上面側は略水平となって、被加熱物を取り出すときに一旦扉１２の上面に置くことができる。
【００２４】
さらに、本体ケーシング１０の調理室２０の右側に、水タンク３０を収納するための水タンク用収納部３７を設けている。水タンク３０は、前面側から後面側に向かって水タンク用収納部３７内に挿入される。
【００２５】
図３は、加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図である。図３に示すように、この加熱調理器１は、調理室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０等の動作を制御する制御装置８０とを備えている。調理室２０内に設置された受皿２１上には格子状のラック２２が載置され、そのラック２２の略中央に被加熱物９０が置かれる。そうして、被加熱物９０は、調理室２０の底面から間隔をあけた状態で調理室２０内に収容されている。
【００２６】
また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aは、水位検知部３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続可能になっている。そして、水位検知部３１に第１給水パイプ３２の一端が接続され、第１給水パイプ３２の他端にポンプ３３の吸込側が接続されている。また、そのポンプ３３の吐出側に第２給水パイプ３４の一端が接続され、第２給水パイプ３４の他端が蒸気発生装置４０に接続されている。さらに、水位検知部３１には、水タンク用水位センサ３６が配設されている。
【００２７】
上記水タンク用水位センサ３６は、長さが同じ２本の第１,第２電極と、その第１,第２電極よりも短い第３電極と、その第３電極よりもさらに短い第４電極からなる。水タンク用水位センサ３６の第１電極を共通電極として、長さの異なる第２〜第４電極により３つの水位を検出することができる。また、水タンク３０と第１給水パイプ３２とポンプ３３と第２給水パイプ３４で水供給部を構成している。
【００２８】
また、蒸気発生装置４０は、第２給水パイプ３４の他端が接続され、長手側の一方の側面に開口部４１aが設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１と、蒸発容器４１の下側に配置されたヒータ部の一例としての第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂと、蒸発容器４１の下側かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に配置された温度センサ４３と、蒸発容器４１の開口部４１aを蓋する蓋体４４とを有している。温度センサ４３を給水口７１a(図８に示す)の近傍に配置している。
【００２９】
また、調理室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側には、ファンケーシング２６を配置している。そして、ファンケーシング２６に設置された送風ファン２８によって、調理室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。また、蒸気発生装置４０で発生した蒸気は、送風ファン２８により第１蒸気供給パイプ３５を介して吸い込まれて、調理室２０内から吸い込まれた蒸気と合流し、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。
【００３０】
なお、図３では、調理室２０と蒸気発生装置４０は離れて示しているが、後述するように加熱室２０内の後面側側壁かつ加熱室２０の外側に、蓋体４４側が加熱室２０内に面するように取り付けられている。
【００３１】
上記ファンケーシング２６,第２蒸気供給パイプ６１および蒸気昇温装置５０で外部循環経路を形成している。また、調理室２０の側面の下側に設けられた放出口２７には放出通路６４の一端が接続され、放出通路６４の他端には第１排気口６５を設けている。さらに、循環経路を形成する第２蒸気供給パイプ６１には、排気通路６２の一端が接続され、排気通路６２の他端には第２排気口６３を設けている。また、第２蒸気供給パイプ６１と排気通路６２との接続点に、排気通路６２を開閉するダンパ６８を配置している。
【００３２】
また、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース５１と、この皿型ケース５１内に配置された蒸気加熱ヒータ５２とを有している。皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。
【００３３】
さらに、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３の他端は、調理室２０の両側面に沿って下方に延び、調理室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２４に接続されている。
【００３４】
次に、図４に示す加熱調理器１の制御ブロックについて説明する。
【００３５】
図４に示すように、制御装置８０には、送風ファン２８と、蒸気加熱ヒータ５２と、ダンパ６８と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂと、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、温度センサ４３と、調理室２０(図３に示す)内の温度を検出する調理室用温度センサ８１と、調理室２０内の湿度を検出する調理室用湿度センサ８２と、ポンプ３３が接続されている。
【００３６】
上記制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水タンク用水位センサ３６,温度センサ４３, 調理室用温度センサ８１および調理室用湿度センサ８２からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,蒸気加熱ヒータ５２,ダンパ６８,第１蒸気発生ヒータ４２Ａ,第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ,操作パネル１１およびポンプ３３を所定のプログラムに従って制御する。
【００３７】
図５は上記加熱調理器１の扉のない状態の正面図を示しており、図５に示すように、本体ケーシング１０の水タンク用収納部３７に、前面側から後面側に向かって水タンク３０を挿入している。また、本体ケーシング１０の調理室２０内の後面側の壁面には、右上側コーナー部の近傍に吸込口２５が設けられ、左下側コーナー部の近傍に放出口２７が設けられている。そして、調理室２０内の後面側壁面の中央部やや左側かつ調理室２０の外側に、蓋体４４により蓋された開口部４１a側が調理室２０側に面するように蒸気発生装置４０を配置している。なお、蒸気発生装置の取り付け位置はこれに限らず、調理室内の左右の側壁面のいずれか一方かつ調理室の外側に、開口部側が調理室側に面するように蒸気発生装置を配置してもよいし、開口部側が本体ケーシングの外側に面するように、本体ケーシング内かつ調理室の外側に蒸気発生装置を配置してもよい。
【００３８】
また、図６は上記加熱調理器１の本体ケーシング１０のない状態の裏面図を示している。なお、図６では、図を見やすくするため、水位検知部３１,第１給水パイプ３２,ポンプ３３,第２給水パイプ３４,水タンク用水位センサ３６および制御装置８０などを省略している。
【００３９】
図６に示すように、調理室２０(図５に示す)の後面側に蒸気発生装置４０を配置し、吸込口２５(図５に示す)の裏面側に、送風ファン２８が収納されたファンケーシング２６を配置している。このファンケーシング２６と蒸気発生装置４０とを第１蒸気供給パイプ３５を介して接続している。また、図５に示す放出口２７に放出通路６４の一端を接続し、上側の第１排気口６５(図３に示す)に放出通路６４の他端を接続している。
【００４０】
また、調理室２０の上側に配置された蒸気昇温装置５０からの蒸気供給通路２３,２３を、調理室２０の左右両側に設けている。
【００４１】
また、図７は加熱調理器１の蒸気発生装置４０の上面図を示し、図８は蒸気発生装置４０の正面図を示し、図９は蒸気発生装置４０の下面図を示している。
【００４２】
図７〜図９に示すように、この蒸気発生装置４０は、長手側の一方の側面(正面側)に開口部４１aが設けられた略直方体形状を有するアルミダイキャスト製の蒸発容器４１を備えている。この蒸発容器４１は、底部となる略長方形状の基部Ａと、その基部Ａの背面側の長辺から立設する壁部Ｂと、その基部Ａの左右両側の短辺から立設する壁部Ｃ,Ｄと、壁部Ｂ,Ｃ,Ｄの上端側かつ基部Ａに対向するように設けられた上板部Ｅとを有している。この実施の形態では、蒸発容器４１は幅が約２００ｍｍ、奥行きが約６０ｍｍ、高さが約５０ｍｍとなるように構成している。また、蒸発容器４１の裏面側の壁部Ｂの略中央に、第２給水パイプ３４(図３に示す)が接続される接続部７１を設けると共に、蒸発容器４１の上板部Ｅの略中央に、第１蒸気供給パイプ３５(図３に示す)が接続される接続部７２を設けている。蒸発容器４１の正面側の開口部４１aの縁にフランジ部７４を設け、そのフランジ部７４に外縁部が当接するように、蒸発容器４１の開口部４１aに開閉自在な蓋体４４を取り付けている。
