表示装置
【課題】表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンによるショートを防止することができる表示装置を提供すること。
【解決手段】流体の注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなるシール部２３を間にして貼り合わされた貼り合せ基板１１と、注入口２３ｂを封止する封止材９０と、貼り合わせ基板１１の端部に設けられ、複数の金属膜パターン３０と、長方形状の基部２４ａを有し、基部２４ａの短手方向に並設された複数の外部接続用端子２４とを有してなる表示パネル１０を備える表示装置であって、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０は、長方形状のパターン基部３０ａを有し、パターン基部３０ａの短手方向中心位置が、基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅が、同一の並び位置の基部２４ａの短手方向の幅以下に形成されてなる。
【解決手段】流体の注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなるシール部２３を間にして貼り合わされた貼り合せ基板１１と、注入口２３ｂを封止する封止材９０と、貼り合わせ基板１１の端部に設けられ、複数の金属膜パターン３０と、長方形状の基部２４ａを有し、基部２４ａの短手方向に並設された複数の外部接続用端子２４とを有してなる表示パネル１０を備える表示装置であって、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０は、長方形状のパターン基部３０ａを有し、パターン基部３０ａの短手方向中心位置が、基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅が、同一の並び位置の基部２４ａの短手方向の幅以下に形成されてなる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンを有してなる表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示装置に備えられる表示パネルは、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされ、注入口から流体を注入することによって貼り合わせ基板の間に流体を保持するようになっている。例えば、液晶表示装置は、画素電極、薄膜トランジスタ等を有してなるＴＦＴ基板と、カラーフィルタ等を有してなるＣＦ基板とが、ＴＦＴ基板上に枠状に形成されたシール部によって貼り合わされ、注入口から流体である液晶材が注入され、絶縁樹脂等からなる封止材によって注入口が封止されることによってＴＦＴ基板と、ＣＦ基板との間に液晶材を保持するようになっている。
【０００３】
このような表示装置では、封止材が注入口から基板の外形外に拡がるため、その位置および寸法を規格内に収めないと、表示パネルを表示装置の筺体等へ取り付ける際、封止材が邪魔となって取り付けが困難になってしまう。このため、注入口部の近傍に封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンを形成し、この金属膜パターンを基準として封止材の位置および寸法が規格内であるか否かを判断するようにした液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、製品取得率を向上するため、切断線によって複数の液晶表示パネルの製品形成領域が区画され、各製品形成領域に画素電極、薄膜トランジスタ等を有してなるマルチＴＦＴ基板と、各製品形成領域にカラーフィルタ等を有してなるマルチＣＦ基板とを、製品形成領域ごとに形成されたシール部を介して貼り合わせた大型貼り合わせ基板を、切断線に沿って分割するようにした液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２５３３１号公報
【特許文献２】特開２００８−３０４４９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この特許文献２に記載された液晶表示装置の大型貼り合わせ基板は、一つの製品形成領域の注入口部が隣接する製品形成領域にはみ出して形成されることによって、大型貼り合わせ基板の面内に効率的に各製品形成領域を配置（以下、フルジャスト配置という。）するようにしている。このようなフルジャスト配置を用いた場合、上述の金属膜パターンが注入口部と同様に一つの製品形成領域から隣接する製品形成領域にはみ出して形成されることになる。
【０００７】
しかしながら、このようなフルジャスト配置では、隣接する製品形成領域にはみ出した金属膜パターンが、はみ出した側の製品形成領域の外部接続用端子の近傍に配置されると、この外部接続用端子の接続相手となるフレキシブルプリント基板等の端子が、外部接続用端子と熱圧着されて絶縁層の破壊が発生した場合、金属膜パターンが端子間でのショートを発生させてしまうという問題があった。
【０００８】
この金属膜パターンによるショートの問題を解消するため、金属膜パターンに代わって、絶縁性の材料からなるパターンを用いることが考えられるが、絶縁性の材料からなるパターンは視認性が悪いという問題があった。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンによるショートを防止することができる表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる表示装置は、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であって、前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンは、該金属膜パターンの基部となる長方形状のパターン基部を有し、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記各金属膜パターンは、前記外部接続端子と同層に形成されることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記金属膜パターンは、近傍に集約して並設させた複数の前記金属膜パターンからなる金属膜パターン群ごとに配置されることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記金属膜パターン群は、前記注入口部の各側部近傍に二箇所ずつ配置されることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記各金属膜パターンは、前記前記外部接続端子に比して間隔をあけて並設されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明にかかる表示装置は、前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンが、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなるので、前記表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンによるショートを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の実施の形態にかかる表示装置の模式図である。