【００４３】
また、図８に示すように、蓋体４４の中央に、略長方形状の耐熱ガラス製の窓４５を設けている。窓４５は透明であり、この窓４５を介して蒸発容器４１内部を視認することができるようになっているため、蒸発容器４１内部のスケールの付き具合をチェックして清掃のタイミングを知ることができる。
【００４４】
また、図９に示すように、両端に接続端子を有する棒状のシーズヒータである第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを、蒸発容器４１の基部Ａの下面側にヒータ取付板７３を介して蒸発容器４１の長手方向に沿って略平行に所定の間隔をあけて取り付けている。ヒータ取付板７３は、蒸発容器４１の基部Ａに溶接またははんだ付けにより接着されと共に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂは、ヒータ取付板７３にはんだ付けにより接着されている。これにより、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを蒸発容器４１の基部Ａにヒータ取付板７３を介して密着させて、熱伝導性を向上している。また、ヒータ取付板７３の略中央かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に温度センサ４３を取り付けている。
【００４５】
また、図１０Ａは上記蒸気発生装置４０の側面図を示しており、図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図を示している。図１０Ａ,図１０Ｂにおいて、図７〜図９に示す同一構成部には同一参照番号を付している。
【００４６】
図１０Ａ,図１０Ｂに示すように、蒸発容器４１の基部Ａには、畝状の凸部４６を設けている。この実施の形態では、凸部４６の断面形状は蒸発容器４１の基部Ａの基準面に対して高さが約３ｍｍ、幅が約７ｍｍの三角形状としている。また、図１０Ｂに示すように、畝状の凸部４６と裏面側の壁部Ｂに囲まれた所定の領域の水溜部Ｓに、接続部７１,給水口７１aを介して供給された水が溜まる。この実施の形態では、水溜部Ｓは幅が約１６０ｍｍ、奥行きが約４５ｍｍ、容量が約２０ｃｍ3としている。そして、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより基部Ａが加熱され、水溜部Ｓに溜まった水が蒸発して蒸気が発生し、発生した蒸気は、供給口７２a,接続７２を介して蒸気昇温装置５０に供給される。この実施の形態では、第１蒸気発生ヒータの出力は１０００Ｗ、第２蒸気発生ヒータの出力は５００Ｗとしている。
【００４７】
図１１は図８のXI−XI線から見た断面図を示しており、図１１に示すように、蒸発容器４１の基部Ａの凸部４６は、蒸発容器４１の開口部４１aの縁に沿って略平行にかつ基部Ａの前面側に設けられた直線部分４６aと、その直線部分４６aの両端から裏面側に向かって屈曲して延びるように設けられた屈曲部分４６b,４６cとを有する。ポンプ３３により水タンク３０から供給された水は、コの字状の凸部４６により三方を、壁部Ｂで残り一方を囲まれることにより四方を囲まれた所定の領域の水溜部Ｓに溜まる。この実施の形態では、１回の給水量は１６〜２０ｃｍ3の一定量としたが、給水量はこれに限らず、蒸気発生装置の形態などに応じて適宜設定してよい。例えば、この発明の蒸気発生装置の水供給部は、間欠的に給水する１回の水の量を供給毎に代えてもよいし、連続的に水を供給してもよく、それらを組み合わせて水の供給を制御してもよい。また、この実施の形態では、所定の領域をコの字状に囲むように畝状の凸部４６を基部Ａに設けたが、畝状の凸部の形状はこれに限らず、上記所定の領域の少なくとも一部を囲むものであればよい。
【００４８】
また、図１２(a)は上記蓋体４４の上面図を示し、図１２(b)は蓋体４４の側面図を示し、図１２(c)は蓋体４４の側面図を示している。この蓋体４４は、図１２に示すように、中央に窓４５が配置された耐熱樹脂製の本体部４４aと、その本体部４４aの前面側かつ外縁側に設けられたフランジ部４４bと、本体部４４aの外周に形成された環状の溝７５に嵌め込まれた耐熱性のシール部材７３とを有する。この蓋体４４の本体部４４aを蒸発容器４１(図７〜図１１に示す)の開口部４１aに嵌め込むことにより、蒸発容器４１の内周面と蓋体４４とをシール部材７３によりシールすると共に、蓋体４４が蒸発容器４１に固定されて蓋体４４の脱落を防止する。
【００４９】
上記構成の加熱調理器１において、図１に示す操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、図３に示す制御装置８０は、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを通電し、ダンパ６８により排気通路６２を閉じた状態でポンプ３３の運転を開始する。ポンプ３３により水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に給水される。
【００５０】
そして、蒸発容器４１内に溜まった所定量の水を第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより加熱する。
【００５１】
次に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂの通電と同時に、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、調理室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、第２蒸気供給パイプ６１に空気(蒸気を含む)を送り出す。この送風ファン２８に遠心ファンを用いることによって、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
【００５２】
次に、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、第１蒸気供給パイプ３５を介して送風ファン２８により吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を通る循環気流に合流する。循環気流に合流した蒸気は、第２蒸気供給パイプ６１を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。
【００５３】
そして、蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２４から噴出する。
【００５４】
ここで、加熱室２０内において、中央部では上昇し、その外側では吹き下ろすという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、循環経路を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。
【００５５】
なお、調理中、制御装置８０は、温度センサ４３により検出された蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度が、１１０℃〜１２０℃では基部Ａ上に水があると判断する。一方、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が、例えば１４０℃以上になると基部Ａ上の水が無くなったと判断して、ポンプ３３を運転して、水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を供給する。このようにして、蒸発容器４１の基部Ａの温度変化に基づいて、制御装置８０が蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を間欠的に供給することによって、ほぼ連続して蒸気が発生する。
【００５６】
このようにして加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面蒸気吹出口２４から噴出して、ラック２２上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。また、過熱蒸気が充満した加熱室２０内は、約１％程度の低酸素濃度状態になるので、被加熱物９０の酸化を抑え、ビタミンＣ等が損なわれることがない。
【００５７】
また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、調理室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４を介して第１排気口６５から外部に放出される。