【図２】図２は、図１に示した表示装置の一部断面を示した要部拡大側面図である。
【図３】図３は、図１に示した表示パネルの表示領域の要部断面図である。
【図４】図４は、図１に示した表示パネルの製造に用いられる大型貼り合わせ基板の模式図である。
【図５】図５は、図４に示した大型貼り合わせ基板の要部拡大図である。
【図６】図６は、図１に示した金属膜パターンの拡大図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態の変形例１の金属膜パターンを示した図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態の変形例２の金属膜パターンを示した図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態の変形例３の金属膜パターンを示した図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態の変形例４の金属膜パターンを示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明にかかる表示装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【００１８】
（実施の形態）
図１は、本発明の実施の形態にかかる表示装置１の模式図である。図２は、図１に示した表示装置１の一部断面を示した要部拡大側面図である。
本発明の実施の形態にかかる表示装置１は、表示パネル１０内の流体を封止する封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターン３０を有してなるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。この表示装置１は、表示パネル１０と、フレキシブルプリント基板ＦＰＣと、不図示の制御部とを有してなる。
【００１９】
まず、表示パネル１０について説明する。
表示パネル１０は、液晶材ＬＣの注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなるシール部２３を間にして貼り合わされた貼り合せ基板１１を有してなる。
貼り合せ基板１１は、より具体的には、長方形状のＴＦＴ基板２０、および短辺の長さがＴＦＴ基板２０の短辺の長さとほぼ等しく長辺の長さがＴＦＴ基板２０の長辺の長さに比して短い長方形状のＣＦ基板５０を有し、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０とが液晶材ＬＣを間に挟持して対向配置されている。また、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との寸法の差によってＴＦＴ基板２０にはＣＦ基板５０と重畳しない領域（以下、非重畳領域ＡＲ２という。）が設けられるようになっている。
【００２０】
ＴＦＴ基板２０は、画素電極ＰＸ、薄膜トランジスタＴＦＴ等を有してなる基板である。
このＴＦＴ基板２０は、端子部２１、駆動回路２２、シール部２３、および複数の金属膜パターン３０を有してなる。
【００２１】
端子部２１は、非重畳領域ＡＲ２に設けられ、複数の外部接続用端子２４を有してなる。各外部接続用端子２４は、表示パネル１０に外付けされる回路からの信号や電力を表示パネル１０内に取り込む端子である。これら各外部接続用端子２４は、長方形状の基部２４ａを有し、基部２４ａの短手方向に並設されている。
この実施の形態では、各外部接続用端子２４は、フレキシブルプリント基板ＦＰＣの各接続端子６０と電気的かつ機械的に接続され、フレキシブルプリント基板ＦＰＣを介して供給された信号や電力を表示パネル１０内に取りこむ。
【００２２】
駆動回路２２は、非重畳領域ＡＲ２に設けられ、端子部２１を介して表示パネル１０内に取りこまれた映像信号、走査信号に基づいて後述するゲート信号線ＧＬ、ドレイン信号線ＤＬを駆動するものである。なお、フレキシブルプリント基板ＦＰＣから複数の画素の対向電極ＣＴに供給される基準電圧は、駆動回路２２を介さずに外部接続用端子２４から直接印加されるようになっている。
シール部２３は、熱硬化性の樹脂からなり、貼り合わせ対象となるＣＦ基板５０の外形形状に沿うようにＴＦＴ基板２０上に額縁状に形成される。このシール部２３は、液晶材ＬＣの注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなる。このようなシール部２３は、注入口２３ｂから注入された液晶材ＬＣをＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との間に保持するとともに、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０とを接着する機能をなしている。なお、シール部２３は、ＣＦ基板５０に形成されるようにしてもよい。
【００２３】
金属膜パターン３０は、封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンであり、端子部２１と同層の金属膜によって形成されてなる。なお、この金属膜パターン３０については、後段にてさらに詳細に説明する。
【００２４】
液晶材ＬＣは、シール部２３の注入口２３ｂから注入され、樹脂等からなる封止材９０によって注入口２３ｂが塞がれることによって、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との間に保持される。
また、表示パネル１０は、複数のゲート信号線ＧＬおよび複数のドレイン信号線ＤＬを有する。ゲート信号線ＧＬは、ＴＦＴ基板２０の表示領域ＡＲ１における液晶材ＬＣ側の面に図中Ｘ方向に延在し、Ｙ方向に並設されている。ドレイン信号線ＤＬは、ゲート信号線ＧＬと絶縁されて図中Ｙ方向に延在し、Ｘ方向に並設されている。これら各信号線ＧＬ，ＤＬによって囲まれた各領域がそれぞれ画素領域となる。各ゲート信号線ＧＬおよび各ドレイン信号線ＤＬは、その一端がシール部２３を超えて延在され、駆動回路２２に接続されている。
【００２５】
次に、フレキシブルプリント基板ＦＰＣについて説明する。
フレキシブルプリント基板ＦＰＣは、表示パネル１０と、不図示の制御部とを接続する回路基板で、各外部接続用端子２４に電気的、かつ機械的に接続される複数の接続端子６０を有してなる。この接続端子６０は、外部接続用端子２４に対応して形成されてなり、図２に示すように、異方性導電膜ＡＣＦを介して外部接続用端子２４に接続される。なお、接続端子６０と外部接続用端子２４とを接続させる際、接続端子６０と外部接続用端子２４とが異方性導電膜ＡＣＦを介して熱圧着される。
【００２６】
不図示の制御部は、ＣＰＵ等によって実現され、表示装置１の各部と電気的に接続され、表示装置１全体の動作を制御する。また、この不図示の制御部は、外部システムから入力された映像データを一時的に保持する図示しないメモリ等を有してなる。
【００２７】
次に、図３を用いて表示パネル１０の断面構成について説明する。図３は、図１に示した表示パネル１０の表示領域ＡＲ１の要部断面図である。
まず、ＴＦＴ基板２０の断面について説明する。ＴＦＴ基板２０は、ガラス等からなる透明な基板である基板ＳＵＢ１の液晶材ＬＣ側の面に、金属材料からなるゲート信号線ＧＬが形成されている。