【００５８】
調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排気通路６２のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、循環経路の第２蒸気供給パイプ６１が排気通路６２を介して第２排気口６３に連通し、調理室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第２蒸気供給パイプ６１および排気通路６２を介して第２排気口６３から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。これにより、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を調理室２０内から取り出すことができる。
【００５９】
上記構成の加熱調理器１によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を実現することができる。また、調理終了時に蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に水が残らないように、水供給部からの水の供給やヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の通電を制御することによって、蒸発容器４１の排水を行う必要がなく、衛生面が向上すると共に、排水バルブや排水経路などが不要となり、構成を簡略化して小型化と低コスト化を図ることができる。さらに、上記水供給部から基部Ａ上の所定の領域内に少量の水を間欠的に供給して蒸気発生を繰り返すことができ、ポット内にヒータ部を配置したものに比べて基部Ａを大幅に小さくすることが可能になり、この蒸気発生装置の小型化が図れる。
【００６０】
また、上記蒸気発生装置４０の基部Ａが略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器４１を、長手方向が略水平になるように配置して、その蒸発容器４１の基部Ａの一方の長辺側の側面に設けられた開口部４１aに、開閉自在な蓋体４４を取り付けることによって、使用者が蓋体４４を取り外して容易に蒸発容器４１内を掃除することができる。なお、蓋体の開閉構造はこれに限らず、他の構造の開閉自在な蓋体を用いたものにこの発明を適用してもよい。例えば、調理室２０の壁面側に蓋体の開閉構造を設けてもよい。
【００６１】
また、上記基部Ａの下側にヒータ取付板７３を介してヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)を取り付けることによって、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)からの熱がヒータ取付板７３により均一に分散されて、基部Ａの下側をムラなく加熱でき、熱損失を低減して、効率を向上できる。
【００６２】
また、上記ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に用いられた２本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータ(４２Ａ)の発熱量を他のシーズヒータ(４２Ｂ)よりも大きくして、基部Ａ上でも最も水が存在する給水側の領域に、他の領域よりもできるだけ熱を集中させることによって、蒸気発生の効率を向上できる。この実施の形態では、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に２本のシーズヒータを用いたが、３本以上のシーズヒータを用いてもよいし、他の加熱手段を用いてもよい。
【００６３】
また、上記水供給部から基部Ａ上に水を供給するための給水口７１aの近傍に温度センサ４３を配置することによって、その温度センサ４３により基部Ａの温度変化を正確に測定することができる。
【００６４】
また、この発明の加熱調理器によれば、低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【００６５】
また、上記構成の蒸気発生装置４０によれば、蓋体４４により蒸発容器４１の開口部４１aを閉じた状態でヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)により蒸発容器４１を加熱することによって、給水口７１aから給水された水溜部Ｓの水を蒸発させて、蒸発容器４１内から供給口７２aを介して外部に蒸気を供給することが可能となる。そして、上記蓋体４４を開いて蒸発容器４１の側面に設けられた開口部４１aを介して蒸発容器４１の内部をあらわにすることによって、蒸発容器４１内に手が入れやすくなる。したがって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる衛生的な蒸気発生装置４０を実現することができる。
【００６６】
また、上記蒸発容器４１の開口部４１aが設けられた側面に開閉可能に蓋体４４を設けることによって、蒸発容器４１の開口部４１aと蓋体４４との嵌め合わせが確実にでき、蒸発容器４１の開口部４１aのシール性を向上できる。
【００６７】
また、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の内壁面に設けることによって、調理室２０内側から見て蓋体４４を開いた蒸発容器４１の内部は開口部４１aを介してあらわになり、調理室２０から蒸発容器４１内に手が入れやすくなって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる。なお、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を本体ケーシング１０の外壁面に設けてもよく、この場合、本体ケーシングの外側から見て蒸発容器の内部が開口部を介してあらわになり、外側から蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。
なお、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０側に蓋体４４を設けたが、蓋体を調理室の内壁面に設けてもよい。この場合、蒸発容器の蓋体が調理室の内壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、調理室２０の内壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器４１側よりも蓋体４４を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。また、上記開口部を開閉可能にする蓋体を本体ケーシングの外壁面に設けてもよく、この場合も、蒸発容器の蓋体が本体ケーシングの外壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、本体ケーシングの外壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器側よりも蓋体を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。
【００６８】
また、この実施の形態では、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の後面側の内壁面に設けられた開口に、蒸発容器４１の開口部４１aが対向するように蒸気発生装置４０を本体ケーシング１０内に配置したが、調理室内に蒸気発生装置を配置してもよい。この場合、蓋体を開いた蒸発容器の内部は開口部を介してあらわになり、調理室の蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。
【００６９】
また、上記実施の形態では、長手側の一方の側面に開口部４１aが設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１を備えた蒸気発生装置４０について説明したが、蒸気発生装置の蒸発容器の形状はこれに限らず、全体が略平板状の基部を有するものであればよい。
【００７０】
また、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０を用いた加熱調理器１について説明したが、加熱調理器に限らず、蒸気を用いる他の装置にこの発明の蒸気発生装置を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図である。
【図２】図２は図１に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図３】図３は図１に示す加熱調理器の概略構成図である。
【図４】図４は図１に示す加熱調理器の制御ブロック図である。
【図５】図５は上記加熱調理器の扉のない状態の正面図である。
【図６】図６は上記加熱調理器の本体ケーシングのない状態の裏面図である。
【図７】図７は上記加熱調理器の蒸気発生装置の上面図である。
【図８】図８は上記蒸気発生装置の正面図である。
【図９】図９は上記蒸気発生装置の下面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは上記蒸気発生装置の側面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図である。
【図１１】図１１は図８のXI−XI線から見た断面図である。
【図１２】図１２は上記蒸気発生装置の蓋体の上面図と正面図と側面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…加熱調理器
１０…本体ケーシング
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…調理室
２１…受皿
２２…ラック
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…放出口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…水位検知部
３２…第１給水パイプ
３４…第２給水パイプ
３３…ポンプ
３５…第１蒸気供給パイプ
３６…水タンク用水位センサ
３７…水タンク用収納部
４０…蒸気発生装置
４１…蒸発容器
４１a…開口部
４２Ａ…第１蒸気発生ヒータ
４２Ｂ…第２蒸気発生ヒータ
４３…温度センサ
４６…凸部
５０…蒸気昇温装置
５１…皿形ケース
５２…蒸気加熱ヒータ
６１…第２蒸気供給パイプ
６２…排気通路
６３…第２排気口
６４…放出通路
６５…第１排気口
６８…ダンパ
７１,７２…接続部
７１a…給水口
７２a…供給口
８０…制御装置
８１…調理室用温度センサ
８２…調理室用湿度センサ
９０…被加熱物
Ｓ…水溜部
【技術分野】
【０００１】
この発明は、蒸気発生装置および加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、ポット内の底近傍にヒータ部を配置し、そのヒータ部が浸かる程度にポット内に水を供給して、ヒータ部により水を加熱することによって蒸気を発生させる蒸気発生装置を備えたものがある(例えば、特開２００５−２４１１８７号公報(特許文献１)参照)。
【０００３】
この加熱調理器の蒸気発生装置では、ヒータ部が水に浸かるようにするため、ポット内に供給される水の量をさらに少なくすることができず、蒸気発生の立ち上がりをこれ以上早くできないという問題がある。また、上記加熱調理器の蒸気発生装置では、ポット内の底近傍にヒータ部が配置されているため、ヒータ部の取り付けが容易でなく、さらにポット内を簡単に清掃することができないという問題がある。ポット内において蒸気が発生する過程で、水に含まれるカルシウムやマグネシウムなどの無機塩類が濃縮されていき、スケールとなってポット内に析出して堆積すると、蒸気発生装置の熱効率が悪化する。
【特許文献１】特開２００５−２４１１８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、この発明の課題は、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置およびそれを用いた加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、この発明の蒸気発生装置は、
全体が略平板状の基部と、
上記基部の下側に取り付けられたヒータ部と、
上記基部上に水を供給する水供給部と、
上記基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むように上記基部に設けられ、上記水供給部から上記基部上に供給された水が上記所定の領域内から外側に広がりにくくするための畝状の凸部と
を備え、
上記ヒータ部により上記基部を加熱することによって、上記水供給部から上記基部上に供給された水を蒸発させることを特徴とする。
【０００６】
上記構成の蒸気発生装置によれば、上記基部に設けられた畝状の凸部によって、基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むようにして、水供給部から基部上に供給された水が基部上の所定の領域内から外側に広がりにくくしている。これにより、上記水供給部から基部上に供給された水は、上記所定の領域内にほぼ留まり、例えば基部の下側に取り付けられたヒータ部により上記所定の領域に熱が集中するように加熱することによって、加熱された基部上の所定の領域の水が効率よく蒸発して蒸気が発生する。そうして、上記基部上の水の蒸発の程度(基部の温度などにより判断)に応じて水供給部から水の供給を間欠的または連続的に行うことによって、蒸気を連続的に発生させることが可能となる。
【０００７】
したがって、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできる。また、全体が略平板状の基部の下側全体も略平面であるから、ポット内にヒータ部を取り付ける場合に比べてヒータ部の取り付けが極めて容易にできる。さらに、基部の上面は、畝状の凸部を除いて全体が略平面であるので、掃除が簡単に行える。なお、上記水供給部から基部上の所定の領域内に少量の水を間欠的または連続的に供給して、蒸気発生を繰り返すことができ、ポット内にヒータ部を配置したものに比べて基部を大幅に小さくすることが可能になり、この蒸気発生装置の小型化が図れる。
【０００８】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、
長手方向が略水平になるように配置され、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を備え、
上記略直方体形状の蒸発容器は、上記基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部を有し、その開口部に開閉自在な蓋体が取り付けられている。
【０００９】
上記実施形態によれば、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を、長手方向が略水平になるように配置して、その蒸発容器の基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部に、開閉自在な蓋体を取り付けているので、使用者が蓋体を取り外すことにより容易に蒸発容器内を掃除することができる。
【００１０】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、上記基部の下側にヒータ取付板を介して上記ヒータ部を取り付けている。
【００１１】
上記実施形態によれば、上記基部にヒータ部を直接取り付けると、基部の下側平面の一部にしかヒータ部が接触しないような場合でも、基部の下側にヒータ取付板を介してヒータ部を取り付けることによって、ヒータ部からの熱をヒータ取付板により均一に分散させて基部の下側(例えば所定の領域に対向する部分)をムラなく加熱でき、熱損失を低減できる。
【００１２】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、
上記ヒータ部は、複数本のシーズヒータであって、
上記複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータが他のシーズヒータよりも発熱量が大きい。
【００１３】
上記実施形態によれば、上記ヒータ部の複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータの発熱量を他のシーズヒータよりも大きくして、基部上でも最も水が存在する確率の高い給水側の領域に、他の領域よりもできるだけ熱を集中させることによって、蒸気発生の立ち上がりや効率を向上できる。
【００１４】
また、一実施形態の蒸気発生装置では、上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍かつ上記基部の下側に、上記基部の温度を検出する温度センサを配置している。
【００１５】
上記実施形態によれば、上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍に配置された温度センサによって、基部の温度変化を正確に測定することができる。
【００１６】
また、この発明の加熱調理器では、上記のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備えたことを特徴とする。
【００１７】
上記構成の加熱調理器によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を用いることによって、低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上より明らかなように、この発明の蒸気発生装置によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を実現することができる。