なお、このゲート信号線ＧＬを形成する際、ゲート信号線ＧＬと同じ金属膜によって外部接続用端子２４および金属膜パターン３０が形成される。
基板ＳＵＢ１の表面には、ゲート信号線ＧＬを含めて基板ＳＵＢ１の表面を被う絶縁膜ＧＩが形成される。この絶縁膜ＧＩは、窒化シリコン等の無機材料からなり、薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するものである。
【００２８】
絶縁膜ＧＩの液晶材ＬＣ側の面であってゲート信号線ＧＬの一部に重畳する薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域には、たとえばアモルファスシリコンからなる半導体層ＡＳが形成されている。薄膜トランジスタＴＦＴは、半導体層ＡＳの表面に、互いに対向配置されたドレイン電極ＤＴ、ソース電極ＳＴが形成されることによって、ゲート信号線ＧＬの一部をゲート電極とするトランジスタが構成されるようになっている。
【００２９】
ドレイン電極ＤＴは、ドレイン信号線ＤＬの一部を半導体層ＡＳの表面に延在させることにより形成される。すなわち、絶縁膜ＧＩの液晶材ＬＣ側の面にはドレイン信号線ＤＬが形成されている。また、ソース電極ＳＴは、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に形成される。ソース電極ＳＴは、半導体層ＡＳの形成領域を超えて画素領域に延在するパッド部ＰＤを有する。このパッド部ＰＤは画素電極ＰＸと電気的に接続される部分である。
また、ドレイン電極ＤＴ（ドレイン信号線ＤＬ）等の上面には有機材料からなる絶縁膜ＰＡＳが形成されている。
【００３０】
絶縁膜ＰＡＳの表面には、コモン信号線ＣＬが形成されている。このコモン信号線ＣＬは、対向電極ＣＴを兼備した構成となっている。コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性導電膜からなる。コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）等の上部には、無機材料からなる絶縁膜ＬＩが形成されている。
【００３１】
絶縁膜ＬＩの上面の各画素領域には、画素電極ＰＸが形成されている。絶縁膜ＬＩは、画素電極ＰＸと対向電極ＣＴとの間の絶縁膜として機能する。画素電極ＰＸは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性導電膜からなる。画素電極ＰＸは、絶縁膜ＬＩおよび絶縁膜ＰＡＳを貫通して形成されたスルーホールＴＨを介してソース電極ＳＴのパッド部ＰＤに電気的に接続されている。画素電極ＰＸ等の上部には、配向膜ＯＲＩ１が形成されている。配向膜ＯＲＩ１は、液晶材ＬＣの初期配向方向を決定するものである。
【００３２】
次に、ＣＦ基板５０について説明する。ＣＦ基板５０は、ガラス等からなる透明な基板である基板ＳＵＢ２の液晶材ＬＣ側の面に、遮光膜ＢＭ、着色膜ＣＦ、保護膜ＯＣ、配向膜ＯＲＩ２が順次形成されている基板である。遮光膜ＢＭは、黒色の樹脂からなり、着色膜ＣＦの間に配置される遮光膜である。
着色膜ＣＦは、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の三原色をもつ染料あるいは顔料を含んだ樹脂膜である。
保護膜ＯＣは、樹脂からなり、着色膜ＣＦの表面を保護するとともに表面を平坦化するための膜である。配向膜ＯＲＩ２は、液晶材ＬＣの初期配向方向を決定するものである。
【００３３】
次に、図４および図５を用いて表示パネル１０の製造に用いられる大型貼り合わせ基板１００について説明する。図４は、図１に示した表示パネル１０の製造に用いられる大型貼り合わせ基板１００の模式図である。図５は、図４に示した大型貼り合わせ基板１００の要部拡大図である。なお、図４中の記号Ｌ２で示す線は、非重畳領域ＡＲ２を形成するためのＣＦ基板の切断線である。
【００３４】
大型貼り合わせ基板１００は、製品取得率を向上するため、切断線Ｌ１によって複数の製品形成領域が区画され、各製品形成領域ＷＡにＴＦＴ基板２０がフルジャスト配置されてなるマルチＴＦＴ基板１１０と、各製品形成領域ＷＡにＣＦ基板５０がフルジャスト配置されてなるマルチＣＦ基板１２０とを、シール部２３を介して貼り合わせた基板である。なお、図５では、製品形成領域ＷＡが３行、３列で区画されるものを示したが、区画数はこれに限らず、その他の区画数であってもよい。
このような大型貼り合わせ基板１００は、図５に示すように、一つの製品形成領域ＷＡの注入口部２３ａの一部が隣接する製品形成領域ＷＡにはみ出して形成されることによって、製品取得率を向上している。このため、注入口部２３ａとともに上述の金属膜パターン３０の一部が端子部２１近傍に形成されることになる。
【００３５】
ここで金属膜パターン３０についてさらに詳細に説明する。図６は、図１に示した金属膜パターン３０の拡大図である。
金属膜パターン３０は、図６に示すように、金属膜パターン３０の基部となる長方形状のパターン基部３０ａを有してなる。この金属膜パターン３０ａは、短手方向中心位置Ｐが、外部接続用端子２４の基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅ｔ１が、同一の並び位置の外部接続用端子２４の基部２４ａの短手方向の幅ｔ２と等しく形成されてなる。
【００３６】
このような、金属膜パターン３０は、フレキシブルプリント基板ＦＰＣの接続端子６０が、外部接続端子２４に接続され、例えば、ＴＦＴ基板２０の絶縁層に破壊が発生したとしても、外部接続端子２４の間隔と等しい間隔を設けて配置されているため、ショートが発生し難いようになっている。
【００３７】
また、この実施の形態では、金属膜パターン３０は、視認性を考慮して、近傍に集約して並設させた３つの金属パターン３０からなる金属膜パターン群４０ごとに配置される。この金属膜パターン群４０は、注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されている。
これによって、図１に示すように、注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に配置された二箇所の金属膜パターン群４０の間に封止材９０の縁９０ａ，９０ｂが位置している場合、封止材９０の位置および寸法精度が規格内であると判断することができる。
【００３８】
本発明の実施の形態の表示装置１は、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０が、パターン基部３０ａの短手方向中心位置が、基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅が、同一の並び位置の基部２４ａの短手方向の幅以下に形成されてなるので、表示パネル１０内の液晶材ＬＣを封止する封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターン３０によるショートを防止することができる。
【００３９】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０が、外部接続端子２４と同層に形成されるので金属膜パターンを容易に形成することができる。
【００４０】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、金属膜パターン３０が、近傍に集約して並設させた複数の金属膜パターン３０からなる金属膜パターン群４０ごとに配置されるので、良好な視認性を確保することができる。