【００１９】
また、この発明の加熱調理器によれば、上記蒸気発生装置を用いることによって低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、この発明の蒸気発生装置および加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２１】
図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図を示している。この加熱調理器１は、直方体形状の本体ケーシング１０の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉１２を設けている。扉１２の右側に操作パネル１１を設け、扉１２の上部にハンドル１３を設けると共に、扉１２の略中央に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。
【００２２】
また、図２は加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、本体ケーシング１０内に直方体形状の調理室２０が設けられている。調理室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、調理室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、扉１２は、調理室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。調理室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、調理室２０内と外部とを断熱している。
【００２３】
また、調理室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２２が置かれている。なお、扉１２を開いた状態で、扉１２の上面側は略水平となって、被加熱物を取り出すときに一旦扉１２の上面に置くことができる。
【００２４】
さらに、本体ケーシング１０の調理室２０の右側に、水タンク３０を収納するための水タンク用収納部３７を設けている。水タンク３０は、前面側から後面側に向かって水タンク用収納部３７内に挿入される。
【００２５】
図３は、加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図である。図３に示すように、この加熱調理器１は、調理室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０等の動作を制御する制御装置８０とを備えている。調理室２０内に設置された受皿２１上には格子状のラック２２が載置され、そのラック２２の略中央に被加熱物９０が置かれる。そうして、被加熱物９０は、調理室２０の底面から間隔をあけた状態で調理室２０内に収容されている。
【００２６】
また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aは、水位検知部３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続可能になっている。そして、水位検知部３１に第１給水パイプ３２の一端が接続され、第１給水パイプ３２の他端にポンプ３３の吸込側が接続されている。また、そのポンプ３３の吐出側に第２給水パイプ３４の一端が接続され、第２給水パイプ３４の他端が蒸気発生装置４０に接続されている。さらに、水位検知部３１には、水タンク用水位センサ３６が配設されている。
【００２７】
上記水タンク用水位センサ３６は、長さが同じ２本の第１,第２電極と、その第１,第２電極よりも短い第３電極と、その第３電極よりもさらに短い第４電極からなる。水タンク用水位センサ３６の第１電極を共通電極として、長さの異なる第２〜第４電極により３つの水位を検出することができる。また、水タンク３０と第１給水パイプ３２とポンプ３３と第２給水パイプ３４で水供給部を構成している。
【００２８】
また、蒸気発生装置４０は、第２給水パイプ３４の他端が接続され、長手側の一方の側面に開口部４１aが設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１と、蒸発容器４１の下側に配置されたヒータ部の一例としての第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂと、蒸発容器４１の下側かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に配置された温度センサ４３と、蒸発容器４１の開口部４１aを蓋する蓋体４４とを有している。温度センサ４３を給水口７１a(図８に示す)の近傍に配置している。
【００２９】
また、調理室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側には、ファンケーシング２６を配置している。そして、ファンケーシング２６に設置された送風ファン２８によって、調理室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。また、蒸気発生装置４０で発生した蒸気は、送風ファン２８により第１蒸気供給パイプ３５を介して吸い込まれて、調理室２０内から吸い込まれた蒸気と合流し、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。
【００３０】
なお、図３では、調理室２０と蒸気発生装置４０は離れて示しているが、後述するように加熱室２０内の後面側側壁かつ加熱室２０の外側に、蓋体４４側が加熱室２０内に面するように取り付けられている。
【００３１】
上記ファンケーシング２６,第２蒸気供給パイプ６１および蒸気昇温装置５０で外部循環経路を形成している。また、調理室２０の側面の下側に設けられた放出口２７には放出通路６４の一端が接続され、放出通路６４の他端には第１排気口６５を設けている。さらに、循環経路を形成する第２蒸気供給パイプ６１には、排気通路６２の一端が接続され、排気通路６２の他端には第２排気口６３を設けている。また、第２蒸気供給パイプ６１と排気通路６２との接続点に、排気通路６２を開閉するダンパ６８を配置している。
【００３２】
また、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース５１と、この皿型ケース５１内に配置された蒸気加熱ヒータ５２とを有している。皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。
【００３３】
さらに、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３の他端は、調理室２０の両側面に沿って下方に延び、調理室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２４に接続されている。
【００３４】
次に、図４に示す加熱調理器１の制御ブロックについて説明する。
【００３５】
図４に示すように、制御装置８０には、送風ファン２８と、蒸気加熱ヒータ５２と、ダンパ６８と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂと、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、温度センサ４３と、調理室２０(図３に示す)内の温度を検出する調理室用温度センサ８１と、調理室２０内の湿度を検出する調理室用湿度センサ８２と、ポンプ３３が接続されている。
【００３６】
上記制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水タンク用水位センサ３６,温度センサ４３, 調理室用温度センサ８１および調理室用湿度センサ８２からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,蒸気加熱ヒータ５２,ダンパ６８,第１蒸気発生ヒータ４２Ａ,第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ,操作パネル１１およびポンプ３３を所定のプログラムに従って制御する。
【００３７】
図５は上記加熱調理器１の扉のない状態の正面図を示しており、図５に示すように、本体ケーシング１０の水タンク用収納部３７に、前面側から後面側に向かって水タンク３０を挿入している。また、本体ケーシング１０の調理室２０内の後面側の壁面には、右上側コーナー部の近傍に吸込口２５が設けられ、左下側コーナー部の近傍に放出口２７が設けられている。そして、調理室２０内の後面側壁面の中央部やや左側かつ調理室２０の外側に、蓋体４４により蓋された開口部４１a側が調理室２０側に面するように蒸気発生装置４０を配置している。なお、蒸気発生装置の取り付け位置はこれに限らず、調理室内の左右の側壁面のいずれか一方かつ調理室の外側に、開口部側が調理室側に面するように蒸気発生装置を配置してもよいし、開口部側が本体ケーシングの外側に面するように、本体ケーシング内かつ調理室の外側に蒸気発生装置を配置してもよい。