【００４１】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、金属膜パターン群４０が注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されるので、封止材９０の縁のあるべき位置を容易に確認することができ、結果的に封止材９０の位置および寸法精度確認を容易に行うことができる。
【００４２】
（変形例１）
ここで、図７を用いて本発明の実施の形態の変形例１について説明する。図７は、本発明の実施の形態の変形例１の金属膜パターン７０を示した図である。
この変形例１の金属膜パターン７０は、パターン基部７０ａの短手方向中心位置の間隔が基部の短手方向中心位置の間隔と等しくなるように並設され、パターン基部７０ａの短手方向の幅ｔ１が基部２４ａの短手方向の幅ｔ２より小さく形成されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例１の金属膜パターン７０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン７０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、パターン基部７０ａの短手方向の幅は、視認性を低下させない程度の幅に設定するとよい。
【００４３】
（変形例２）
次に、図８を用いて本発明の実施の形態の変形例２について説明する。図８は、本発明の実施の形態の変形例２の金属膜パターン３０を示した図である。
この変形例２の金属膜パターン３０は、並設された外部接続用端子２４を一つ分空けて三つの金属膜パターン３０が並設されることによって金属膜パターン群４１を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例２の金属膜パターン３０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されている部分があるので、金属膜パターン３０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。
【００４４】
（変形例３）
次に、図９を用いて本発明の実施の形態の変形例３について説明する。図９は、本発明の実施の形態の変形例３の金属膜パターン３０を示した図である。
この変形例３の金属膜パターン３０は、並設された外部接続用端子２４を一つ分空けて二つの金属膜パターン３０が並設されることによって金属膜パターン群４２を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例３の金属膜パターン３０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン３０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、金属膜パターン３０の間隔は、視認性を低下させない程度の間隔に設定するとよい。
【００４５】
（変形例４）
次に、図１０を用いて本発明の実施の形態の変形例４について説明する。図１０は、本発明の実施の形態の変形例４の金属膜パターン３０を示した図である。
この実施の形態では、金属膜パターン群４０が注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されるものを例示したが、この変形例４では、注入口部２３ａの一方の側部２３ａ１近傍の三箇所に金属膜パターン群４０ａ，４０ｂ，４０ｃが配置され、他方の側部２３ａ２近傍には、二箇所に金属膜パターン群４０ｄ，４０ｅが配置されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例４の金属膜パターン４０は、金属膜パターン４０ｂと金属膜パターン４０ｃとの間、および金属膜パターン４０ｄと金属膜パターン４０ｅとの間で封止材９０の縁９０ａ，９０ｂの位置を確認するようになっている。また、金属膜パターン４０ａが、金属膜パターン４０ｂと金属膜パターン４０ｃ間を最初に検査することを示す表示となっている。
これにより、封止材９０の位置および寸法精度確認の作業手順の標準化が容易となる。
【００４６】
なお、この実施の形態では、金属膜パターン３０，７０を目視するものとして説明したが、これに限らず、検査装置を用いて封止材９０の位置および寸法精度の良否を判定するようにしてもよい。例えば、Ｘ線を透過させて金属膜パターン３０，７０を検出する装置を用いて封止材９０の位置および寸法精度の良否を判定するようにしてもよい。
【００４７】
また、本発明の実施の形態では表示装置１として、液晶表示装置を例示したが、これに限らない。すなわち、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であればその他の表示装置であっても構わない。
【００４８】
また、本発明の実施の形態では、表示装置１がフレキシブルプリント基板ＦＰＣを有してなるものを例示したが、これに限らない。すなわち、外部接続用端子２４に電気的、機械的に接続される接続端子６０を有してなる回路基板であればその他のものを用いても構わない。例えば、フレキシブルプリント基板ＦＰＣに代わって、いわゆるリジッドフレキシブルプリント基板を用いてもよい。
【００４９】
以上、本発明者によってなされた発明を、上述した発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上述した発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１ 表示装置
１０ 表示パネル
１１ 貼り合わせ基板
２０ ＴＦＴ基板
２１ 端子部
２２ 駆動回路
２３ シール部
２３ａ 注入口部
２３ａ１、２３ａ２ 側部
２３ｂ 注入口
２４ 外部接続用端子
２４ａ 基部
３０、７０、 金属膜パターン
３０ａ、７０ａ パターン基部
４０、４１、４２ 金属膜パターン群
５０ ＣＦ基板
６０ 接続端子
９０ 封止材
９０ａ、９０ｂ 縁
１００ 大型貼り合わせ基板
１１０ マルチＴＦＴ基板
１２０ マルチＣＦ基板
ＰＸ 画素電極
ＴＦＴ 薄膜トランジスタ
ＬＣ 液晶材
ＡＲ２ 非重畳領域
ＡＲ１ 表示領域
ＦＰＣ フレキシブルプリント基板
ＣＴ 対向電極
ＧＬ ゲート信号線
ＤＬ ドレイン信号線
ＡＣＦ 異方性導電膜
ＳＵＢ１ 基板
ＧＩ 絶縁膜
ＡＳ 半導体層
ＤＴ ドレイン電極
ＳＴ ソース電極
ＰＤ パッド部
ＰＡＳ 絶縁膜
ＣＬ コモン信号線
ＬＩ 絶縁膜
ＴＨ スルーホール
ＯＲＩ１ 配向膜
ＳＵＢ２ 基板
ＢＭ 遮光膜
ＣＦ 着色膜
ＯＣ 保護膜
ＯＲＩ２ 配向膜
Ｌ１、Ｌ２ 切断線
ＷＡ 製品形成領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンを有してなる表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示装置に備えられる表示パネルは、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされ、注入口から流体を注入することによって貼り合わせ基板の間に流体を保持するようになっている。例えば、液晶表示装置は、画素電極、薄膜トランジスタ等を有してなるＴＦＴ基板と、カラーフィルタ等を有してなるＣＦ基板とが、ＴＦＴ基板上に枠状に形成されたシール部によって貼り合わされ、注入口から流体である液晶材が注入され、絶縁樹脂等からなる封止材によって注入口が封止されることによってＴＦＴ基板と、ＣＦ基板との間に液晶材を保持するようになっている。