【００３８】
また、図６は上記加熱調理器１の本体ケーシング１０のない状態の裏面図を示している。なお、図６では、図を見やすくするため、水位検知部３１,第１給水パイプ３２,ポンプ３３,第２給水パイプ３４,水タンク用水位センサ３６および制御装置８０などを省略している。
【００３９】
図６に示すように、調理室２０(図５に示す)の後面側に蒸気発生装置４０を配置し、吸込口２５(図５に示す)の裏面側に、送風ファン２８が収納されたファンケーシング２６を配置している。このファンケーシング２６と蒸気発生装置４０とを第１蒸気供給パイプ３５を介して接続している。また、図５に示す放出口２７に放出通路６４の一端を接続し、上側の第１排気口６５(図３に示す)に放出通路６４の他端を接続している。
【００４０】
また、調理室２０の上側に配置された蒸気昇温装置５０からの蒸気供給通路２３,２３を、調理室２０の左右両側に設けている。
【００４１】
また、図７は加熱調理器１の蒸気発生装置４０の上面図を示し、図８は蒸気発生装置４０の正面図を示し、図９は蒸気発生装置４０の下面図を示している。
【００４２】
図７〜図９に示すように、この蒸気発生装置４０は、長手側の一方の側面(正面側)に開口部４１aが設けられた略直方体形状を有するアルミダイキャスト製の蒸発容器４１を備えている。この蒸発容器４１は、底部となる略長方形状の基部Ａと、その基部Ａの背面側の長辺から立設する壁部Ｂと、その基部Ａの左右両側の短辺から立設する壁部Ｃ,Ｄと、壁部Ｂ,Ｃ,Ｄの上端側かつ基部Ａに対向するように設けられた上板部Ｅとを有している。この実施の形態では、蒸発容器４１は幅が約２００ｍｍ、奥行きが約６０ｍｍ、高さが約５０ｍｍとなるように構成している。また、蒸発容器４１の裏面側の壁部Ｂの略中央に、第２給水パイプ３４(図３に示す)が接続される接続部７１を設けると共に、蒸発容器４１の上板部Ｅの略中央に、第１蒸気供給パイプ３５(図３に示す)が接続される接続部７２を設けている。蒸発容器４１の正面側の開口部４１aの縁にフランジ部７４を設け、そのフランジ部７４に外縁部が当接するように、蒸発容器４１の開口部４１aに開閉自在な蓋体４４を取り付けている。
【００４３】
また、図８に示すように、蓋体４４の中央に、略長方形状の耐熱ガラス製の窓４５を設けている。窓４５は透明であり、この窓４５を介して蒸発容器４１内部を視認することができるようになっているため、蒸発容器４１内部のスケールの付き具合をチェックして清掃のタイミングを知ることができる。
【００４４】
また、図９に示すように、両端に接続端子を有する棒状のシーズヒータである第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを、蒸発容器４１の基部Ａの下面側にヒータ取付板７３を介して蒸発容器４１の長手方向に沿って略平行に所定の間隔をあけて取り付けている。ヒータ取付板７３は、蒸発容器４１の基部Ａに溶接またははんだ付けにより接着されと共に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂは、ヒータ取付板７３にはんだ付けにより接着されている。これにより、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを蒸発容器４１の基部Ａにヒータ取付板７３を介して密着させて、熱伝導性を向上している。また、ヒータ取付板７３の略中央かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に温度センサ４３を取り付けている。
【００４５】
また、図１０Ａは上記蒸気発生装置４０の側面図を示しており、図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図を示している。図１０Ａ,図１０Ｂにおいて、図７〜図９に示す同一構成部には同一参照番号を付している。
【００４６】
図１０Ａ,図１０Ｂに示すように、蒸発容器４１の基部Ａには、畝状の凸部４６を設けている。この実施の形態では、凸部４６の断面形状は蒸発容器４１の基部Ａの基準面に対して高さが約３ｍｍ、幅が約７ｍｍの三角形状としている。また、図１０Ｂに示すように、畝状の凸部４６と裏面側の壁部Ｂに囲まれた所定の領域の水溜部Ｓに、接続部７１,給水口７１aを介して供給された水が溜まる。この実施の形態では、水溜部Ｓは幅が約１６０ｍｍ、奥行きが約４５ｍｍ、容量が約２０ｃｍ3としている。そして、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより基部Ａが加熱され、水溜部Ｓに溜まった水が蒸発して蒸気が発生し、発生した蒸気は、供給口７２a,接続７２を介して蒸気昇温装置５０に供給される。この実施の形態では、第１蒸気発生ヒータの出力は１０００Ｗ、第２蒸気発生ヒータの出力は５００Ｗとしている。
【００４７】
図１１は図８のXI−XI線から見た断面図を示しており、図１１に示すように、蒸発容器４１の基部Ａの凸部４６は、蒸発容器４１の開口部４１aの縁に沿って略平行にかつ基部Ａの前面側に設けられた直線部分４６aと、その直線部分４６aの両端から裏面側に向かって屈曲して延びるように設けられた屈曲部分４６b,４６cとを有する。ポンプ３３により水タンク３０から供給された水は、コの字状の凸部４６により三方を、壁部Ｂで残り一方を囲まれることにより四方を囲まれた所定の領域の水溜部Ｓに溜まる。この実施の形態では、１回の給水量は１６〜２０ｃｍ3の一定量としたが、給水量はこれに限らず、蒸気発生装置の形態などに応じて適宜設定してよい。例えば、この発明の蒸気発生装置の水供給部は、間欠的に給水する１回の水の量を供給毎に代えてもよいし、連続的に水を供給してもよく、それらを組み合わせて水の供給を制御してもよい。また、この実施の形態では、所定の領域をコの字状に囲むように畝状の凸部４６を基部Ａに設けたが、畝状の凸部の形状はこれに限らず、上記所定の領域の少なくとも一部を囲むものであればよい。
【００４８】
また、図１２(a)は上記蓋体４４の上面図を示し、図１２(b)は蓋体４４の側面図を示し、図１２(c)は蓋体４４の側面図を示している。この蓋体４４は、図１２に示すように、中央に窓４５が配置された耐熱樹脂製の本体部４４aと、その本体部４４aの前面側かつ外縁側に設けられたフランジ部４４bと、本体部４４aの外周に形成された環状の溝７５に嵌め込まれた耐熱性のシール部材７３とを有する。この蓋体４４の本体部４４aを蒸発容器４１(図７〜図１１に示す)の開口部４１aに嵌め込むことにより、蒸発容器４１の内周面と蓋体４４とをシール部材７３によりシールすると共に、蓋体４４が蒸発容器４１に固定されて蓋体４４の脱落を防止する。
【００４９】
上記構成の加熱調理器１において、図１に示す操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、図３に示す制御装置８０は、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを通電し、ダンパ６８により排気通路６２を閉じた状態でポンプ３３の運転を開始する。ポンプ３３により水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に給水される。
【００５０】
そして、蒸発容器４１内に溜まった所定量の水を第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより加熱する。
【００５１】
次に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂの通電と同時に、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、調理室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、第２蒸気供給パイプ６１に空気(蒸気を含む)を送り出す。この送風ファン２８に遠心ファンを用いることによって、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
【００５２】
次に、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、第１蒸気供給パイプ３５を介して送風ファン２８により吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を通る循環気流に合流する。循環気流に合流した蒸気は、第２蒸気供給パイプ６１を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。
【００５３】
そして、蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２４から噴出する。
【００５４】
ここで、加熱室２０内において、中央部では上昇し、その外側では吹き下ろすという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、循環経路を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。
【００５５】
なお、調理中、制御装置８０は、温度センサ４３により検出された蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度が、１１０℃〜１２０℃では基部Ａ上に水があると判断する。一方、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が、例えば１４０℃以上になると基部Ａ上の水が無くなったと判断して、ポンプ３３を運転して、水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を供給する。このようにして、蒸発容器４１の基部Ａの温度変化に基づいて、制御装置８０が蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を間欠的に供給することによって、ほぼ連続して蒸気が発生する。
【００５６】
このようにして加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面蒸気吹出口２４から噴出して、ラック２２上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。また、過熱蒸気が充満した加熱室２０内は、約１％程度の低酸素濃度状態になるので、被加熱物９０の酸化を抑え、ビタミンＣ等が損なわれることがない。
【００５７】
また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、調理室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４を介して第１排気口６５から外部に放出される。
【００５８】
調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排気通路６２のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、循環経路の第２蒸気供給パイプ６１が排気通路６２を介して第２排気口６３に連通し、調理室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第２蒸気供給パイプ６１および排気通路６２を介して第２排気口６３から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。これにより、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を調理室２０内から取り出すことができる。
【００５９】
上記構成の加熱調理器１によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置を実現することができる。また、調理終了時に蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に水が残らないように、水供給部からの水の供給やヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の通電を制御することによって、蒸発容器４１の排水を行う必要がなく、衛生面が向上すると共に、排水バルブや排水経路などが不要となり、構成を簡略化して小型化と低コスト化を図ることができる。さらに、上記水供給部から基部Ａ上の所定の領域内に少量の水を間欠的に供給して蒸気発生を繰り返すことができ、ポット内にヒータ部を配置したものに比べて基部Ａを大幅に小さくすることが可能になり、この蒸気発生装置の小型化が図れる。
【００６０】
また、上記蒸気発生装置４０の基部Ａが略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器４１を、長手方向が略水平になるように配置して、その蒸発容器４１の基部Ａの一方の長辺側の側面に設けられた開口部４１aに、開閉自在な蓋体４４を取り付けることによって、使用者が蓋体４４を取り外して容易に蒸発容器４１内を掃除することができる。なお、蓋体の開閉構造はこれに限らず、他の構造の開閉自在な蓋体を用いたものにこの発明を適用してもよい。例えば、調理室２０の壁面側に蓋体の開閉構造を設けてもよい。
【００６１】
また、上記基部Ａの下側にヒータ取付板７３を介してヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)を取り付けることによって、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)からの熱がヒータ取付板７３により均一に分散されて、基部Ａの下側をムラなく加熱でき、熱損失を低減して、効率を向上できる。
【００６２】
また、上記ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に用いられた２本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータ(４２Ａ)の発熱量を他のシーズヒータ(４２Ｂ)よりも大きくして、基部Ａ上でも最も水が存在する給水側の領域に、他の領域よりもできるだけ熱を集中させることによって、蒸気発生の効率を向上できる。この実施の形態では、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に２本のシーズヒータを用いたが、３本以上のシーズヒータを用いてもよいし、他の加熱手段を用いてもよい。
【００６３】
また、上記水供給部から基部Ａ上に水を供給するための給水口７１aの近傍に温度センサ４３を配置することによって、その温度センサ４３により基部Ａの温度変化を正確に測定することができる。
【００６４】
また、この発明の加熱調理器によれば、低コストで高性能な加熱調理器を実現することができる。
【００６５】
また、上記構成の蒸気発生装置４０によれば、蓋体４４により蒸発容器４１の開口部４１aを閉じた状態でヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)により蒸発容器４１を加熱することによって、給水口７１aから給水された水溜部Ｓの水を蒸発させて、蒸発容器４１内から供給口７２aを介して外部に蒸気を供給することが可能となる。そして、上記蓋体４４を開いて蒸発容器４１の側面に設けられた開口部４１aを介して蒸発容器４１の内部をあらわにすることによって、蒸発容器４１内に手が入れやすくなる。したがって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる衛生的な蒸気発生装置４０を実現することができる。
【００６６】
また、上記蒸発容器４１の開口部４１aが設けられた側面に開閉可能に蓋体４４を設けることによって、蒸発容器４１の開口部４１aと蓋体４４との嵌め合わせが確実にでき、蒸発容器４１の開口部４１aのシール性を向上できる。
【００６７】
また、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の内壁面に設けることによって、調理室２０内側から見て蓋体４４を開いた蒸発容器４１の内部は開口部４１aを介してあらわになり、調理室２０から蒸発容器４１内に手が入れやすくなって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる。なお、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を本体ケーシング１０の外壁面に設けてもよく、この場合、本体ケーシングの外側から見て蒸発容器の内部が開口部を介してあらわになり、外側から蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。
なお、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０側に蓋体４４を設けたが、蓋体を調理室の内壁面に設けてもよい。この場合、蒸発容器の蓋体が調理室の内壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、調理室２０の内壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器４１側よりも蓋体４４を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。また、上記開口部を開閉可能にする蓋体を本体ケーシングの外壁面に設けてもよく、この場合も、蒸発容器の蓋体が本体ケーシングの外壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、本体ケーシングの外壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器側よりも蓋体を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。