【０００３】
このような表示装置では、封止材が注入口から基板の外形外に拡がるため、その位置および寸法を規格内に収めないと、表示パネルを表示装置の筺体等へ取り付ける際、封止材が邪魔となって取り付けが困難になってしまう。このため、注入口部の近傍に封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンを形成し、この金属膜パターンを基準として封止材の位置および寸法が規格内であるか否かを判断するようにした液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、製品取得率を向上するため、切断線によって複数の液晶表示パネルの製品形成領域が区画され、各製品形成領域に画素電極、薄膜トランジスタ等を有してなるマルチＴＦＴ基板と、各製品形成領域にカラーフィルタ等を有してなるマルチＣＦ基板とを、製品形成領域ごとに形成されたシール部を介して貼り合わせた大型貼り合わせ基板を、切断線に沿って分割するようにした液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２５３３１号公報
【特許文献２】特開２００８−３０４４９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この特許文献２に記載された液晶表示装置の大型貼り合わせ基板は、一つの製品形成領域の注入口部が隣接する製品形成領域にはみ出して形成されることによって、大型貼り合わせ基板の面内に効率的に各製品形成領域を配置（以下、フルジャスト配置という。）するようにしている。このようなフルジャスト配置を用いた場合、上述の金属膜パターンが注入口部と同様に一つの製品形成領域から隣接する製品形成領域にはみ出して形成されることになる。
【０００７】
しかしながら、このようなフルジャスト配置では、隣接する製品形成領域にはみ出した金属膜パターンが、はみ出した側の製品形成領域の外部接続用端子の近傍に配置されると、この外部接続用端子の接続相手となるフレキシブルプリント基板等の端子が、外部接続用端子と熱圧着されて絶縁層の破壊が発生した場合、金属膜パターンが端子間でのショートを発生させてしまうという問題があった。
【０００８】
この金属膜パターンによるショートの問題を解消するため、金属膜パターンに代わって、絶縁性の材料からなるパターンを用いることが考えられるが、絶縁性の材料からなるパターンは視認性が悪いという問題があった。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンによるショートを防止することができる表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる表示装置は、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であって、前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンは、該金属膜パターンの基部となる長方形状のパターン基部を有し、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記各金属膜パターンは、前記外部接続端子と同層に形成されることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記金属膜パターンは、近傍に集約して並設させた複数の前記金属膜パターンからなる金属膜パターン群ごとに配置されることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記金属膜パターン群は、前記注入口部の各側部近傍に二箇所ずつ配置されることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる表示装置は、上記の発明において、前記各金属膜パターンは、前記前記外部接続端子に比して間隔をあけて並設されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明にかかる表示装置は、前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンが、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなるので、前記表示パネル内の流体を封止する封止材の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンによるショートを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の実施の形態にかかる表示装置の模式図である。
【図２】図２は、図１に示した表示装置の一部断面を示した要部拡大側面図である。
【図３】図３は、図１に示した表示パネルの表示領域の要部断面図である。
【図４】図４は、図１に示した表示パネルの製造に用いられる大型貼り合わせ基板の模式図である。
【図５】図５は、図４に示した大型貼り合わせ基板の要部拡大図である。
【図６】図６は、図１に示した金属膜パターンの拡大図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態の変形例１の金属膜パターンを示した図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態の変形例２の金属膜パターンを示した図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態の変形例３の金属膜パターンを示した図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態の変形例４の金属膜パターンを示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明にかかる表示装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【００１８】
（実施の形態）
図１は、本発明の実施の形態にかかる表示装置１の模式図である。図２は、図１に示した表示装置１の一部断面を示した要部拡大側面図である。
本発明の実施の形態にかかる表示装置１は、表示パネル１０内の流体を封止する封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターン３０を有してなるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。この表示装置１は、表示パネル１０と、フレキシブルプリント基板ＦＰＣと、不図示の制御部とを有してなる。
【００１９】
まず、表示パネル１０について説明する。
表示パネル１０は、液晶材ＬＣの注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなるシール部２３を間にして貼り合わされた貼り合せ基板１１を有してなる。
貼り合せ基板１１は、より具体的には、長方形状のＴＦＴ基板２０、および短辺の長さがＴＦＴ基板２０の短辺の長さとほぼ等しく長辺の長さがＴＦＴ基板２０の長辺の長さに比して短い長方形状のＣＦ基板５０を有し、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０とが液晶材ＬＣを間に挟持して対向配置されている。また、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との寸法の差によってＴＦＴ基板２０にはＣＦ基板５０と重畳しない領域（以下、非重畳領域ＡＲ２という。）が設けられるようになっている。
【００２０】
ＴＦＴ基板２０は、画素電極ＰＸ、薄膜トランジスタＴＦＴ等を有してなる基板である。
このＴＦＴ基板２０は、端子部２１、駆動回路２２、シール部２３、および複数の金属膜パターン３０を有してなる。
【００２１】
端子部２１は、非重畳領域ＡＲ２に設けられ、複数の外部接続用端子２４を有してなる。各外部接続用端子２４は、表示パネル１０に外付けされる回路からの信号や電力を表示パネル１０内に取り込む端子である。これら各外部接続用端子２４は、長方形状の基部２４ａを有し、基部２４ａの短手方向に並設されている。
この実施の形態では、各外部接続用端子２４は、フレキシブルプリント基板ＦＰＣの各接続端子６０と電気的かつ機械的に接続され、フレキシブルプリント基板ＦＰＣを介して供給された信号や電力を表示パネル１０内に取りこむ。
【００２２】
駆動回路２２は、非重畳領域ＡＲ２に設けられ、端子部２１を介して表示パネル１０内に取りこまれた映像信号、走査信号に基づいて後述するゲート信号線ＧＬ、ドレイン信号線ＤＬを駆動するものである。なお、フレキシブルプリント基板ＦＰＣから複数の画素の対向電極ＣＴに供給される基準電圧は、駆動回路２２を介さずに外部接続用端子２４から直接印加されるようになっている。
シール部２３は、熱硬化性の樹脂からなり、貼り合わせ対象となるＣＦ基板５０の外形形状に沿うようにＴＦＴ基板２０上に額縁状に形成される。このシール部２３は、液晶材ＬＣの注入口２３ｂが形成された注入口部２３ａを有してなる。このようなシール部２３は、注入口２３ｂから注入された液晶材ＬＣをＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との間に保持するとともに、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０とを接着する機能をなしている。なお、シール部２３は、ＣＦ基板５０に形成されるようにしてもよい。
【００２３】
金属膜パターン３０は、封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターンであり、端子部２１と同層の金属膜によって形成されてなる。なお、この金属膜パターン３０については、後段にてさらに詳細に説明する。
【００２４】
液晶材ＬＣは、シール部２３の注入口２３ｂから注入され、樹脂等からなる封止材９０によって注入口２３ｂが塞がれることによって、ＴＦＴ基板２０とＣＦ基板５０との間に保持される。
また、表示パネル１０は、複数のゲート信号線ＧＬおよび複数のドレイン信号線ＤＬを有する。ゲート信号線ＧＬは、ＴＦＴ基板２０の表示領域ＡＲ１における液晶材ＬＣ側の面に図中Ｘ方向に延在し、Ｙ方向に並設されている。ドレイン信号線ＤＬは、ゲート信号線ＧＬと絶縁されて図中Ｙ方向に延在し、Ｘ方向に並設されている。これら各信号線ＧＬ，ＤＬによって囲まれた各領域がそれぞれ画素領域となる。各ゲート信号線ＧＬおよび各ドレイン信号線ＤＬは、その一端がシール部２３を超えて延在され、駆動回路２２に接続されている。
【００２５】
次に、フレキシブルプリント基板ＦＰＣについて説明する。
フレキシブルプリント基板ＦＰＣは、表示パネル１０と、不図示の制御部とを接続する回路基板で、各外部接続用端子２４に電気的、かつ機械的に接続される複数の接続端子６０を有してなる。この接続端子６０は、外部接続用端子２４に対応して形成されてなり、図２に示すように、異方性導電膜ＡＣＦを介して外部接続用端子２４に接続される。なお、接続端子６０と外部接続用端子２４とを接続させる際、接続端子６０と外部接続用端子２４とが異方性導電膜ＡＣＦを介して熱圧着される。
【００２６】
不図示の制御部は、ＣＰＵ等によって実現され、表示装置１の各部と電気的に接続され、表示装置１全体の動作を制御する。また、この不図示の制御部は、外部システムから入力された映像データを一時的に保持する図示しないメモリ等を有してなる。
【００２７】
次に、図３を用いて表示パネル１０の断面構成について説明する。図３は、図１に示した表示パネル１０の表示領域ＡＲ１の要部断面図である。
まず、ＴＦＴ基板２０の断面について説明する。ＴＦＴ基板２０は、ガラス等からなる透明な基板である基板ＳＵＢ１の液晶材ＬＣ側の面に、金属材料からなるゲート信号線ＧＬが形成されている。
なお、このゲート信号線ＧＬを形成する際、ゲート信号線ＧＬと同じ金属膜によって外部接続用端子２４および金属膜パターン３０が形成される。
基板ＳＵＢ１の表面には、ゲート信号線ＧＬを含めて基板ＳＵＢ１の表面を被う絶縁膜ＧＩが形成される。この絶縁膜ＧＩは、窒化シリコン等の無機材料からなり、薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するものである。
【００２８】
絶縁膜ＧＩの液晶材ＬＣ側の面であってゲート信号線ＧＬの一部に重畳する薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域には、たとえばアモルファスシリコンからなる半導体層ＡＳが形成されている。薄膜トランジスタＴＦＴは、半導体層ＡＳの表面に、互いに対向配置されたドレイン電極ＤＴ、ソース電極ＳＴが形成されることによって、ゲート信号線ＧＬの一部をゲート電極とするトランジスタが構成されるようになっている。
【００２９】
ドレイン電極ＤＴは、ドレイン信号線ＤＬの一部を半導体層ＡＳの表面に延在させることにより形成される。すなわち、絶縁膜ＧＩの液晶材ＬＣ側の面にはドレイン信号線ＤＬが形成されている。また、ソース電極ＳＴは、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に形成される。ソース電極ＳＴは、半導体層ＡＳの形成領域を超えて画素領域に延在するパッド部ＰＤを有する。このパッド部ＰＤは画素電極ＰＸと電気的に接続される部分である。
また、ドレイン電極ＤＴ（ドレイン信号線ＤＬ）等の上面には有機材料からなる絶縁膜ＰＡＳが形成されている。
【００３０】
絶縁膜ＰＡＳの表面には、コモン信号線ＣＬが形成されている。このコモン信号線ＣＬは、対向電極ＣＴを兼備した構成となっている。コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性導電膜からなる。コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）等の上部には、無機材料からなる絶縁膜ＬＩが形成されている。
【００３１】
絶縁膜ＬＩの上面の各画素領域には、画素電極ＰＸが形成されている。絶縁膜ＬＩは、画素電極ＰＸと対向電極ＣＴとの間の絶縁膜として機能する。画素電極ＰＸは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性導電膜からなる。画素電極ＰＸは、絶縁膜ＬＩおよび絶縁膜ＰＡＳを貫通して形成されたスルーホールＴＨを介してソース電極ＳＴのパッド部ＰＤに電気的に接続されている。画素電極ＰＸ等の上部には、配向膜ＯＲＩ１が形成されている。配向膜ＯＲＩ１は、液晶材ＬＣの初期配向方向を決定するものである。
【００３２】