【００６８】
また、この実施の形態では、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の後面側の内壁面に設けられた開口に、蒸発容器４１の開口部４１aが対向するように蒸気発生装置４０を本体ケーシング１０内に配置したが、調理室内に蒸気発生装置を配置してもよい。この場合、蓋体を開いた蒸発容器の内部は開口部を介してあらわになり、調理室の蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。
【００６９】
また、上記実施の形態では、長手側の一方の側面に開口部４１aが設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１を備えた蒸気発生装置４０について説明したが、蒸気発生装置の蒸発容器の形状はこれに限らず、全体が略平板状の基部を有するものであればよい。
【００７０】
また、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０を用いた加熱調理器１について説明したが、加熱調理器に限らず、蒸気を用いる他の装置にこの発明の蒸気発生装置を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図である。
【図２】図２は図１に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図３】図３は図１に示す加熱調理器の概略構成図である。
【図４】図４は図１に示す加熱調理器の制御ブロック図である。
【図５】図５は上記加熱調理器の扉のない状態の正面図である。
【図６】図６は上記加熱調理器の本体ケーシングのない状態の裏面図である。
【図７】図７は上記加熱調理器の蒸気発生装置の上面図である。
【図８】図８は上記蒸気発生装置の正面図である。
【図９】図９は上記蒸気発生装置の下面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは上記蒸気発生装置の側面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図である。
【図１１】図１１は図８のXI−XI線から見た断面図である。
【図１２】図１２は上記蒸気発生装置の蓋体の上面図と正面図と側面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…加熱調理器
１０…本体ケーシング
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…調理室
２１…受皿
２２…ラック
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…放出口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…水位検知部
３２…第１給水パイプ
３４…第２給水パイプ
３３…ポンプ
３５…第１蒸気供給パイプ
３６…水タンク用水位センサ
３７…水タンク用収納部
４０…蒸気発生装置
４１…蒸発容器
４１a…開口部
４２Ａ…第１蒸気発生ヒータ
４２Ｂ…第２蒸気発生ヒータ
４３…温度センサ
４６…凸部
５０…蒸気昇温装置
５１…皿形ケース
５２…蒸気加熱ヒータ
６１…第２蒸気供給パイプ
６２…排気通路
６３…第２排気口
６４…放出通路
６５…第１排気口
６８…ダンパ
７１,７２…接続部
７１a…給水口
７２a…供給口
８０…制御装置
８１…調理室用温度センサ
８２…調理室用湿度センサ
９０…被加熱物
Ｓ…水溜部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全体が略平板状の基部と、
上記基部の下側に取り付けられたヒータ部と、
上記基部上に水を供給する水供給部と、
上記基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むように上記基部に設けられ、上記水供給部から上記基部上に供給された水が上記所定の領域内から外側に広がりにくくするための畝状の凸部と
を備え、
上記ヒータ部により上記基部を加熱することによって、上記水供給部から上記基部上に供給された水を蒸発させることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸気発生装置において、
長手方向が略水平になるように配置され、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を備え、
上記略直方体形状の蒸発容器は、上記基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部を有し、その開口部に開閉自在な蓋体が取り付けられていることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の蒸気発生装置において、
上記基部の下側にヒータ取付板を介して上記ヒータ部を取り付けたことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の蒸気発生装置において、
上記ヒータ部は、複数本のシーズヒータであって、
上記複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータが他のシーズヒータよりも発熱量が大きいことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の蒸気発生装置において、
上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍かつ上記基部の下側に、上記基部の温度を検出する温度センサを配置していることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項１】
全体が略平板状の基部と、
上記基部の下側に取り付けられたヒータ部と、
上記基部上に水を供給する水供給部と、
上記基部上の所定の領域の少なくとも一部を囲むように上記基部に設けられ、上記水供給部から上記基部上に供給された水が上記所定の領域内から外側に広がりにくくするための畝状の凸部と
を備え、
上記ヒータ部により上記基部を加熱することによって、上記水供給部から上記基部上に供給された水を蒸発させることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸気発生装置において、
長手方向が略水平になるように配置され、上記基部が略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器を備え、
上記略直方体形状の蒸発容器は、上記基部の一方の長辺側の側面に設けられた開口部を有し、その開口部に開閉自在な蓋体が取り付けられていることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の蒸気発生装置において、
上記基部の下側にヒータ取付板を介して上記ヒータ部を取り付けたことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１つに記載の蒸気発生装置において、
上記ヒータ部は、複数本のシーズヒータであって、
上記複数本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータが他のシーズヒータよりも発熱量が大きいことを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の蒸気発生装置において、
上記水供給部から上記基部上に水を供給するための給水口の近傍かつ上記基部の下側に、上記基部の温度を検出する温度センサを配置していることを特徴とする蒸気発生装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１つに記載の蒸気発生装置を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００８−８５３４（Ｐ２００８−８５３４Ａ）
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７７７４６（Ｐ２００６−１７７７４６）
【出願日】平成１８年６月２８日（２００６．６．２８）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２８日（２００６．６．２８）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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