次に、ＣＦ基板５０について説明する。ＣＦ基板５０は、ガラス等からなる透明な基板である基板ＳＵＢ２の液晶材ＬＣ側の面に、遮光膜ＢＭ、着色膜ＣＦ、保護膜ＯＣ、配向膜ＯＲＩ２が順次形成されている基板である。遮光膜ＢＭは、黒色の樹脂からなり、着色膜ＣＦの間に配置される遮光膜である。
着色膜ＣＦは、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の三原色をもつ染料あるいは顔料を含んだ樹脂膜である。
保護膜ＯＣは、樹脂からなり、着色膜ＣＦの表面を保護するとともに表面を平坦化するための膜である。配向膜ＯＲＩ２は、液晶材ＬＣの初期配向方向を決定するものである。
【００３３】
次に、図４および図５を用いて表示パネル１０の製造に用いられる大型貼り合わせ基板１００について説明する。図４は、図１に示した表示パネル１０の製造に用いられる大型貼り合わせ基板１００の模式図である。図５は、図４に示した大型貼り合わせ基板１００の要部拡大図である。なお、図４中の記号Ｌ２で示す線は、非重畳領域ＡＲ２を形成するためのＣＦ基板の切断線である。
【００３４】
大型貼り合わせ基板１００は、製品取得率を向上するため、切断線Ｌ１によって複数の製品形成領域が区画され、各製品形成領域ＷＡにＴＦＴ基板２０がフルジャスト配置されてなるマルチＴＦＴ基板１１０と、各製品形成領域ＷＡにＣＦ基板５０がフルジャスト配置されてなるマルチＣＦ基板１２０とを、シール部２３を介して貼り合わせた基板である。なお、図５では、製品形成領域ＷＡが３行、３列で区画されるものを示したが、区画数はこれに限らず、その他の区画数であってもよい。
このような大型貼り合わせ基板１００は、図５に示すように、一つの製品形成領域ＷＡの注入口部２３ａの一部が隣接する製品形成領域ＷＡにはみ出して形成されることによって、製品取得率を向上している。このため、注入口部２３ａとともに上述の金属膜パターン３０の一部が端子部２１近傍に形成されることになる。
【００３５】
ここで金属膜パターン３０についてさらに詳細に説明する。図６は、図１に示した金属膜パターン３０の拡大図である。
金属膜パターン３０は、図６に示すように、金属膜パターン３０の基部となる長方形状のパターン基部３０ａを有してなる。この金属膜パターン３０ａは、短手方向中心位置Ｐが、外部接続用端子２４の基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅ｔ１が、同一の並び位置の外部接続用端子２４の基部２４ａの短手方向の幅ｔ２と等しく形成されてなる。
【００３６】
このような、金属膜パターン３０は、フレキシブルプリント基板ＦＰＣの接続端子６０が、外部接続端子２４に接続され、例えば、ＴＦＴ基板２０の絶縁層に破壊が発生したとしても、外部接続端子２４の間隔と等しい間隔を設けて配置されているため、ショートが発生し難いようになっている。
【００３７】
また、この実施の形態では、金属膜パターン３０は、視認性を考慮して、近傍に集約して並設させた３つの金属パターン３０からなる金属膜パターン群４０ごとに配置される。この金属膜パターン群４０は、注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されている。
これによって、図１に示すように、注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に配置された二箇所の金属膜パターン群４０の間に封止材９０の縁９０ａ，９０ｂが位置している場合、封止材９０の位置および寸法精度が規格内であると判断することができる。
【００３８】
本発明の実施の形態の表示装置１は、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０が、パターン基部３０ａの短手方向中心位置が、基部２４ａの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部３０ａの短手方向の幅が、同一の並び位置の基部２４ａの短手方向の幅以下に形成されてなるので、表示パネル１０内の液晶材ＬＣを封止する封止材９０の位置および寸法精度確認用の金属膜パターン３０によるショートを防止することができる。
【００３９】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、複数の金属膜パターン３０の各金属膜パターン３０が、外部接続端子２４と同層に形成されるので金属膜パターンを容易に形成することができる。
【００４０】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、金属膜パターン３０が、近傍に集約して並設させた複数の金属膜パターン３０からなる金属膜パターン群４０ごとに配置されるので、良好な視認性を確保することができる。
【００４１】
また、本発明の実施の形態の表示装置１は、金属膜パターン群４０が注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されるので、封止材９０の縁のあるべき位置を容易に確認することができ、結果的に封止材９０の位置および寸法精度確認を容易に行うことができる。
【００４２】
（変形例１）
ここで、図７を用いて本発明の実施の形態の変形例１について説明する。図７は、本発明の実施の形態の変形例１の金属膜パターン７０を示した図である。
この変形例１の金属膜パターン７０は、パターン基部７０ａの短手方向中心位置の間隔が基部の短手方向中心位置の間隔と等しくなるように並設され、パターン基部７０ａの短手方向の幅ｔ１が基部２４ａの短手方向の幅ｔ２より小さく形成されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例１の金属膜パターン７０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン７０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、パターン基部７０ａの短手方向の幅は、視認性を低下させない程度の幅に設定するとよい。
【００４３】
（変形例２）
次に、図８を用いて本発明の実施の形態の変形例２について説明する。図８は、本発明の実施の形態の変形例２の金属膜パターン３０を示した図である。
この変形例２の金属膜パターン３０は、並設された外部接続用端子２４を一つ分空けて三つの金属膜パターン３０が並設されることによって金属膜パターン群４１を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例２の金属膜パターン３０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されている部分があるので、金属膜パターン３０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。
【００４４】
（変形例３）
次に、図９を用いて本発明の実施の形態の変形例３について説明する。図９は、本発明の実施の形態の変形例３の金属膜パターン３０を示した図である。
この変形例３の金属膜パターン３０は、並設された外部接続用端子２４を一つ分空けて二つの金属膜パターン３０が並設されることによって金属膜パターン群４２を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例３の金属膜パターン３０は、外部接続端子２４に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン３０によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、金属膜パターン３０の間隔は、視認性を低下させない程度の間隔に設定するとよい。
【００４５】
（変形例４）
次に、図１０を用いて本発明の実施の形態の変形例４について説明する。図１０は、本発明の実施の形態の変形例４の金属膜パターン３０を示した図である。
この実施の形態では、金属膜パターン群４０が注入口部２３ａの各側部２３ａ１，２３ａ２近傍に二箇所ずつ配置されるものを例示したが、この変形例４では、注入口部２３ａの一方の側部２３ａ１近傍の三箇所に金属膜パターン群４０ａ，４０ｂ，４０ｃが配置され、他方の側部２３ａ２近傍には、二箇所に金属膜パターン群４０ｄ，４０ｅが配置されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例４の金属膜パターン４０は、金属膜パターン４０ｂと金属膜パターン４０ｃとの間、および金属膜パターン４０ｄと金属膜パターン４０ｅとの間で封止材９０の縁９０ａ，９０ｂの位置を確認するようになっている。また、金属膜パターン４０ａが、金属膜パターン４０ｂと金属膜パターン４０ｃ間を最初に検査することを示す表示となっている。
これにより、封止材９０の位置および寸法精度確認の作業手順の標準化が容易となる。
【００４６】
なお、この実施の形態では、金属膜パターン３０，７０を目視するものとして説明したが、これに限らず、検査装置を用いて封止材９０の位置および寸法精度の良否を判定するようにしてもよい。例えば、Ｘ線を透過させて金属膜パターン３０，７０を検出する装置を用いて封止材９０の位置および寸法精度の良否を判定するようにしてもよい。
【００４７】
また、本発明の実施の形態では表示装置１として、液晶表示装置を例示したが、これに限らない。すなわち、流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であればその他の表示装置であっても構わない。
【００４８】
また、本発明の実施の形態では、表示装置１がフレキシブルプリント基板ＦＰＣを有してなるものを例示したが、これに限らない。すなわち、外部接続用端子２４に電気的、機械的に接続される接続端子６０を有してなる回路基板であればその他のものを用いても構わない。例えば、フレキシブルプリント基板ＦＰＣに代わって、いわゆるリジッドフレキシブルプリント基板を用いてもよい。
【００４９】
以上、本発明者によってなされた発明を、上述した発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上述した発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１ 表示装置
１０ 表示パネル
１１ 貼り合わせ基板
２０ ＴＦＴ基板
２１ 端子部
２２ 駆動回路
２３ シール部
２３ａ 注入口部
２３ａ１、２３ａ２ 側部
２３ｂ 注入口
２４ 外部接続用端子
２４ａ 基部
３０、７０、 金属膜パターン
３０ａ、７０ａ パターン基部
４０、４１、４２ 金属膜パターン群
５０ ＣＦ基板
６０ 接続端子
９０ 封止材
９０ａ、９０ｂ 縁
１００ 大型貼り合わせ基板
１１０ マルチＴＦＴ基板
１２０ マルチＣＦ基板
ＰＸ 画素電極
ＴＦＴ 薄膜トランジスタ
ＬＣ 液晶材
ＡＲ２ 非重畳領域
ＡＲ１ 表示領域
ＦＰＣ フレキシブルプリント基板
ＣＴ 対向電極
ＧＬ ゲート信号線
ＤＬ ドレイン信号線
ＡＣＦ 異方性導電膜
ＳＵＢ１ 基板
ＧＩ 絶縁膜
ＡＳ 半導体層
ＤＴ ドレイン電極
ＳＴ ソース電極
ＰＤ パッド部
ＰＡＳ 絶縁膜
ＣＬ コモン信号線
ＬＩ 絶縁膜
ＴＨ スルーホール
ＯＲＩ１ 配向膜
ＳＵＢ２ 基板
ＢＭ 遮光膜
ＣＦ 着色膜
ＯＣ 保護膜
ＯＲＩ２ 配向膜
Ｌ１、Ｌ２ 切断線
ＷＡ 製品形成領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であって、
前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンは、
該金属膜パターンの基部となる長方形状のパターン基部を有し、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記各金属膜パターンは、
前記外部接続端子と同層に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記金属膜パターンは、
近傍に集約して並設させた複数の前記金属膜パターンからなる金属膜パターン群ごとに配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記金属膜パターン群は、
前記注入口部の各側部近傍に二箇所ずつ配置されることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記各金属膜パターンは、
前記前記外部接続端子に比して間隔をあけて並設されることを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の表示装置。
【請求項１】
流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状の基部を有し、該基部の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であって、
前記複数の金属膜パターンの各金属膜パターンは、
該金属膜パターンの基部となる長方形状のパターン基部を有し、前記パターン基部の短手方向中心位置が、前記基部の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記パターン基部の短手方向の幅が、同一の並び位置の前記基部の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記各金属膜パターンは、
前記外部接続端子と同層に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記金属膜パターンは、
近傍に集約して並設させた複数の前記金属膜パターンからなる金属膜パターン群ごとに配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記金属膜パターン群は、
前記注入口部の各側部近傍に二箇所ずつ配置されることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記各金属膜パターンは、
前記前記外部接続端子に比して間隔をあけて並設されることを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−１８９６５３（Ｐ２０１２−１８９６５３Ａ）
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５０９８９（Ｐ２０１１−５０９８９）
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社ジャパンディスプレイイースト (2,552)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社ジャパンディスプレイイースト (2,552)
【Ｆターム（参考）】
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